Improving thermoelectric properties of amorphous and nanocrystal oxide semiconductor thin films

提高非晶和纳米晶氧化物半导体薄膜的热电性能

基本信息

  • 批准号:
    18K04939
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 2.83万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
  • 财政年份:
    2018
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2018-04-01 至 2021-03-31
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

项目成果

期刊论文数量(23)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
薄膜を用いた熱電素子による環境発電
使用薄膜热电元件进行能量收集
  • DOI:
  • 发表时间:
    2019
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    村川 星斗;上沼 睦典;石河 泰明;浦岡 行治;上沼睦典;上沼睦典
  • 通讯作者:
    上沼睦典
pn接合を有する熱電薄膜の熱起電力評価
p-n结热电薄膜的热电动势评估
  • DOI:
  • 发表时间:
    2019
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    村川星斗;上沼睦典;梅田鉄馬;Jenichi Felizco;石河泰明;浦岡行治
  • 通讯作者:
    浦岡行治
Thermoelectric Properties of Bimetal-catalyzed InGaO3(ZnO)4 Nanowire
双金属催化InGaO3(ZnO)4纳米线的热电性能
  • DOI:
  • 发表时间:
    2018
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Jenichi Felizco;Mutsunori Uenuma;Daisuke Senaha;Kenta Umeda;Yasuaki Ishikawa;Yukiharu Uraoka
  • 通讯作者:
    Yukiharu Uraoka
Thermoelectric Properties in Thin Film with pn Junction
pn 结薄膜的热电特性
  • DOI:
  • 发表时间:
    2019
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Hoshito Murakawa;Mutsunori Uenuma;Jenichi Felizco;Yukiharu Uraoka
  • 通讯作者:
    Yukiharu Uraoka
Aalto University(フィンランド)
阿尔托大学(芬兰)
  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
{{ item.title }}
{{ item.translation_title }}
  • DOI:
    {{ item.doi }}
  • 发表时间:
    {{ item.publish_year }}
  • 期刊:
  • 影响因子:
    {{ item.factor }}
  • 作者:
    {{ item.authors }}
  • 通讯作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ journalArticles.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ monograph.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ sciAawards.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ conferencePapers.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ patent.updateTime }}

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エタンおよびプロパン酸化的脱水素反応におけるM-V複合酸化物(M = Nb, Mo, W)の触媒活性比較および活性サイトの考察
M-V复合氧化物(M=Nb、Mo、W)在乙烷和丙烷氧化脱氢反应中的催化活性比较及活性位点讨论
  • DOI:
  • 发表时间:
    2021
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Taniguchi Tatsuhiko;Ishibe Takafumi;Hosoda Ryoya;Wagatsuma Youya;Alam Md. Mahfuz;Sawano Kentarou;Uenuma Mutsunori;Uraoka Yukiharu;Yamashita Yuichiro;Mori Nobuya;Nakamura Yoshiaki;下田 光祐・宮沢 真維・松本 克也・松元 陸・石川 理史・上田 渉
  • 通讯作者:
    下田 光祐・宮沢 真維・松本 克也・松元 陸・石川 理史・上田 渉
低酸化数金属種から構成されるMo酸化物の酸化触媒機能
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  • DOI:
  • 发表时间:
    2021
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Taniguchi Tatsuhiko;Ishibe Takafumi;Hosoda Ryoya;Wagatsuma Youya;Alam Md. Mahfuz;Sawano Kentarou;Uenuma Mutsunori;Uraoka Yukiharu;Yamashita Yuichiro;Mori Nobuya;Nakamura Yoshiaki;下田 光祐・宮沢 真維・松本 克也・松元 陸・石川 理史・上田 渉;宮沢 真維・下田 光祐・石川 理史・上田 渉
  • 通讯作者:
    宮沢 真維・下田 光祐・石川 理史・上田 渉
Control of the interface and the film quality of SiO2 / GaN MOS by high pressure water vapor annealing
高压水蒸气退火控制SiO2/GaN MOS界面及薄膜质量
  • DOI:
  • 发表时间:
    2016
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Yuta Tominaga;Katsunori Ueno;Koji Yoshitsugu;Uenuma Mutsunori;Yuta Fujimoto;Yasuaki Ishikawa;Yukiharu Uraoka
  • 通讯作者:
    Yukiharu Uraoka
High-Kを利用した4端子poly-Si TFTのpHセンサへの応用
使用高 K 的 4 端多晶硅 TFT 在 pH 传感器中的应用
  • DOI:
  • 发表时间:
    2019
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Sugisaki Sumio;Matsuda Tokiyoshi;Uenuma Mutsunori;Nabatame Toshihide;Nakashima Yasuhiko;Imai Takahito;Magari Yusaku;Koretomo Daichi;Furuta Mamoru;Kimura Mutsumi;原明人,西口尚希
  • 通讯作者:
    原明人,西口尚希

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{{ item.title }}
{{ item.translation_title }}
  • DOI:
    {{ item.doi }}
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    {{ item.publish_year }}
  • 期刊:
  • 影响因子:
    {{ item.factor }}
  • 作者:
    {{ item.authors }}
  • 通讯作者:
    {{ item.author }}

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  • 资助金额:
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  • 财政年份:
    2024
  • 资助金额:
    $ 2.83万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
遷移金属酸化物薄膜による水素イオン誘起量子物性開拓と化学デバイス応用
利用过渡金属氧化物薄膜开发氢离子诱导的量子物理性质和化学器件应用
  • 批准号:
    23H02045
  • 财政年份:
    2023
  • 资助金额:
    $ 2.83万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
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  • 批准号:
    23K04608
  • 财政年份:
    2023
  • 资助金额:
    $ 2.83万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
希土類金属酸化物準結晶薄膜の創製と物性開拓
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  • 批准号:
    23KJ1075
  • 财政年份:
    2023
  • 资助金额:
    $ 2.83万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for JSPS Fellows
{{ showInfoDetail.title }}

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知道了