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Structure, Reactivity, and Models of the Silicon/Silicon Dioxide Interface

Structure, Reactivity, and Models of the Silicon/Silicon Dioxide Interface
硅/二氧化硅界面的结构、反应性和模型
批准号：
9596208
负责人：
Mark Banaszak Holl
金额：
$24.36万
依托单位：
Regents of the University of Michigan - Ann Arbor
依托单位国家：
美国
项目类别：
Continuing Grant
财政年份：
1995
资助国家：
美国
项目状态：
已结题
起止时间：
1995-07-01 至 1997-12-31
来源：
https://www.nsf.gov/awardsearch/showAward?AWD_ID=9596208&HistoricalAwards=false
关键词：
StructureReactivityModelsSiliconDioxide

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