Fabrication of artificial multilayer using ferromagnetic oxide and its application to voltage-driven memory devices

铁磁氧化物人工多层膜的制备及其在电压驱动存储器件中的应用

基本信息

  • 批准号:
    19K15044
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 2.66万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Early-Career Scientists
  • 财政年份:
    2019
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2019-04-01 至 2021-03-31
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

项目成果

期刊论文数量(12)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
MnGa Film with (001) Texture Fabricated on Thermally Oxidized Si Substrate Using CoGa Buffer Layer
使用 CoGa 缓冲层在热氧化 Si 衬底上制作具有 (001) 织构的 MnGa 薄膜
MgO/Co/Pt積層膜における磁気異方性およびダンピング定数の電界効果
场效应对 MgO/Co/Pt 堆叠薄膜磁各向异性和阻尼常数的影响
  • DOI:
  • 发表时间:
    2020
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    砂古口藍子,大島大輝,岩田聡,加藤剛志
  • 通讯作者:
    砂古口藍子,大島大輝,岩田聡,加藤剛志
Thermally assisted STT switching of hybrid memory layer consisting of low TC CoPd/Pd and high TC Co/Pd multilayers
由低TC CoPd/Pd 和高TC Co/Pd 多层组成的混合存储层的热辅助STT 切换
  • DOI:
  • 发表时间:
    2020
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    W. Zhao;T. Kato;D. Oshima;Y. Sonobe;S. Takahashi;S. Iwata
  • 通讯作者:
    S. Iwata
Highly (001) oriented MnAl thin film fabricated on CoGa buffer layer
  • DOI:
    10.1063/1.5130452
  • 发表时间:
    2020-02
  • 期刊:
  • 影响因子:
    1.6
  • 作者:
    D. Oshima;T. Kato;S. Iwata
  • 通讯作者:
    D. Oshima;T. Kato;S. Iwata
Voltage control of spin Hall switching in perpendiculary magnetized MgO/Co/Pt trilayers
垂直磁化 MgO/Co/Pt 三层中自旋霍尔开关的电压控制
  • DOI:
  • 发表时间:
    2019
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    K. Kunishima;X. Zhou;D. Oshima;T. Kato;S. Iwata
  • 通讯作者:
    S. Iwata
{{ item.title }}
{{ item.translation_title }}
  • DOI:
    {{ item.doi }}
  • 发表时间:
    {{ item.publish_year }}
  • 期刊:
  • 影响因子:
    {{ item.factor }}
  • 作者:
    {{ item.authors }}
  • 通讯作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ journalArticles.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ monograph.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ sciAawards.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ conferencePapers.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ patent.updateTime }}

Oshima Daiki其他文献

Ion Irradiation for Planar Patterning of Magnetic Materials
磁性材料平面图案化的离子辐照
  • DOI:
    10.3390/cryst9010027
  • 发表时间:
    2019
  • 期刊:
  • 影响因子:
    2.7
  • 作者:
    Kato Takeshi;Oshima Daiki;Iwata Satoshi
  • 通讯作者:
    Iwata Satoshi
Femtosecond resonant magneto-optical Kerr effect measurement on an ultrathin magnetic film in a soft X-ray free electron laser
软 X 射线自由电子激光器中超薄磁性薄膜的飞秒共振磁光克尔效应测量
  • DOI:
    10.7567/jjap.57.09td02
  • 发表时间:
    2018
  • 期刊:
  • 影响因子:
    1.5
  • 作者:
    Yamamoto Shingo;Kubota Yuya;Yamamoto Kohei;Takahashi Yoshinobu;Maruyama Kohei;Suzuki Yuta;Hobara Rei;Fujisawa Masami;Oshima Daiki;Owada Shigeki;Togashi Tadashi;Tono Kensuke;Yabashi Makina;Hirata Yasuyuki;Yamamoto Susumu;Kotsugi Masato;Wadati Hiroki;Kato T
  • 通讯作者:
    Kato T
ミリ波最小冗長度MIMO仮想アレーレーダによる屋内人物検出に関する実験的検討
毫米波最小冗余MIMO虚拟阵列雷达室内人体检测实验研究
  • DOI:
  • 发表时间:
    2019
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Kato Takeshi;Oshima Daiki;Iwata Satoshi;堀内貴裕,山田寛喜
  • 通讯作者:
    堀内貴裕,山田寛喜
On DOA Estimation Error of Moving Target by Using TDM-MIMO Radar
TDM-MIMO雷达运动目标DOA估计误差研究
  • DOI:
    10.14923/transcomj.2017wfp0001
  • 发表时间:
    2018
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Kimura Takumi;Dong Xiayin;Adachi Kanta;Oshima Daiki;Kato Takeshi;Sonobe Yoshiaki;Okamoto Satoshi;Kikuchi Nobuaki;Kawato Yoshiaki;Kitakami Osamu;Iwata Satoshi;大橋 卓,山田 寛喜,山口 芳雄
  • 通讯作者:
    大橋 卓,山田 寛喜,山口 芳雄
Spin transfer torque switching of Co/Pd multilayers and Gilbert damping of Co-based multilayers
Co/Pd 多层膜的自旋转移矩切换和 Co 基多层膜的吉尔伯特阻尼
  • DOI:
    10.7567/jjap.57.09td01
  • 发表时间:
    2018
  • 期刊:
  • 影响因子:
    1.5
  • 作者:
    Kimura Takumi;Dong Xiayin;Adachi Kanta;Oshima Daiki;Kato Takeshi;Sonobe Yoshiaki;Okamoto Satoshi;Kikuchi Nobuaki;Kawato Yoshiaki;Kitakami Osamu;Iwata Satoshi
  • 通讯作者:
    Iwata Satoshi

Oshima Daiki的其他文献

{{ item.title }}
{{ item.translation_title }}
  • DOI:
    {{ item.doi }}
  • 发表时间:
    {{ item.publish_year }}
  • 期刊:
  • 影响因子:
    {{ item.factor }}
  • 作者:
    {{ item.authors }}
  • 通讯作者:
    {{ item.author }}

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    2007
  • 资助金额:
    $ 2.66万
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    Grant-in-Aid for Exploratory Research
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    18760507
  • 财政年份:
    2006
  • 资助金额:
    $ 2.66万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
電圧印加によるシリコン表面の親疎水変化を利用したマイクロ/ナノアクチュエータ
利用硅表面因施加电压而发生亲水和疏水变化的微/纳米致动器
  • 批准号:
    15686008
  • 财政年份:
    2003
  • 资助金额:
    $ 2.66万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Young Scientists (A)
電圧印加に伴う金属/ガラス界面での物質移動と界面組織の変化
由于施加电压而导致金属/玻璃界面处的传质和界面结构发生变化
  • 批准号:
    14750587
  • 财政年份:
    2002
  • 资助金额:
    $ 2.66万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
電圧印加エピタキシャル成長法による分子配向制御法の開発
开发利用电压外延生长法的分子取向控制方法
  • 批准号:
    09750017
  • 财政年份:
    1997
  • 资助金额:
    $ 2.66万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
{{ showInfoDetail.title }}

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