Optical coatings by means of atomic layer deposition. Coating of subwavelength structured surfaces and adsorption of liquid crystals onto thin coatings.
通过原子层沉积的光学镀膜。
基本信息
- 批准号:144037136
- 负责人:
- 金额:--
- 依托单位:
- 依托单位国家:德国
- 项目类别:Independent Junior Research Groups
- 财政年份:2010
- 资助国家:德国
- 起止时间:2009-12-31 至 2018-12-31
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
Im Rahmen des geplanten Forschungsprojektes werden dielektrische und metallische optische Beschichtungen mittels thermischer und plasma enhanced atomic layer deposition (ALD und PEALD) hergestellt. In situ-Ellipsometrie und Raman-Spektroskopie werden für eine gründliche Analyse und Verständnis des ALD-Prozesses durchgeführt. Diese Methoden liefern auch Auskunft über die Bildung erster Monolagen (seed layers) auf dem Substrat. Nanostrukturierte (sub wavelength structured) Substrate mit einer Periode wesentlich kleiner als die Wellenlänge des Lichtes werden mittels ALD beschichtet, um durch die Beschichtung verstärkte optische Eigenschaften (Form- Doppelbrechung, Resonanz- und Band-Lücken Effekte, künstliche Brechungsindices), zu erzielen. Durch die ALD-Beschichtung können innovative und effizientere Mikro- Optiken entwickelt werden. Eine Funktionalisierung von Polymersubstraten wird vorangetrieben, weil diese einfach strukturiert und leicht dotiert werden können. Eine weitere Richtung des Projektes befasst sich mit der Analyse der Adsorption von Flüssigkristallen an dünnen Schichten, mit der ALD-Beschichtung von Flüssigkristall- Nano-Aggregaten, und mit der Abstimmung der entsprechenden optischen Eigenschaften.
本文介绍了热敏和等离子体增强原子层沉积(ALD和PEALD)的研究进展。In - si - ellipsometrie and raman - spektroskie werden f<s:1> rine grnlich analysis and Verständnis des ALD-Prozesses durchgef<s:1> hrt。Diese Methoden liefern auch Auskunft <s:1> ber die Bildung erster monoolagen(种子层)of dem substrate。纳米结构(亚波长结构)衬底mit einer Periode wesentlich kleiner als die Wellenlänge des Lichtes werden mittels ALD beschichet, um durch die Beschichtung verstärkte optische Eigenschaften (Form- Doppelbrechung, Resonanz- und band - lken Effekte, k<e:1> nstliche Brechungsindices), zu erzielen。Durch die ALD-Beschichtung können创新和高效的Mikro- Optiken entwickelt werden。【关键词】高分子基质;泛功能化;泛功能化;研究进展:氟<s:1>硅晶与纳米晶体吸附分析、氟<s:1>硅晶与纳米聚集、光学特征粒子的研究。
项目成果
期刊论文数量(13)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
Growth of Atomic Layer Deposited Ruthenium and Its Optical Properties at Short Wavelengths Using Ru(EtCp)2 and Oxygen
使用 Ru(EtCp)2 和氧气生长原子层沉积钌及其短波长光学性质
- DOI:10.3390/coatings8110413
- 发表时间:2018
- 期刊:
- 影响因子:3.4
- 作者:R. Müller;L. Ghazaryan;P. Schenk;S. Wolleb;V. Beladiya;N. Kaiser;A. Tünnermann;A. Szeghalmi
- 通讯作者:A. Szeghalmi
Materials Pushing the Application Limits of Wire Grid Polarizers further into the Deep Ultraviolet Spectral Range
- DOI:10.1002/adom.201600250
- 发表时间:2016-11-01
- 期刊:
- 影响因子:9
- 作者:Siefke, Thomas;Kroker, Stefanie;Tuennermann, Andreas
- 通讯作者:Tuennermann, Andreas
On the Properties of Nanoporous SiO2 Films for Single Layer Antireflection Coating
- DOI:10.1002/adem.201801229
- 发表时间:2019-06-01
- 期刊:
- 影响因子:3.6
- 作者:Ghazaryan, Lilit;Sekman, Yusuf;Szeghalmi, Adriana
- 通讯作者:Szeghalmi, Adriana
Antireflection Coatings for Strongly Curved Glass Lenses by Atomic Layer Deposition
- DOI:10.3390/coatings7080118
- 发表时间:2017-08-01
- 期刊:
- 影响因子:3.4
- 作者:Pfeiffer,Kristin;Schulz,Ulrike;Szeghalmi,Adriana
- 通讯作者:Szeghalmi,Adriana
Antireflection Coating on PMMA Substrates by Atomic Layer Deposition
- DOI:10.3390/coatings10010064
- 发表时间:2020-01-01
- 期刊:
- 影响因子:3.4
- 作者:Paul, Pallabi;Pfeiffer, Kristin;Szeghalmi, Adriana
- 通讯作者:Szeghalmi, Adriana
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Dr. Adriana Viorica Szeghalmi其他文献
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