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Dediziertes Rastersondenmikroskop

Dediziertes Rastersondenmikroskop
专用扫描探针显微镜
批准号:
282631317
负责人:
金额:
$0.0万
依托单位国家:
德国
项目类别:
Major Research Instrumentation
财政年份:
2015
资助国家:
德国
项目状态:
未结题
起止时间:
2014-12-31 至 --

项目摘要

项目成果

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[4] [1] [1] [1] [1] [1] [1] [1] [1] [1] [1] [1] [1] [1] [1] [1] [1] [1] [1] [1] [1] [1] [4]德国科学与技术研究所,德国科学与技术研究所verstärken。die ist fgr die internationale Wettbewerbsfähigkeit in Bereich der Grundlagenforschung fgr new material dringend erforderlich;in Anbetracht der zunememederkomplereveen material and proproesse ist - e characterterisierung der Grenzflächen and darauf erzeugeter structurren im Realraum abdingbar。Mit der neuen apparatus werden Untersuchungen möglich sein, die hauptsächlich in berich der materialcharacterterisierung, der modimodivon Wachstumsprozessen and Grenzflächen angesiedelte。大足大学的主要研究对象是:温度显微镜、现代电子仪器、STM和AFM,分别为:möglichst生长温度显微镜和AFM,分别为120和500 K。一个FAU存在于kein vergleichbare Instrument。Die vorhandenen apparatus am Department Physik (AG Maier and AG Schneider) oder am Lehrstuhl des Antragstellers sind entweder tieftemperature - microskope (LHe) oder reine STM-Geräte mit stark eingeschränktem tematurbereich(最低温度<e:1> r in situ Messungen 200 K)。
英文摘要
Die Apparatur soll für verschiedene Forschungsvorhaben im Rahmen des Exzellenzclusters, des SFBs 953, der Forschergruppe FOR 1878 und in weiteren Kooperationen innerhalb der FAU eingesetzt werden. Die Anschaffung wird das Methodenarsenal des Lehrstuhls im Bereich der Rastersonden-Mikroskopie deutlich verstärken. Dies ist für die internationale Wettbewerbsfähigkeit im Bereich der Grundlagenforschung für neue Materialien dringend erforderlich; in Anbetracht der zunehmend komplexeren Materialien und Prozesse ist eine Charakterisierung der Grenzflächen und darauf erzeugter Strukturen im Realraum unabdingbar. Mit der neuen Apparatur werden Untersuchungen möglich sein, die hauptsächlich im Bereich der Materialcharakterisierung und der Modifikation von Wachstumsprozessen an Grenzflächen angesiedelt sind. Dazu ist bewusst kein Tieftemperaturmikroskop vorgesehen, sondern ein Instrument, mit dem sowohl mit STM als auch mit AFM ein möglichst großer Temperaturbereich zwischen 120 und 500 K in situ abgedeckt werden kann. An der FAU existiert kein vergleichbares Instrument. Die vorhandenen Apparaturen am Department Physik (AG Maier und AG Schneider) oder am Lehrstuhl des Antragstellers sind entweder Tieftemperatur-Mikroskope (LHe) oder reine STM-Geräte mit stark eingeschränktem Temperaturbereich (minimale Temperatur für in situ Messungen 200 K).
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