Lithographically controlled assembly and ALD coating of 2D and 3D porous structures for thermophotovoltaics and thermal barrier coatings. (C03)

用于热光伏和热障涂层的 2D 和 3D 多孔结构的光刻控制组装和 ALD 涂层。

• 批准号: 221133061
• 金额: --
• 依托单位: Institut für Metallische Werkstoffe
• 依托单位国家: 德国
• 项目类别: Collaborative Research Centres
• 财政年份: 2012
• 资助国家: 德国
• 起止时间: 2011-12-31 至 2015-12-31
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://gepris.dfg.de/gepris/projekt/221133061?language=en
• 关键词: Lithographically; controlled; assembly; ALD; coating

Zur Anwendung in der Thermophotovoltaik oder als thermische Barriereschichten sollen periodisch geordnete Nanostrukturen aus Metallen und Oxiden entwickelt werden. Mittels Interferenzlithographie werden großflächig strukturierte Oberflächen erzeugt, die die kontrollierte Assemblierung künstlicher Opale und die elektrochemische Oxidation von geordneten Al2O3-Membranen induzieren. Diese Trägerstrukturen sollen mittels ALD (von engl.: Atomic Layer Deposition, dt.: Atomlagenabscheidung) von Oxiden oder Metallen zu funktionalisierten photonischen Strukturen weiterverarbeitet werden, die erstmalig im gehobenen Temperaturbereich von 500 - 1200 °C erprobt werden sollen.

在热光伏或热阻挡层中，金属和氧化物纳米结构的周期性变化是很明显的。干涉光刻韦尔登主要用于制造表面粗糙的结构，控制乳白色的组装和对工业氧化铝膜的电化学氧化。Diese Trägerstrukturen sollen mittels ALD（von engl.：原子层沉积，dt.：在500 - 1200 °C的温度范围内，氧化物或金属的原子吸收（Atomlagenabscheidung）可以实现功能性的光子结构。