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Development of Novel Electron Emitter for Photon Enhanced Thermionic Emission Using Thin Film Semiconductor Material

使用薄膜半导体材料开发用于光子增强热电子发射的新型电子发射器

基本信息

批准号：
18K04934
负责人：
Akihisa Ogino
金额：
$ 2.83万
依托单位：
Shizuoka University
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
财政年份：
2018
资助国家：
日本
起止时间：
2018-04-01 至 2021-03-31
项目状态：
已结题

项目摘要

项目成果

期刊论文数量（28）

专著数量（0）

科研奖励数量（0）

会议论文数量（0）

专利数量（0）

Thermionic emission and conversion properties of n-type AlGaN thin film cathodes grown on 6H-SiC substrates

6H-SiC 衬底上生长的 n 型 AlGaN 薄膜阴极的热电子发射和转换特性

DOI：
10.7567/1347-4065/ab5be4
发表时间：
2020
期刊：
Japanese Journal of Applied Physics
影响因子：
1.5
作者：
Kimura Shigeya;Yoshida Hisashi;Uchida Shota;Ogino Akihisa
通讯作者：
Ogino Akihisa

窒化物半導体の熱電子放出特性におけるアルカリ金属吸着の影響

碱金属吸附对氮化物半导体热电子发射性能的影响

DOI：
发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
0
作者：
内田翔太;安原弘一郎;木村重哉;吉田学史; 荻野明久
通讯作者：
荻野明久

CVD法によるMoS2の形態制御とプラズマ処理による硫黄欠陥密度の最適化

通过CVD方法控制MoS2的形貌并通过等离子体处理优化硫缺陷密度

DOI：
发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
0
作者：
浅田柊哉;荻野明久
通讯作者：
荻野明久

マイクロ波励起プラズマを用いたMoS2薄膜の硫黄欠陥形成におけるイオン遮蔽の影響

微波激发等离子体离子屏蔽对 MoS2 薄膜中硫缺陷形成的影响

DOI：
发表时间：
2020
期刊：
影响因子：
0
作者：
都築聖親;荻野明久
通讯作者：
荻野明久

Microwave Plasma Treatment of CVD-Synthesized Single- and Few-Layer MoS2

CVD 合成的单层和多层 MoS2 的微波等离子体处理

DOI：
发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
0
作者：
Akihisa Ogino;Masahiro Sugiyama
通讯作者：
Masahiro Sugiyama

DOI：
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Akihisa Ogino其他文献

遊星歯車機構を用いた二関節同時駆動型ロボットアームのトルク伝達損失補償

采用行星齿轮机构的两关节同时驱动机器人手臂扭矩传递损失补偿

DOI：
发表时间：
2014
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影响因子：
0
作者：
Yu OTA;Junya SEKIKAWA;Akihisa Ogino;上田圭祐，宮崎敏昌，大石潔
通讯作者：
上田圭祐，宮崎敏昌，大石潔

Development and application of innovative discrete element modelling for industrial systems

工业系统创新离散元建模的开发和应用

DOI：
发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
0
作者：
Masaaki Nagatsu;Kazuya Sugiyama;Iuliana Motrescu;Mihai Alexandru Ciolan;Akihisa Ogino; Naohisa Kawamur;Sakai Mikio;山本将,森松大亮,下村勝,荻野明久,永津雅章,岩田太;杉山和也,荻野明久,永津雅章;Sakai Mikio
通讯作者：
Sakai Mikio

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Masaaki Nagatsu;Kazuya Sugiyama;Iuliana Motrescu;Mihai Alexandru Ciolan;Akihisa Ogino; Naohisa Kawamur;Sakai Mikio;山本将,森松大亮,下村勝,荻野明久,永津雅章,岩田太;杉山和也,荻野明久,永津雅章;Sakai Mikio;作道章一,山城梨沙,永津雅章
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发表时间：
2022
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影响因子：
0
作者：
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通讯作者：
堤元佐

長尺大面積平行平板電極型誘電体バリア放電を用いたフッ素樹脂の表面処理

使用长、大面积平行板电极型介质阻挡放电对氟树脂进行表面处理

DOI：
发表时间：
2018
期刊：
影响因子：
0
作者：
Masaaki Nagatsu;Kazuya Sugiyama;Iuliana Motrescu;Mihai Alexandru Ciolan;Akihisa Ogino; Naohisa Kawamur;Sakai Mikio;山本将,森松大亮,下村勝,荻野明久,永津雅章,岩田太;杉山和也,荻野明久,永津雅章
通讯作者：
杉山和也,荻野明久,永津雅章