CAREER: Process Engineering of Chemical Bath Deposition: A Soft Solution Route to Flexible Electronics

职业:化学浴沉积工艺工程:柔性电子产品的软解决方案路线

基本信息

  • 批准号:
    0348723
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 40万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    美国
  • 项目类别:
    Standard Grant
  • 财政年份:
    2004
  • 资助国家:
    美国
  • 起止时间:
    2004-01-15 至 2009-12-31
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

This CAREER grant combines research and educational initiatives in the area of microelectronics processing.Research:The research program focuses on fabrication of compound semiconductor devices on flexible polymeric substrates by low temperature processing technology. Most compound semiconductors have the advantage of higher intrinsic carrier mobility over amorphous silicon and organic semiconductors. Chemical bath deposition (CBD) is an aqueous solution-based film deposition technique with the capability to deposit epitaxial compound semiconductor layers at low temperatures. Fundamental understanding of the CBD process is limited. This project involves the development of experimental techniques for fundamental investigation of particle nucleation, growth, deposition and molecular level heterogeneous thin film growth mechanisms, and development of a n impinging flow CBD reactor to tailor thin film micro- and nanostructures. The impinging flow reactor takes advantage of the microreation technology to control nanoparticle size and distribution in the impinging fluxes. Successful implementation of this project will not only advance basic understanding of the CBD process for the fabrication of flexible semiconductor devices, it will also establish a new research tool for the fundamental investigation of particle formation and deposition characteristics of many solution-based processes. In addition, the impinging flow CBD reactor could lead to a new thin film deposition technique for nanofabrication.Broad Impact:Complementing the research plan is the PI's plan to develop laboratory modules based on the synthesis of the research literature and the his own research activities. He plans to use modern technical applications as example in learning the fundamentals - to this end he plans to develop a low cost transistor lab based on CBD and microcontact printing; develop chemical engineering educational modules based on microreaction technology; and continue developing and disseminating unit operations modules on microelectronics processing.
这项职业资助结合了微电子加工领域的研究和教育举措。研究:研究计划专注于通过低温加工技术在柔性聚合物基板上制造化合物半导体器件。与非晶硅和有机半导体相比,大多数化合物半导体具有更高的本征载流子迁移率的优势。化学浴沉积(CBD)是一种基于水溶液的薄膜沉积技术,具有在低温下沉积外延化合物半导体层的能力。对CBD过程的基本理解是有限的。该项目包括开发基础研究颗粒成核、生长、沉积和分子水平非均相薄膜生长机理的实验技术,以及开发用于定制薄膜微结构和纳米结构的n撞击流CBD反应器。撞击流反应器利用微反技术来控制纳米颗粒在撞击流量中的大小和分布。该项目的成功实施不仅将促进对柔性半导体器件制造的CBD工艺的基本了解,还将为许多基于溶液的工艺的颗粒形成和沉积特性的基础研究建立新的研究工具。此外,撞击流CBD反应器可能带来一种新的用于纳米研磨的薄膜沉积技术。广泛的影响:作为对研究计划的补充,PI计划在综合研究文献和他自己的研究活动的基础上开发实验室模块。他计划利用现代技术应用作为学习基础知识的范例-为此,他计划开发一个基于CBD和微接触印刷的低成本晶体管实验室;开发基于微反应技术的化学工程教学模块;并继续开发和传播微电子加工的单元操作模块。

项目成果

期刊论文数量(0)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)

数据更新时间:{{ journalArticles.updateTime }}

{{ item.title }}
{{ item.translation_title }}
  • DOI:
    {{ item.doi }}
  • 发表时间:
    {{ item.publish_year }}
  • 期刊:
  • 影响因子:
    {{ item.factor }}
  • 作者:
    {{ item.authors }}
  • 通讯作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ journalArticles.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ monograph.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ sciAawards.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ conferencePapers.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ patent.updateTime }}

