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Röntgendiffraktometer für Dünnschichtanalytik und Epitaxie

用于薄膜分析和外延生长的 X 射线衍射仪

基本信息

批准号：
234726205
负责人：
金额：
--
依托单位：
Universität Leipzig
依托单位国家：
德国
项目类别：
Major Research Instrumentation
财政年份：
2013
资助国家：
德国
起止时间：
2012-12-31 至无数据
项目状态：
未结题

来源：
https://gepris.dfg.de/gepris/projekt/234726205?language=en
关键词：
ntgendiffraktometer nnschichtanalytik und Epitaxie

项目摘要

Das Röntgendiffraktometer dient der Untersuchung der kristallinen Struktur von dünnen oxidischen Halbleiterfilmen (z. B. ZnO, MgO, GaN), dielektrischen Filmen (z. B. WO3, HfO2, Al2O3, SiN, SiOx), von magnetischen Halbleitern (wie ZnFe2O4, CoFe2O4), und von ferroelektrischen und multiferroischen Materialien (wie BaTiO3, BiFeO3). Ein herausragendes Merkmal der Röntgendiffraktometrie (X-ray diffraction XRD) ist die Möglichkeit, die Atomabstände in allen drei Raumrichtungen mit höchster Präzision zu messen. Mit Hilfe dieser Gitterkonstanten werden andere funktionale Materialeigenschaften deutlich besser verstanden. Bei kristallinen dünnen Filmen auf kristallinen Unterlagen können die vielfältigen Epitaxiebeziehungen von Film und Substrat untersucht werden. Die Röntgenreflektometrie (X-ray reflectometry XRR) erlaubt sehr präzise Aussagen zur Dicke, Dichte und Rauigkeit von nm-dünnen, auch amorphen Filmen. Durch röntgenografische Phasenanalyse kann die Wirksamkeit von Festkörperreaktionen für polykristalline Sinterkörper und Pulver überprüft werden, die als Ausgangsmaterial für die Dünnschicht-Abscheidung dienen. Die genannten Materialkombinationen stehen im Mittelpunkt der Forschungsaktivitäten im Sonderforschungsbereich 762 „Funktionalität Oxidischer Grenzflächen“, der Graduiertenschule „BuildMoNa“ und weiterer Projekte. Somit dient das Gerät auch der Studenten- (B.Sc. und M.Sc. Physik und IPSP) und der strukturierten Doktorandenausbildung.

Das Röntgendiffraktometer diffraktrode der Untersuchung der kristallinen Struktur von dünnen oxidischen Halbleiterfilmen（z. B。ZnO、MgO、GaN）、介电薄膜（dielektrischen Filmen）（z. B。WO 3、HfO 2、Al 2 O3、SiN、SiOx）、磁性Halbleitern（如ZnFe 2 O 4、CoFe 2 O 4）和铁电和多铁材料（如BaTiO 3、BiFeO 3）。X射线衍射仪（XRD）是一种具有最高精度的三个腔体中的金属和原子。我的工作是保证韦尔登，并使德国的功能材料性能更好。Bei kristallinen dünnen Filmen auf kristallinen Unterlagen können die vielfältigen Epitaxiebeziehungen von Film und Substrat untersucht韦尔登。X射线反射计（XRR）非常适用于迪凯、迪克特和纳米级的测量，也适用于非晶薄膜。通过相位分析，可以确定用于多晶烧结和粉化的Festkörperreaktionen的Wirksamkeit，以及用于Dünnschicht-Abscheidung dienen的Ausgangsmaterial。在762“Funktionalität Oxidischer Grenzflächen”Sonderforschungsbereich 762“Funktionalität Oxidischer Grenzflächen”的研究中心，"BuildMoNa”研究生院和其他项目中，有些学生也有兴趣（B.Sc.和M.Sc. Physik和IPSP）和结构性的博士和博士教育。