Establishment of Technology for Nanostructured Thin-film Fabrication by Glancing-angle Deposition in Reactive Plasma Environments
Establishment of Technology for Nanostructured Thin-film Fabrication by Glancing-angle Deposition in Reactive Plasma Environments
反应等离子体环境中掠角沉积纳米结构薄膜技术的建立
批准号：
20K05064
负责人：
Inoue Yasushi
金额：
$2.75万
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
财政年份：
2020
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2020-04-01 至 2023-03-31
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Fabrication of SiO:CH Particle-agglomerated Films by PECVD with Vinyl-group Organosilicon Reactants
用乙烯基有机硅反应物通过 PECVD 制备 SiO:CH 颗粒团聚薄膜
用乙烯基有机硅反应物通过 PECVD 制备 SiO:CH 颗粒团聚薄膜
DOI：
10.2494/photopolymer.35.283
发表时间：
2022
期刊：
Journal of Photopolymer Science and Technology
影响因子：
0.8
作者：
[Yuki Nakaizumi, K. Hasegawa, Yasushi Inoue, Osamu Takai]
通讯作者：
Osamu Takai
斜入射スパッタリング法により作製した SnO2 薄膜のガスセンシング特性
斜入射溅射法制备SnO2薄膜的气敏特性
斜入射溅射法制备SnO2薄膜的气敏特性
DOI：
--
发表时间：
2022
期刊：
影响因子：
--
作者：
[Keita Miyasaka, Yasushi Inoue and Osamu Takai, 冨永 侑歩, 高橋昂暉，宮崎秀俊，木村耕治，西野洋一，林 好一, 古賀詩悠，赤嶺大志，板倉 賢，西田 稔，古澤皐平，小池邦博，加藤宏朗, 亀田 悠真，井上 泰志，高井 治]
通讯作者：
亀田 悠真，井上 泰志，高井 治
Effects of Deposition Temperature on Properties of InN Film Fabricated by Glancing-angle Reactive Evaporation
沉积温度对掠射角反应蒸发InN薄膜性能的影响
沉积温度对掠射角反应蒸发InN薄膜性能的影响
DOI：
--
发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
--
作者：
[Takahiro Tanaka, Daisuke Hoshi, Kazuya Murata, Yasushi Inoue, Osamu Takai]
通讯作者：
Osamu Takai
DOI：
--
发表时间：
2021
期刊：
Mater. Sci. Technol. Jpn.
影响因子：
--
作者：
[Yasushi INOUE, Osamu TAKAI]
通讯作者：
Osamu TAKAI
Effect of Volumetric Mass Density on EC Properties of Sputtered WO3 Films
体积质量密度对溅射 WO3 薄膜 EC 性能的影响
体积质量密度对溅射 WO3 薄膜 EC 性能的影响
DOI：
--
发表时间：
2022
期刊：
影响因子：
--
作者：
[H. Tano, Y. Inoue and O. Takai]
通讯作者：
Y. Inoue and O. Takai
共 26 条
Study on influence of a Chinese literature in Edo period middle term novels
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批准号：26370265
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项目类别：Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
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资助金额：$1.75万
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财政年份：2014
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负责人：Inoue Yasushi
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依托单位：