Steuerung von Ladungsträgerdynamik in SOI-Wellenleitern mittels BICMOS-Technologie

使用 BICMOS 技术控制 SOI 波导中的载流子动力学

基本信息

项目摘要

Im Projekt soll die Anwendbarkeit von IC-Technologien für elektronisch-photonische Integration und Fabrikation untersucht werden. Dabei steht die Steuerbarkeit von optischen Eigenschaften siliziumphotonischer Strukturen (insbesondere von Wellenleitern) mittels Ladungsträgerdynamik im Mittelpunkt der Arbeiten. Die Ladungsträgerdynamik (Ladungsträgerlebensdauer und Konzentration) soll mit-tels vielfältiger, in der Technologie integrierter Schaltungen angewandter Techniken (Implantation, Epitaxie, Gettering etc) beeinflusst werden. Die Untersuchungen erfolgen in einer modernen, qualifizierten BiCMOS-Linie am IHP. Die dort auch für Partner aus Universitäten, Forschungsinstituten und Firmen zur Verfügung gestellten IC-Technologien verfügen über minimale Strukturgrößen von 0.13μm und werden auf 200mm Substraten gefertigt. Basis für die Arbeiten ist die Umsetzung von SOI-Wellenleiterentwürfen unter Verwendung von 248nm-Lithografietechniken (Deep-UV oder DUV). Da die typischen kleinsten Strukturgrößen (Critical Dimensions, CD) für optische Bauelemente (Wellenleiter, Gitter, Koppler etc.) im Bereich 100-200 nm liegen und die Geometrien stark von elektronischen Anwendungen abweichen, sind hier Untersuchungen für die Ver-fahrensweise im Maskenlayout optischer Strukturen notwendig (insbesondere die Optical-Proximity Correction, OPC). Ebenso muss die Ätztechnologie im Hinblick auf minimale optische Verluste optimiert werden. Ein Ziel dabei ist, die Grenzen der optischen Lithografie (248 nm) für SOI Wellenleiter zu evaluieren, da die Anforderungen im Vergleich zur IC Standardtechnologie sehr verschieden sind. Die Kooperation mit dem Teilprojekt PB an der TU Berlin und anderen Teilprojekten der Forschergruppe ist dabei von zentraler Bedeutung, da optische Expertise im erforderlichen Umfang nicht am IHP vorhanden ist. In Zusammenarbeit werden die Bauelemente zum Studium von Ladungsträgereffekten realisiert, wie z.B. einfache Wellenleiter, Ringe, Interferometer oder Laserstrukturen. Die Untersuchungen am IHP konzentrieren sich auf die Realisierung solcher Bauelemente und die Prozessintegration in die entsprechenden Teilschrittmodule. In der Forschergruppe werden dann die Ladungsträgereffekte charakterisiert und die Korrelation mit Prozessabläufen und Parametern hergestellt.
在项目中,我们将采用集成电路技术、电子光电集成与制造技术。大北大学光学研究中心(insbesonere von Wellenleitern) mittelels Ladungsträgerdynamik。Die Ladungsträgerdynamik (Ladungsträgerlebensdauer und Konzentration) soll mit-tel vielfältiger, in der technology integrerter Schaltungen angewandter Techniken(着床、外延、吸光等)被注入werden。在更现代的,合格的BiCMOS-Linie IHP中,Die Untersuchungen。Die ort auch fr Partner aus Universitäten, Forschungsinstituten und Firmen zur verff<e:1> gung gestellten IC-Technologien verf<s:1> gen <e:1> ber minimale Strukturgrößen von 0.13μm und werden auf 200mm基板gefertitiz。基于<s:1>深度紫外光外光刻技术(Deep-UV oder DUV)。Da die typischen kleinsten Strukturgrößen(临界尺寸,CD); r optische Bauelemente (Wellenleiter, Gitter, Koppler等)im Bereich 100- 200nm liegen和die Geometrien stark von elektronischen Anwendungen abweichen;和her Untersuchungen f<e:1> r die Ver-fahrensweise im Maskenlayout optischer Strukturen notwenddig (insbesonere die Optical-Proximity Correction, OPC)。在Hinblick上,我们可以用最优化最优化的方法来实现最优化。[2] [1] [1] [2] [1] [1] [1] [1] [2] [1] [1] [1] [1] [1] [1] [1] [1] [1] [1] [1] [1] [1] [1] [1] [4]德国柏林工业大学与德国柏林工业大学合作,德国柏林工业大学与德国柏林工业大学合作,德国柏林工业大学与德国柏林工业大学合作,德国柏林工业大学与德国柏林工业大学合作,德国柏林工业大学与德国柏林工业大学合作。[1]在激光激光结构的研究中,激光激光结构的研究与应用。Die Untersuchungen am IHP konzentrieren sich auf Die Realisierung solcher Bauelemente和Die Prozessintegration in Die entsprechenden Teilschrittmodule。In der Forschergruppe werden dann die Ladungsträgereffekte characterterisiert and die correlation mit Prozessabläufen and Parametern hergestellt。

项目成果

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