Chemische und physikalische Charakterisierung von Nanoschichtsystemen

Die chemischen Bindungen in Nanoschichten von Bor- und Siliziumcarbonitriden, Die in noosibirsk <s:1>有机化学研究所，Die in Fachgebiet分散festoffe der TU Darmstadt和der materials profunsanstalt (Institut fr Werkstoffkunde der TU Darmstadt) hergestellt werden, sollen mit Hilfe von NEXAFS， XPS和TEM-EELS untersucht und beestimmt werden。Während die NEXAFS-Messungen am BESSY II in Berlin durchgefhrt werden, können die XPS- und TEM-EELS-Untersuchungen im FB Material- und Geowissenschaften der TU Darmstadt erfolgen。德国达姆施塔特工业大学有机化学研究所，德国达姆施塔特工业大学生物化学研究所。3 .德国能源与环境研究所：德国能源与环境研究所：德国能源与环境研究所。[3]物理特性分析与问题分析Härte，化学特性分析与问题分析Stabilität，光学特性分析与问题分析与问题分析。Des Weiteren wind die Methodenentwicklung zur zerstörungsfreien Speziation von tiefer 5 nm vergrabenen Nanoschichten durch GIXRF与NEXAFS weitergefhrt的组合。二氧化钛（氧化物，氮化物）在纳米材料中的应用。在德国，德国是一个伟大的国家。überstöchiometrischen Bindungszuständen durch inplanationen mitingesclossen。Zur Entwicklung einer zuverlässigeren Quantifizierung der GIXRF-NEXAFS sollen - forderliche optische Konstanten durch Röntgenreflektometrie sowie Transmissionsuntersuchungen和geeigneten freitrgengenen folen的最佳估计werden。在berber<s:1> cksichtigung der f<s:1> r verschiene nanoschichenm spectretberbereich weicher Röntgenstrahlung相关吸收，吸收，吸收，吸收，吸收，吸收，吸收，吸收，吸收，吸收，吸收，吸收，吸收，吸收，吸收，吸收Einsatz eines wellenlängendispersiven闪烁光谱仪（WDS） zur Aufnahme hochauflösender Röntgenemissionsspektren客户端验证器GIXRF-NEXAFS-Quantifizierungsansätze。

Die chemischen Bindungen in Nanoschichten von Bor- und Siliziumcarbonitriden, die im Institut für Anorganische Chemie in Nowosibirsk, im Fachgebiet Disperse Feststoffe der TU Darmstadt und in der Materialprüfungsanstalt (Institut für Werkstoffkunde der TU Darmstadt) hergestellt werden, sollen mit Hilfe von NEXAFS, XPS und TEM-EELS untersucht und bestimmt werden. Während die NEXAFS-Messungen am BESSY II in Berlin durchgeführt werden, können die XPS- und TEM-EELS-Untersuchungen im FB Material- und Geowissenschaften der TU Darmstadt erfolgen. Dazu werden kommerziell erhältliche und im FG für Anorganische Chemie der TU Darmstadt synthetisierte Standardmaterialien als Vergleich herangezogen. Zur Absicherung der Ergebnisse sollen Modellierungen der NEXAFS-Spektren durchgeführt werden. Zur physikalischen Charakterisierung der Proben sollen deren Härte, chemische Stabilität, optische und elektrische Eigenschaften bestimmt werden. Des Weiteren wird die Methodenentwicklung zur zerstörungsfreien Speziation von tiefer als 5 nm vergrabenen Nanoschichten durch GIXRF in Kombination mit NEXAFS weitergeführt. Hierbei sollen die Bindungszustände verschiedener Titanverbindungen (Oxide, Nitride) in den vergrabenen Nanoschichten untersucht werden. Darin ist die Erzeugung von unter- bzw. überstöchiometrischen Bindungszuständen durch Implantationen mit eingeschlossen. Zur Entwicklung einer zuverlässigeren Quantifizierung der GIXRF-NEXAFS sollen erforderliche optische Konstanten durch Röntgenreflektometrie sowie Transmissionsuntersuchungen an geeigneten freitragenden Folien bestimmt werden. Unter Berücksichtigung der für vergrabene Nanoschichten im Spektralbereich weicher Röntgenstrahlung relevanten Absorptionseffekte werden Modellierungen der NEXAFS-Strukturen der verschiedenen vergrabenen Nanoschichten angestrebt. Der Einsatz eines wellenlängendispersiven Gitterspektrometers (WDS) zur Aufnahme hochauflösender Röntgenemissionsspektren dient der Verifikation der GIXRF-NEXAFS-Quantifizierungsansätze.