局所瞬時加熱によるCZTS/CdS結晶再成長メカニズムの解明
局所瞬時加熱によるCZTS/CdS結晶再成長メカニズムの解明
批准号:
21K04142
负责人:
島宗 洋介
金额:
$2.5万
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
财政年份:
2021
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2021-04-01 至 2024-03-31
中文摘要
点击翻译按钮获取中文摘要
英文摘要
CZTS化合物薄膜太陽電池の積層構造として、ソーダライムガラス基板/下部電極Mo/光吸収層CZTS/n型バッファーCdS/窓層Al-dope ZnOを形成し、表面から波長445nmのレーザーを照射した。レーザーパワーは66-220mW、レーザーヘッドモジュールのX方向への走査速度を50-100mm/min、Y方向への走査ピッチ距離を0.5mmとした。Z方向には試料表面とレーザーヘッド間距離を可変とし、試料表面でのレーザー光スポット径φを0.40-0.70mmとした。レーザー出力、X方向走査速度、レーザースポット径から、試料表面に入射するレーザー光の単位時間、単位面積当たりに入射するエネルギー密度(mJ/mm2sec)を求め、エネルギー密度0-220J/mm2secの範囲において、結晶状態および太陽電池特性を調べた。エネルギー密度126mJ/mm2secまでは、結晶状態と太陽電池特性に顕著な変化は見られなかった一方、エネルギー密度135-153mJ/mm2secの範囲において、X線回折でCZTS由来の回折スペクトルの強度増大と半値幅縮小、ならびに電子顕微鏡観察において結晶粒径が水平方向で大きくなっていることを確認した。さらに太陽電池特性では短絡電流密度が5.8mA/cm2から9.7-11.9mA/cm2に大きく改善した。これによりエネルギー変換効率が1.2%から1.9-2.8%に向上した。外部量子効率分析の結果、波長500-1000nmの領域で量子効率に改善が見られたことから、CZTS結晶再成長によりキャリア再結合中心となる結晶欠陥が低減されたと考えられる。一方、エネルギー密度220mJ/mm2secでは、CZTS/CdS界面での相互拡散が顕著に起り、pn接合を破壊する傾向が見られた。以上より、結晶欠陥低減による変換効率改善を実現する最適エネルギー密度の存在を明らかにした。
期刊论文(24)
专著(0)
科研奖励(0)
会议论文
登录
查看更多内容
酸化Mo の硫化によるCZTS 薄膜太陽電池性能変化
Mo氧化物硫化导致CZTS薄膜太阳能电池性能变化
DOI:
--
发表时间:
2022
期刊:
影响因子:
--
作者:
[Hironori Seki, Nitipon Puttaraksa, Hidetaka Hayashi, Ippei Yagi, Satoshi Uchida, Yasuyuki Ishii, Hiroyuki Nishikawa, 山之内 幹,神保 和夫,島宗 洋介]
通讯作者:
山之内 幹,神保 和夫,島宗 洋介
CZTS Solar Cell Fabrication by Robust Process Using Annealing
使用退火的稳健工艺制造 CZTS 太阳能电池
DOI:
--
发表时间:
2021
期刊:
影响因子:
--
作者:
[Nanako Mori, Kazuo Jimbo, Yosuke Shimamune]
通讯作者:
Yosuke Shimamune
Mo電極の硫化条件が与えるCZTS太陽電池への影響
Mo电极硫化条件对CZTS太阳能电池的影响
DOI:
--
发表时间:
2022
期刊:
影响因子:
--
作者:
[山之内幹, 神保和夫, 島宗洋介]
通讯作者:
島宗洋介
CZTS polycrystal formation by laser annealing and demonstration of solar cell fabrication
通过激光退火形成 CZTS 多晶以及太阳能电池制造演示
DOI:
10.35848/1347-4065/ac290d
发表时间:
2022
期刊:
Japanese Journal of Applied Physics
影响因子:
1.5
作者:
[Shimamune Yosuke, Inoue Shun, Jimbo Kazuo]
通讯作者:
Jimbo Kazuo
CZTS薄膜太陽電池のポストアニールによる特性変化
CZTS薄膜太阳能电池后退火引起的特性变化
DOI:
--
发表时间:
2022
期刊:
影响因子:
--
作者:
[島宗 洋介, 田巻 拓道, 神保 和夫]
通讯作者:
神保 和夫
共 19 条
4族半導体への原子層ドーピングと超格子デバイスに関する研究
-
批准号:99J01611
-
项目类别:Grant-in-Aid for JSPS Fellows
-
资助金额:$1.73万
-
财政年份:1999
-
负责人:島宗 洋介
-
依托单位:
海外基金