プラズマ支援パルスレーザー蒸着による高耐熱オールセラミックス黒色絶縁薄膜の開発

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本年度は、光吸収および高電気抵抗を担うセラミックス相の複合体を作製し、可視光全域で強く等しい吸収係数を示す黒色コーティング材料の開発を試みた。主に以下の2つの材料系に取り組み、以下の結果を得た。1)昨年度から引き続きAl(O,N)x-Ti(O,N)x系での黒色絶縁体開発を目指し、TiON相とAlON相が分相せず非晶質相として成膜されたTi-Al-O-N系薄膜について、①成膜温度の400 °Cから600 °Cへの増大、②後熱処理による分相を試みたが、複合体は作製されなかった。2)強い可視光吸収を示すLa0.6Sr0.4CoO3-δ(LSC)を光吸収相に採用し、高い電子伝導度を示す酸化物相との複合化を試みた。先行研究によりLSCとの複合体の作製が多数報告されているSm0.2Ce0.8O2-δを選択し、PLDにより成膜した。分相させるには、750 °C以上の熱処理が必要とXRD測定から示唆された。750 °C熱処理後の試料は、従来報告されている金属-酸化物系黒色絶縁膜の強度(40 μm^-1程度)には届かないが、可視光全域において6 μm^-1以上の吸収係数を示した。この試料では450 nm近傍を中心とするガウシアンピークが観測されたが、50-100 nm径のLSC粒子を誘電率3-8のマトリックスに分散させて有限差分時間領域法による電磁波計算(MEEPを使用)で算出された散乱断面積が可視広域にピークを持たず、プラズモン吸収による可視光吸収強度の増大は生じていないと示唆された。また、室温においてデジタルマルチメーターによる簡易抵抗測定からシート抵抗MΩ/sq.以上と示唆され、吸収強度は既報の金属-酸化物系黒色絶縁膜より劣るが、本研究の目標であるオールセラミックスの黒色絶縁体であった。