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Two-dimensional characterization of an initial stage of the degradation of metal/semiconductor interfaces by using scanning internal photoemission microscopy with near-ultra-violet light

Two-dimensional characterization of an initial stage of the degradation of metal/semiconductor interfaces by using scanning internal photoemission microscopy with near-ultra-violet light
使用近紫外光扫描内部光电显微镜对金属/半导体界面退化的初始阶段进行二维表征
批准号:
18K04228
负责人:
Shiojima Kenji
金额:
$2.83万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
财政年份:
2018
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2018-04-01 至 2021-03-31

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DOI: 10.1016/j.cap.2020.02.006
发表时间: 2020-04-01
期刊: CURRENT APPLIED PHYSICS
影响因子: 2.4
作者: [Anindya, Khalid N., Islam, Md Sherajul, Hashimoto, Akihiro]
通讯作者: Hashimoto, Akihiro
Orientational Control of Initial Si Nuclei Growth on Epitaxial Graphene Substrate using AlN Multi-functional Intermediate Layer
使用AlN多功能中间层控制外延石墨烯衬底上初始硅核生长的取向
DOI: --
发表时间: 2018
期刊:
影响因子: --
作者: [T. Terai, D. Ishimaru, and A. Hashimoto]
通讯作者: and A. Hashimoto
極薄AlN中間層を用いたエピタキシャルグラフェン上Si薄膜成長
使用超薄 AlN 中间层在外延石墨烯上生长 Si 薄膜
DOI: --
发表时间: 2018
期刊:
影响因子: --
作者: [寺井汰至, 石丸大樹, 鎌田裕太, 竹内智哉, 橋本明弘]
通讯作者: 橋本明弘
界面顕微光応答法による表面処理の異なるAu/Ni/n-GaNショットキー電極の評価
使用界面微光响应方法评估不同表面处理的 Au/Ni/n-GaN 肖特基电极
DOI: --
发表时间: 2020
期刊:
影响因子: --
作者: [塩島 謙次, 田中 亮, 高島 信也, 上野 勝典, 江戸 雅晴]
通讯作者: 江戸 雅晴
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    Two-dimensional characterization of degradation mechanism in metal/wide-bandgap semiconductor contacts by scanning internal photoemission microscopy
    • 批准号:
      15K05981
    • 项目类别:
      Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
    • 资助金额:
      $3.24万
    • 财政年份:
      2015
    • 负责人:
      Shiojima Kenji
    • 依托单位: