Bestimmung der chemischen Bindungen in Grenzschichten von Bor- und Siliziumcarbonitriden zum Substrat.

确定硼和碳氮化硅与基材边界层中的化学键。

• 批准号: 117370402
• 负责人: Dr. Burkhard Beckhoff
• 金额: --
• 依托单位: Arbeitsgruppe 7.24: Röntgenspektrometrie
• 依托单位国家: 德国
• 项目类别: Research Grants
• 财政年份: 2009
• 资助国家: 德国
• 起止时间: 2008-12-31 至 2012-12-31
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://gepris.dfg.de/gepris/projekt/117370402?language=en
• 关键词: Bestimmung; der; chemischen; Bindungen; Grenzschichten

Neben den chemischen Bindungen und Strukturen in Nanoschichten ist für deren physikalische Eigenschaften die chemische Bindung in der Grenzschicht zum Substrat von Bedeutung. Zur Untersuchung dieser Grenzschichten sollen Carbonitride auf sehr flachen Substraten erzeugt werden, mit denen eine Haftung durch Chemisorption (z.B. auf Al, Ti, Fe) zu erwarten ist, und auf „inerten“ Trägern (z.B. auf Si, Cu), mit denen schwache Bindungen durch Physisorption auftreten können. Für Untersuchungen der chemischen Bindungen sollen winkelabhängige GIXRF-NEXAFS-Messungen, d.h. Röntgenabsorptionsspektrometrie bei streifendem Einfall, bei der PTB am BESSY II und XPS-, SIMS- und TEM-Untersuchungen am Fachgebiet Chemische Analytik der TU Darmstadt durchgeführt werden. Als Weiterentwicklung der GIXRF-Technik sollen durch Multilagen modifizierte stehende Wellenfeldintensitäten die Sensitivität und Auflösung im Bereich der Grenzfläche verbessern. Zur Absicherung der Ergebnisse sollen Modellierungen der NEXAFS-Spektren durchgeführt werden. Anschließend sollen der Charakter der chemischen Bindungen und die physikalischen Eigenschaften korreliert werden.

Neben den Chemischen Bindungen and Strukturen in Nanoschichten ist für deren Physikalische Eigenschaften die Chemische Bindung in der Grizschicht zum Subducat von Bedeutung.化学吸附(z.bauf Al，Ti，Fe)zu erwarwarist，和auf“inten”Trägern(z.b.auf Si，Cu.)，MIT denen schache Bindungen duch Physisorption auftreten können.Für Untersuhugen der Chemischen Bindungen Sollen winkelabhängie GIXRF-NEXAFS-Messungen，D.H.吸收光谱包括光谱分析、X射线光电子能谱(XPS)、光电子能谱(SIMS)和透射电子显微镜(TU)。GIXRF-Technik Technik Sollen Dolch Multilgen difizierte Stehente Wellenfield dintenistäten die sensimo ität and Auflöung im Bereich der Grizfläche Veressern.NEXAFS-SPEKREN DUCHGEN DUCHGEFüHRT的Zur Absicherung der Ergebnisse Sollen Modellierungen der NEXAFS-Spektren duchgefüHRT。在这两种情况下，我们都能找到自己的特征和特征。

项目成果

Nondestructive and nonpreparative chemical nanometrology of internal material interfaces at tunable high information depths.

在可调的高信息深度下对内部材料界面进行非破坏性和非制备性化学纳米计量

• DOI: 10.1021/ac3024872
• 期刊: Analytical chemistry
• 影响因子: 7.4
• 作者: B. Pollakowski;P. Hoffmann;M. Kosinova;O. Baake;V. Trunova;R. Unterumsberger;W. Ensinger;B. Beckhoff
• 通讯作者: B. Beckhoff

Silicon carbonitride nanolayers - Synthesis and chemical characterization

• DOI: 10.1016/j.tsf.2012.04.082
• 发表时间: 2012-07
• 期刊: Thin Solid Films
• 影响因子: 2.1
• 作者: P. Hoffmann;N. Fainer;O. Baake;M. Kosinova;Y. Rumyantsev;V. Trunova;A. Klein;B. Pollakowski;B. Beckhoff;W. Ensinger

Chemical bonds and elemental compositions of BCxNy layers produced by chemical vapor deposition with trimethylamine borane, triethylamine borane, or trimethylborazine

• DOI: 10.1002/xrs.2387
• 发表时间: 2012-07
• 期刊: X-Ray Spectrometry
• 影响因子: 1.2
• 作者: P. Hoffmann;O. Baake;M. Kosinova;B. Beckhoff;A. Klein;B. Pollakowski;V. Trunova;V. Sulyaeva;F. A. Kuznetsov;W. Ensinger

Chemical interactions in the layered system BCxNy/Ni(Cu)/Si, produced by CVD at high temperature

高温 CVD 生产的 BCxNy/Ni(Cu)/Si 层状系统中的化学相互作用

• DOI: 10.1007/s00216-012-6177-2
• 发表时间: 2012
• 期刊: Analytical and Bioanalytical Chemistry
• 影响因子: 4.3
• 作者: P.S. Hoffmann;M.I. Kosinova;S. Flege;O. Baake;B. Pollakowski;V.A. Trunova;A. Klein;B. Beckhoff;F.A. Kuznetsov;W. Ensinger
• 通讯作者: W. Ensinger