Improving thermoelectric properties of amorphous and nanocrystal oxide semiconductor thin films
提高非晶和纳米晶氧化物半导体薄膜的热电性能
基本信息
- 批准号:18K04939
- 负责人:
- 金额:$ 2.83万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
- 财政年份:2018
- 资助国家:日本
- 起止时间:2018-04-01 至 2021-03-31
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
项目成果
期刊论文数量(23)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
pn接合を有する熱電薄膜の熱起電力評価
p-n结热电薄膜的热电动势评估
- DOI:
- 发表时间:2019
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:村川星斗;上沼睦典;梅田鉄馬;Jenichi Felizco;石河泰明;浦岡行治
- 通讯作者:浦岡行治
Thermoelectric Properties of Bimetal-catalyzed InGaO3(ZnO)4 Nanowire
双金属催化InGaO3(ZnO)4纳米线的热电性能
- DOI:
- 发表时间:2018
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:Jenichi Felizco;Mutsunori Uenuma;Daisuke Senaha;Kenta Umeda;Yasuaki Ishikawa;Yukiharu Uraoka
- 通讯作者:Yukiharu Uraoka
Thermoelectric Properties in Thin Film with pn Junction
pn 结薄膜的热电特性
- DOI:
- 发表时间:2019
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:Hoshito Murakawa;Mutsunori Uenuma;Jenichi Felizco;Yukiharu Uraoka
- 通讯作者:Yukiharu Uraoka
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Uenuma Mutsunori其他文献
エタンおよびプロパン酸化的脱水素反応におけるM-V複合酸化物(M = Nb, Mo, W)の触媒活性比較および活性サイトの考察
M-V复合氧化物(M=Nb、Mo、W)在乙烷和丙烷氧化脱氢反应中的催化活性比较及活性位点讨论
- DOI:
- 发表时间:
2021 - 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
Taniguchi Tatsuhiko;Ishibe Takafumi;Hosoda Ryoya;Wagatsuma Youya;Alam Md. Mahfuz;Sawano Kentarou;Uenuma Mutsunori;Uraoka Yukiharu;Yamashita Yuichiro;Mori Nobuya;Nakamura Yoshiaki;下田 光祐・宮沢 真維・松本 克也・松元 陸・石川 理史・上田 渉 - 通讯作者:
下田 光祐・宮沢 真維・松本 克也・松元 陸・石川 理史・上田 渉
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- DOI:
- 发表时间:
2021 - 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
Taniguchi Tatsuhiko;Ishibe Takafumi;Hosoda Ryoya;Wagatsuma Youya;Alam Md. Mahfuz;Sawano Kentarou;Uenuma Mutsunori;Uraoka Yukiharu;Yamashita Yuichiro;Mori Nobuya;Nakamura Yoshiaki;下田 光祐・宮沢 真維・松本 克也・松元 陸・石川 理史・上田 渉;宮沢 真維・下田 光祐・石川 理史・上田 渉 - 通讯作者:
宮沢 真維・下田 光祐・石川 理史・上田 渉
Control of the interface and the film quality of SiO2 / GaN MOS by high pressure water vapor annealing
高压水蒸气退火控制SiO2/GaN MOS界面及薄膜质量
- DOI:
- 发表时间:
2016 - 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
Yuta Tominaga;Katsunori Ueno;Koji Yoshitsugu;Uenuma Mutsunori;Yuta Fujimoto;Yasuaki Ishikawa;Yukiharu Uraoka - 通讯作者:
Yukiharu Uraoka
High-Kを利用した4端子poly-Si TFTのpHセンサへの応用
使用高 K 的 4 端多晶硅 TFT 在 pH 传感器中的应用
- DOI:
- 发表时间:
2019 - 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
Sugisaki Sumio;Matsuda Tokiyoshi;Uenuma Mutsunori;Nabatame Toshihide;Nakashima Yasuhiko;Imai Takahito;Magari Yusaku;Koretomo Daichi;Furuta Mamoru;Kimura Mutsumi;原明人,西口尚希 - 通讯作者:
原明人,西口尚希
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Improvement of Thermoelectric Properties of Nanostructure Embedded Thermoelectric Material Using Biological Fabrication Process
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26870370 - 财政年份:2014
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- 批准号:
23H02045 - 财政年份:2023
- 资助金额:
$ 2.83万 - 项目类别:
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- 批准号:
23K04608 - 财政年份:2023
- 资助金额:
$ 2.83万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
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稀土金属氧化物准晶薄膜的制备及物理性能的发展
- 批准号:
23KJ1075 - 财政年份:2023
- 资助金额:
$ 2.83万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for JSPS Fellows