Bestimmung der chemischen Bindungen in Grenzschichten von Bor- und Siliziumcarbonitriden zum Substrat.

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Neben den chemischen Bindungen und Strukturen in Nanoschichten ist für deren physikalische Eigenschaften die chemische Bindung in der Grenzschicht zum Substrat von Bedeutung. Zur Untersuchung dieser Grenzschichten sollen Carbonitride auf sehr flachen Substraten erzeugt werden, mit denen eine Haftung durch Chemisorption (z.B. auf Al, Ti, Fe) zu erwarten ist, und auf „inerten“ Trägern (z.B. auf Si, Cu), mit denen schwache Bindungen durch Physisorption auftreten können. Für Untersuchungen der chemischen Bindungen sollen winkelabhängige GIXRF-NEXAFS-Messungen, d.h. Röntgenabsorptionsspektrometrie bei streifendem Einfall, bei der PTB am BESSY II und XPS-, SIMS- und TEM-Untersuchungen am Fachgebiet Chemische Analytik der TU Darmstadt durchgeführt werden. Als Weiterentwicklung der GIXRF-Technik sollen durch Multilagen modifizierte stehende Wellenfeldintensitäten die Sensitivität und Auflösung im Bereich der Grenzfläche verbessern. Zur Absicherung der Ergebnisse sollen Modellierungen der NEXAFS-Spektren durchgeführt werden. Anschließend sollen der Charakter der chemischen Bindungen und die physikalischen Eigenschaften korreliert werden.