Optical coatings by means of atomic layer deposition. Coating of subwavelength structured surfaces and adsorption of liquid crystals onto thin coatings.

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Im Rahmen des geplanten Forschungsprojektes werden dielektrische und metallische optische Beschichtungen mittels thermischer und plasma enhanced atomic layer deposition (ALD und PEALD) hergestellt. In situ-Ellipsometrie und Raman-Spektroskopie werden für eine gründliche Analyse und Verständnis des ALD-Prozesses durchgeführt. Diese Methoden liefern auch Auskunft über die Bildung erster Monolagen (seed layers) auf dem Substrat. Nanostrukturierte (sub wavelength structured) Substrate mit einer Periode wesentlich kleiner als die Wellenlänge des Lichtes werden mittels ALD beschichtet, um durch die Beschichtung verstärkte optische Eigenschaften (Form- Doppelbrechung, Resonanz- und Band-Lücken Effekte, künstliche Brechungsindices), zu erzielen. Durch die ALD-Beschichtung können innovative und effizientere Mikro- Optiken entwickelt werden. Eine Funktionalisierung von Polymersubstraten wird vorangetrieben, weil diese einfach strukturiert und leicht dotiert werden können. Eine weitere Richtung des Projektes befasst sich mit der Analyse der Adsorption von Flüssigkristallen an dünnen Schichten, mit der ALD-Beschichtung von Flüssigkristall- Nano-Aggregaten, und mit der Abstimmung der entsprechenden optischen Eigenschaften.