Photoelektronenspektrometer mit Röntgen- und Ultraviolettlichtquelle (XPS/UPS)

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Mit Hilfe der Röntgen- und Ultraviolettlicht Photoelektronenspektroskopie (XPS/UPS) können chemische und elektronische Eigenschaften von Oberflächen quantitativ untersucht werden. Eine solche Technik ist an der Universität Bayreuth nicht vorhanden, so dass relevante Messungen nur eingeschränkt außerhalb stattfinden können. Von vielen Forschungsgruppen im Bereich der Polymer- und Kolloidwissenschaften und Materialwissenschaften besteht konkreter Bedarf an einem XPS/UPS Gerät. Die integrierte Clusterionensputterquelle ermöglicht zudem das kontrollierte Abtragen von einzelnen Schichten, so dass Tiefenprofile einer Probe erstellt werden können. Die Elementanalyse (z.B. Stöchiometrie von Verbundhalbleitern) als auch die Analyse der elektronischen Struktur (z.B. Austrittsarbeit und Ionisierungspotential) spielt eine große Rolle in laufenden Projekten (z.B. SFB840, Verbundprojekt Solartechnologies Go Hybrid) und beantragten Projekten, die sich mit elektronischen Materialien, der Morphologie von Polymerblends, Oberflächenfunktionalisierung und der Entwicklung neuer Kathalysatoren beschäftigen. Das XPS/UPS Gerät wird Bestandteil des Keylabs "Device Engineering", einer Untereinheiten des Bayerischen Polymer Instituts (BPI) und ist fakultätsübergreifend zugänglich für Wissenschaftler der Fachgebiete Chemie, Physik und Ingenieurwissenschaften.