Control of Interface Fluctuation in Nitride Semiconductor Heterostructure and its Application to Quantum Optical Devices
Control of Interface Fluctuation in Nitride Semiconductor Heterostructure and its Application to Quantum Optical Devices
批准号:
19K15025
负责人:
Shojiki Kanako
金额:
$2.58万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Early-Career Scientists
财政年份:
2019
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2019-04-01 至 2022-03-31
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スパッタ・アニール法によるAlGaN薄膜の作製
溅射退火法制备AlGaN薄膜
DOI:
--
发表时间:
2020
期刊:
影响因子:
--
作者:
[窪谷 茂幸, 岩山 章, 上杉 謙次郎, 正直 花奈子, 則松 研二, 三宅 秀人]
通讯作者:
三宅 秀人
Threading Dislocation Reduction of Sputter-deposited AlN/sapphire by High-Temperature Annealing
通过高温退火减少溅射沉积 AlN/蓝宝石的螺纹位错
DOI:
--
发表时间:
2019
期刊:
影响因子:
--
作者:
[H. Miyake, K. Shojiki, K. Uesugi, S. Xiao, H. Koizumi, and S. Kuboya]
通讯作者:
and S. Kuboya
高温アニールスパッタAlN上にMOVPE成長させたAlNの陰極線蛍光評価(2)
高温退火溅射 AlN 上 MOVPE 生长 AlN 的阴极射线荧光评价(2)
DOI:
--
发表时间:
2020
期刊:
影响因子:
--
作者:
[粕谷 拓生, 嶋 紘平, 正直 花奈子, 上杉 謙次郎, 小島 一信, 上殿 明良, 三宅 秀人, 秩父 重英]
通讯作者:
秩父 重英
アニール処理スパッタAlN膜とn型AlGaN下地層がAlGaN多重量子井戸構造の光学特性に与える影響
退火溅射AlN薄膜和n型AlGaN底层对AlGaN多量子阱结构光学性能的影响
DOI:
--
发表时间:
2019
期刊:
影响因子:
--
作者:
[正直花奈子, 石井良太, 上杉謙次郎, 船戸充, 川上養分一, 三宅秀人]
通讯作者:
三宅秀人
230 nm遠紫外第二高調波発生に向けた横型擬似位相整合HfO2/AlN導波路の設計
用于230 nm远紫外二次谐波产生的水平准相位匹配HfO2/AlN波导设计
DOI:
--
发表时间:
2021
期刊:
影响因子:
--
作者:
[本田啓人, 梅田颯志, 正直花奈子, 三宅秀人, 上向井正裕, 谷川智之, 片山竜二]
通讯作者:
片山竜二
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