Chih-hung Chang其他文献

Synthesis of Nanomaterials Using Continuous‐Flow Microreactors
Convergent synthesis of polyamide dendrimer using a continuous flow microreactor
  • DOI:
    10.1016/j.cej.2007.07.022
  • 发表时间:
    2008-01-15
  • 期刊:
  • 影响因子:
  • 作者:
    Shuhong Liu;Chih-hung Chang;Brian K. Paul;Vincent T. Remcho
  • 通讯作者:
    Vincent T. Remcho
Cadmium sulfide thin film deposition: A parametric study using microreactor-assisted chemical solution deposition
  • DOI:
    10.1016/j.solmat.2011.09.015
  • 发表时间:
    2012-01-01
  • 期刊:
  • 影响因子:
  • 作者:
    Sudhir Ramprasad;Yu-Wei Su;Chih-hung Chang;Brian K. Paul;Daniel R. Palo
  • 通讯作者:
    Daniel R. Palo
Insights on enhancing the adhesion of inkjet-printed europium-doped yttrium oxide by tailoring interfacial bonding environments
通过调整界面键合环境提高喷墨打印掺铕氧化钇附着力的见解
  • DOI:
    10.1016/j.matdes.2025.113810
  • 发表时间:
    2025-04-01
  • 期刊:
  • 影响因子:
    7.900
  • 作者:
    Yujuan He;Jeffrey A. Dhas;Kijoon Lee;Milad Ghayoor;V. Vinay K. Doddapaneni;Anton T. Escher;Somayeh Pasebani;Brian K. Paul;Chih-hung Chang
  • 通讯作者:
    Chih-hung Chang

Chih-hung Chang的其他文献

{{ item.title }}
{{ item.translation_title }}
  • DOI:
    {{ item.doi }}
  • 发表时间:
    {{ item.publish_year }}
  • 期刊:
  • 影响因子:
    {{ item.factor }}
  • 作者:
    {{ item.authors }}
  • 通讯作者:
    {{ item.author }}

{{ truncateString('Chih-hung Chang', 18)}}的其他基金

PFI-RP: Novel 3D Nanomaterial Printer for Additive Manufacturing of Multiscale Materials
PFI-RP:用于多尺度材料增材制造的新型 3D 纳米材料打印机
  • 批准号:
    1941262
  • 财政年份:
    2020
  • 资助金额:
    $ 40万
  • 项目类别:
    Standard Grant
I-Corps: Demonstration of Microreactor-Assisted Nanomaterials Deposition for Customer Discovery and Value Creation
I-Corps:用于客户发现和价值创造的微反应器辅助纳米材料沉积演示
  • 批准号:
    1439485
  • 财政年份:
    2014
  • 资助金额:
    $ 40万
  • 项目类别:
    Standard Grant
SNM: Physics Guided Innovation of Integrated Flash-Light-Sintering, Continuous Nanomaterial Synthesis and Roll-To-Roll Deposition Processes
SNM:集成闪光烧结、连续纳米材料合成和卷对卷沉积工艺的物理引导创新
  • 批准号:
    1449383
  • 财政年份:
    2014
  • 资助金额:
    $ 40万
  • 项目类别:
    Standard Grant
EAGER: Production of Nanoscale Solar Energy Materials using a Solar Microreactor
EAGER:利用太阳能微反应器生产纳米级太阳能材料
  • 批准号:
    1105061
  • 财政年份:
    2011
  • 资助金额:
    $ 40万
  • 项目类别:
    Standard Grant
NIRT: Whole-Cell Biosynthesis of Nanostructured Metal Oxide Semiconductors
NIRT:纳米结构金属氧化物半导体的全细胞生物合成
  • 批准号:
    0400648
  • 财政年份:
    2004
  • 资助金额:
    $ 40万
  • 项目类别:
    Standard Grant
SGER: Flexible Thin Film Transistors Using Low Temperature Chemical Bath Deposited Inorganic Semiconductors
SGER:使用低温化学浴沉积无机半导体的柔性薄膜晶体管
  • 批准号:
    0331515
  • 财政年份:
    2003
  • 资助金额:
    $ 40万
  • 项目类别:
    Standard Grant
Lab Based Unit Operations in Microelectronics Processing
微电子处理中基于实验室的单元操作
  • 批准号:
    0127175
  • 财政年份:
    2002
  • 资助金额:
    $ 40万
  • 项目类别:
    Standard Grant

