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Clarification of ionization process on high power impulse magnetron sputtering

高功率脉冲磁控溅射电离过程的澄清

基本信息

批准号：
18K03602
负责人：
Ohta Takayuki
金额：
$ 2.83万
依托单位：
Meijo University
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
财政年份：
2018
资助国家：
日本
起止时间：
2018-04-01 至 2021-03-31
项目状态：
已结题

来源：
https://kaken.nii.ac.jp/en/grant/KAKENHI-PROJECT-18K03602/
关键词：
スパッタリングアモルファスカーボンイオンエネルギー質量分析イオンフラックス大電力パルススパッタリングダイヤモンドライクカーボンイオン化イオン化率ダイヤモンドライクカーボン膜薄膜コーティング

项目摘要

项目成果

期刊论文数量（41）

专著数量（0）

科研奖励数量（0）

会议论文数量（0）

专利数量（0）

Plasma Processing with Feedback Control of Wafer Temperature By Non-Contact Temperature Measurement System

通过非接触式温度测量系统对晶圆温度进行反馈控制的等离子体处理

DOI：
发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
0
作者：
T. Tsutsumi;H. Kondo;K. Ishikawa ;K. Takeda;T. Ohta;M. Sekine;M. Ito;and M. Hori
通讯作者：
and M. Hori

DLC成膜用カーボンHiPIMSのプラズマ診断(2)～パルス幅の効果

碳 HiPIMS 的等离子体诊断对 DLC 成膜的影响 (2) ~ 脉冲宽度的影响

DOI：
发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
0
作者：
太田　貴之，松島　丈;小田昭紀，上坂裕之
通讯作者：
小田昭紀，上坂裕之

Effect of Pulse Width on High Power Impulse Magnetron Sputtering for Deposition of Diamond-Like Carbon Thin Films

脉冲宽度对高功率脉冲磁控溅射沉积类金刚石碳薄膜的影响

DOI：
发表时间：
2020
期刊：
影响因子：
0
作者：
Jo Matsushima;Yuichi Murakami;Akinori Oda;Hiroyuki Kousaka and Takayuki Ohta
通讯作者：
Hiroyuki Kousaka and Takayuki Ohta

HiPIMSを用いたDLC成膜プロセスにおけるプラズマ診断と膜質評価～低摩擦化を目指して～

使用 HiPIMS 进行 DLC 成膜过程中的等离子体诊断和膜质量评价 - 以低摩擦为目标 -

DOI：
发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
0
作者：
太田貴之;松島丈;村上祐一;小田昭紀;上坂裕之;Michihisa Takeuchi;太田　貴之
通讯作者：
太田　貴之

Film property of diamond-like carbon deposited by magnetron sputtering

磁控溅射类金刚石碳薄膜性能

DOI：
发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
0
作者：
Jo Matsushima;Kazunori Iga;Akinori Oda;Hiroyuki Kousaka;and Takayuki Ohta
通讯作者：
and Takayuki Ohta

DOI：
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作者：
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Ohta Takayuki其他文献

ダブルパルスターゲット印加電圧を用いた大電力パルスマグネトロンカーボンスパッタリングにおけるイオンの解析

双脉冲靶施加电压高功率脉冲磁控碳溅射中的离子分析

DOI：
发表时间：
2022
期刊：
影响因子：
0
作者：
Hiro Kunieda;Akinori Oda;Kousaka Hiroyuki;Ohta Takayuki;國枝　滉，小田昭紀，上坂裕之，太田貴之
通讯作者：
國枝　滉，小田昭紀，上坂裕之，太田貴之

Noncontact measurement of substrate temperature by optical low-coherence interferometry in high-power pulsed magnetron sputtering

高功率脉冲磁控溅射中光学低相干干涉法非接触测量衬底温度

DOI：
10.7567/jjap.57.01ac03
发表时间：
2017
期刊：
Japanese Journal of Applied Physics
影响因子：
1.5
作者：
Hattori Katsuhiro;Ohta Takayuki;Oda Akinori;Kousaka Hiroyuki
通讯作者：
Kousaka Hiroyuki

Substrate Surrounding Type Magnetron Sputtering Equipment Comparison of HiPIMS and DCMS Drive

基板环绕式磁控溅射设备 HiPIMS 与 DCMS 驱动器比较

DOI：
10.1541/ieejfms.142.101
发表时间：
2022
期刊：
IEEJ Transactions on Fundamentals and Materials
影响因子：
0
作者：
Suematsu Kota;Kousaka Hiroyuki;Furuki Tatsuya;Shimizu Tetsuhide;Ohta Takayuki;Oda Akinori
通讯作者：
Oda Akinori

大電力パルスマグネトロンスパッタリングを用いたダイヤモンドライクカーボン成膜におけるXe ガスの効果

Xe气体对高功率脉冲磁控溅射类金刚石碳膜形成的影响

DOI：
发表时间：
2022
期刊：
影响因子：
0
作者：
Hiro Kunieda;Akinori Oda;Kousaka Hiroyuki;Ohta Takayuki;國枝　滉，小田昭紀，上坂裕之，太田貴之;武田恵太，小田昭紀，上坂裕之，太田貴之
通讯作者：
武田恵太，小田昭紀，上坂裕之，太田貴之

共同作業時の記銘に関わる神経機構

协作工作期间参与记忆的神经机制

DOI：
发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
0
作者：
Iwata Naoyuki;Gamaleev Vladislav;Oh Jun‐Seok;Ohta Takayuki;Hori Masaru;Ito Masafumi;北村光二;星野英一・徐鳴鏑・森本智志・皆川泰代
通讯作者：
星野英一・徐鳴鏑・森本智志・皆川泰代