Quantum-dots formation in a buried interface by external-electron-energy injection
Quantum-dots formation in a buried interface by external-electron-energy injection
通过外部电子能量注入在掩埋界面中形成量子点
批准号：
19K03694
负责人：
ENTA Yoshiharu
金额：
$2.75万
依托单位：
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
财政年份：
2019
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2019-04-01 至 2022-03-31
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電子線照射によるシリコン酸化膜の還元に伴う表面変形
通过电子束照射使氧化硅膜还原而导致表面变形
通过电子束照射使氧化硅膜还原而导致表面变形
DOI：
--
发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
--
作者：
[秋元恭汰, 藤森敬典, 遠田 義晴]
通讯作者：
遠田 義晴
窒素添加DLC膜特性へのアニール効果
退火对加氮DLC薄膜性能的影响
退火对加氮DLC薄膜性能的影响
DOI：
--
发表时间：
2020
期刊：
影响因子：
--
作者：
[長内公哉, 中村和樹, 郡山春人, 小林康之, 遠田義晴, 鈴木裕史, 中澤日出樹]
通讯作者：
中澤日出樹
DOI：
10.1016/j.tsf.2022.139100
发表时间：
2022-01
期刊：
Thin Solid Films
影响因子：
2.1
作者：
[Hiroya Osanai;Kazuki Nakamura;Yuya Sasaki;Haruto Koriyama;Yasuyuki Kobayashi;Y. Enta;Yu Suzuki;Maki Suemitsu;H. Nakazawa]
通讯作者：
Hiroya Osanai;Kazuki Nakamura;Yuya Sasaki;Haruto Koriyama;Yasuyuki Kobayashi;Y. Enta;Yu Suzuki;Maki Suemitsu;H. Nakazawa
青色Zr系金属ガラスの深さ元素分析による高濃度Cu層の存在
蓝色Zr基金属玻璃深度元素分析表明高浓度Cu层的存在
蓝色Zr基金属玻璃深度元素分析表明高浓度Cu层的存在
DOI：
--
发表时间：
2022
期刊：
影响因子：
--
作者：
[増田悠右, 工藤竜太, 遠田義晴, 富樫望]
通讯作者：
富樫望
ポストアニールが窒素添加DLC膜特性に及ぼす効果
后退火对氮掺杂DLC薄膜性能的影响
后退火对氮掺杂DLC薄膜性能的影响
DOI：
--
发表时间：
2020
期刊：
影响因子：
--
作者：
[長内公哉, 中村和樹, 小林康之, 遠田義晴, 鈴木裕史, 末光眞希, 中澤日出樹]
通讯作者：
中澤日出樹
共 26 条
Reaction mechanism of nano-scale silicon-insulator thin films by real-time observation
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批准号：21560321
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项目类别：Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
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资助金额：$3.08万
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财政年份：2009
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负责人：ENTA Yoshiharu
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依托单位：
In-situ Observation of Atomic Layr Epitaxy by Photoelectron Oscillation
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批准号：07650001
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项目类别：Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
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资助金额：$1.6万
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财政年份：1995
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负责人：ENTA Yoshiharu
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依托单位：
海外基金