相似国自然基金

Neural Process模型的多样化高保真技术研究
  • 批准号:
    62306326
  • 批准年份:
    2023
  • 资助金额:
    30 万元
  • 项目类别:
    青年科学基金项目
磁转动超新星爆发中weak r-process的关键核反应
  • 批准号:
    12375145
  • 批准年份:
    2023
  • 资助金额:
    52.00 万元
  • 项目类别:
    面上项目
多臂Bandit process中的Bayes非参数方法
  • 批准号:
    71771089
  • 批准年份:
    2017
  • 资助金额:
    48.0 万元
  • 项目类别:
    面上项目

相似海外基金

Smart Integration of Process Systems Engineering & Machine Learning for Improved Process Safety in Process Industries (PROSAFE)
过程系统工程智能集成
  • 批准号:
    EP/Y037111/1
  • 财政年份:
    2024
  • 资助金额:
    $ 40万
  • 项目类别:
    Research Grant
CDS&E/Collaborative Research: Local Gaussian Process Approaches for Predicting Jump Behaviors of Engineering Systems
CDS
  • 批准号:
    2420358
  • 财政年份:
    2024
  • 资助金额:
    $ 40万
  • 项目类别:
    Standard Grant
Understanding how microbial communities respond to design and process engineering in wastewater treatment
了解微生物群落如何响应废水处理中的设计和工艺工程
  • 批准号:
    BB/Y003314/1
  • 财政年份:
    2023
  • 资助金额:
    $ 40万
  • 项目类别:
    Research Grant
CAREER: Microstructural Engineering of Solid Composite Electrolytes through Process Manipulation
职业:通过工艺操纵进行固体复合电解质的微观结构工程
  • 批准号:
    2237878
  • 财政年份:
    2023
  • 资助金额:
    $ 40万
  • 项目类别:
    Standard Grant
Single-cell dynamic analysis to improve the biomanufacturing process for engineering of cell therapy products
单细胞动态分析可改善细胞治疗产品工程的生物制造工艺
  • 批准号:
    2310303
  • 财政年份:
    2023
  • 资助金额:
    $ 40万
  • 项目类别:
    Standard Grant
Novel Process Engineering Emissions Calculator
新型工艺工程排放计算器
  • 批准号:
    10045608
  • 财政年份:
    2022
  • 资助金额:
    $ 40万
  • 项目类别:
    Grant for R&D
Understanding the impact of the engineering environment on transient transfection and process scale-up
了解工程环境对瞬时转染和工艺放大的影响
  • 批准号:
    2734114
  • 财政年份:
    2022
  • 资助金额:
    $ 40万
  • 项目类别:
    Studentship
CDS&E/Collaborative Research: Local Gaussian Process Approaches for Predicting Jump Behaviors of Engineering Systems
CDS
  • 批准号:
    2152655
  • 财政年份:
    2022
  • 资助金额:
    $ 40万
  • 项目类别:
    Standard Grant
CDS&E/Collaborative Research: Local Gaussian Process Approaches for Predicting Jump Behaviors of Engineering Systems
CDS
  • 批准号:
    2152679
  • 财政年份:
    2022
  • 资助金额:
    $ 40万
  • 项目类别:
    Standard Grant
Study of innovative materials, structures engineering and packaging process for enhanced-sensitive and reliable label-free photonic sensors
研究增强灵敏且可靠的无标签光子传感器的创新材料、结构工程和封装工艺
  • 批准号:
    RGPIN-2018-05373
  • 财政年份:
    2022
  • 资助金额:
    $ 40万
  • 项目类别:
    Discovery Grants Program - Individual
{{ showInfoDetail.title }}

作者:{{ showInfoDetail.author }}

知道了