Chemische und physikalische Charakterisierung von Nanoschichtsystemen

在Nowosibirsk的Institut für Anorganische Chemie，im Fachgebiet Disperse Feststoffe der TU达姆施塔特和在Materialprüfungsanstalt（Institut für Werkstoffkunde der TU达姆施塔特）的硼和硅碳氮纳米管中的化学结合物都是韦尔登的，通过Hilfe von NEXAFS、XPS和TEM-ELS进行测试和韦尔登的。在柏林，通过韦尔登的NEXAFS-Messungen am BESSY II测试，在达姆施塔特技术研究中心的FB材料和地球物理学中对XPS- und TEM-EELS-Untersuchungen进行研究。韦尔登工业大学有机化学实验室达姆施塔特合成标准物质的FG。在韦尔登进行NEXAFS-Spektren的建模时，需要对结果进行分析。Zur physikalischen Charakterisierung der Proben sollen deren Härte，chemische Stabilität，optische und elektrische Eigenschaften bestimmt韦尔登. Des Weiteren wird die Methodenentwicklung zur zerstörungsfreien Speziation von tiefer als 5 nm vergrabenen Nanoschichten durch GIXRF in Combination mit NEXAFS weitergeführt. Hierbei sollen die Bindungszustände verzedener Titanverbindungen（Oxide，Nitride）in den vergrabenen Nanoschichten untersucht韦尔登.这是我们的第一次见面.通过植入术结合一种化学计量学。GIXRF-NEXAFS的量化研究必须通过Röntgenreflektometrie sowie Transmissionsuntersuchungen和geeigneten freitragenden Folien bestimmt韦尔登来实现光学常数。Unter Berücksichtigung der für vergrabene Nanoschichten im Spektrapreich weicher Röntgenstrahlung relevanten Absorptionseffekte韦尔登NEXAFS-结构模型用于计算Nanoschichten angestrebt。Der Einsteines wellenlängendemissiven Gitter spektrometers（WDS）zur Aufnahme hochauflösender Röntgenemissionsspektren dient der Verifikation der GIXRF-NEXAFS-Quantifizierungsansätze.

Die chemischen Bindungen in Nanoschichten von Bor- und Siliziumcarbonitriden, die im Institut für Anorganische Chemie in Nowosibirsk, im Fachgebiet Disperse Feststoffe der TU Darmstadt und in der Materialprüfungsanstalt (Institut für Werkstoffkunde der TU Darmstadt) hergestellt werden, sollen mit Hilfe von NEXAFS, XPS und TEM-EELS untersucht und bestimmt werden. Während die NEXAFS-Messungen am BESSY II in Berlin durchgeführt werden, können die XPS- und TEM-EELS-Untersuchungen im FB Material- und Geowissenschaften der TU Darmstadt erfolgen. Dazu werden kommerziell erhältliche und im FG für Anorganische Chemie der TU Darmstadt synthetisierte Standardmaterialien als Vergleich herangezogen. Zur Absicherung der Ergebnisse sollen Modellierungen der NEXAFS-Spektren durchgeführt werden. Zur physikalischen Charakterisierung der Proben sollen deren Härte, chemische Stabilität, optische und elektrische Eigenschaften bestimmt werden. Des Weiteren wird die Methodenentwicklung zur zerstörungsfreien Speziation von tiefer als 5 nm vergrabenen Nanoschichten durch GIXRF in Kombination mit NEXAFS weitergeführt. Hierbei sollen die Bindungszustände verschiedener Titanverbindungen (Oxide, Nitride) in den vergrabenen Nanoschichten untersucht werden. Darin ist die Erzeugung von unter- bzw. überstöchiometrischen Bindungszuständen durch Implantationen mit eingeschlossen. Zur Entwicklung einer zuverlässigeren Quantifizierung der GIXRF-NEXAFS sollen erforderliche optische Konstanten durch Röntgenreflektometrie sowie Transmissionsuntersuchungen an geeigneten freitragenden Folien bestimmt werden. Unter Berücksichtigung der für vergrabene Nanoschichten im Spektralbereich weicher Röntgenstrahlung relevanten Absorptionseffekte werden Modellierungen der NEXAFS-Strukturen der verschiedenen vergrabenen Nanoschichten angestrebt. Der Einsatz eines wellenlängendispersiven Gitterspektrometers (WDS) zur Aufnahme hochauflösender Röntgenemissionsspektren dient der Verifikation der GIXRF-NEXAFS-Quantifizierungsansätze.