Research on evaluation method of EUV resist performance using electron beam

电子束EUV光刻胶性能评价方法研究

基本信息

项目摘要

项目成果

期刊论文数量（6）
专著数量（0）
科研奖励数量（0）
会议论文数量（0）
专利数量（0）
電子線を用いたEUVレジスト感度予測法の研究
基于电子束的EUV光刻胶灵敏度预测方法研究
  • DOI：
  • 发表时间：
    2018
  • 期刊：
  • 影响因子：
    0
  • 作者：
    保坂勇志;大山智子
  • 通讯作者：
    大山智子
EUV誘起化学反応模擬のための超低エネルギー電子線源の開発
开发用于EUV诱导化学反应模拟的超低能电子束源
  • DOI：
  • 发表时间：
    2018
  • 期刊：
  • 影响因子：
    0
  • 作者：
    保坂勇志;清藤一;田口光正;前川康成
  • 通讯作者：
    前川康成
Sensitivity enhancement of poly(methyl methacrylate) upon exposure to picosecond-pulsed extreme ultraviolet
  • DOI：
    10.1063/1.5116284
  • 发表时间：
    2019-08-12
  • 期刊：
    APPLIED PHYSICS LETTERS
  • 影响因子：
    4
  • 作者：
    Hosaka, Yuji;Oyama, Tomoko Gowa;Maekawa, Yasunari
  • 通讯作者：
    Maekawa, Yasunari
Study on Irradiation Effects by Femtosecond-pulsed Extreme Ultraviolet in Main-chain Scission Resist
飞秒脉冲极紫外光辐照在抗主链断裂中的作用研究
  • DOI：
  • 发表时间：
    2020
  • 期刊：
  • 影响因子：
    0
  • 作者：
    Yuji Hosaka;Hiroki Yamamoto;Masahiko Ishino;Thanh-Hung Dinh;Masaharu Nishikino and Yasunari Maekawa
  • 通讯作者：
    Masaharu Nishikino and Yasunari Maekawa
Study on Irradiation Effects by Femtosecond-pulsed Extreme Ultraviolet in Resist Materials
飞秒脉冲极紫外光对光刻胶材料的辐照效果研究
  • DOI：
  • 发表时间：
    2021
  • 期刊：
    Journal of Photopolymer Science and Technology
  • 影响因子：
    0.8
  • 作者：
    Yuji Hosaka;Hiroki Yamamoto;Masahiko Ishino;Thanh-Hung Dinh;Masaharu Nishikino;Akira Kon;Shigeki Owada;Yuichi Inubushi and Yasunari Maekawa
  • 通讯作者：
    Yuichi Inubushi and Yasunari Maekawa
{{ item.title }}
{{ item.translation_title }}
  • DOI：
    {{ item.doi }}
  • 发表时间：
    {{ item.publish_year }}
  • 期刊：
    {{ item.journal_name }}
  • 影响因子：
    {{ item.factor }}
  • 作者：
    {{ item.authors }}
  • 通讯作者：
    {{ item.author }}

数据更新时间：{{ journalArticles.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者：
    {{ item.author }}

数据更新时间：{{ monograph.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者：
    {{ item.author }}

数据更新时间：{{ sciAawards.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者：
    {{ item.author }}

数据更新时间：{{ conferencePapers.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者：
    {{ item.author }}

数据更新时间：{{ patent.updateTime }}

Hosaka Yuji其他文献

Recent Research activity for EUV Lithography at QST
QST 最近的 EUV 光刻研究活动
  • DOI：
  • 发表时间：
    2022
  • 期刊：
  • 影响因子：
    0
  • 作者：
    Yamamoto Hiroki;Hosaka Yuji;Yoshimura Kimio;Ishino Masahiko;Thanh-Hung Dinh;Nishikino Masaharu;Maekawa Yasunari
  • 通讯作者：
    Maekawa Yasunari
自律応答型脂質デバイスの創製：温度応答型カチオン性くし形共重合体/ペプチド複合体による生体膜形態操作
创建自主响应脂质装置：使用温度响应型阳离子梳状共聚物/肽复合物操纵生物膜形态
  • DOI：
  • 发表时间：
    2019
  • 期刊：
  • 影响因子：
    0
  • 作者：
    Gowa Oyama Tomoko;Barba Bin Jeremiah Duenas;Hosaka Yuji;Taguchi Mitsumasa;増田造・落合拓郎・嶋田直彦・丸山厚
  • 通讯作者：
    増田造・落合拓郎・嶋田直彦・丸山厚
Soft x-ray laser beamline for surface processing and damage studies
用于表面加工和损伤研究的软 X 射线激光束线
  • DOI：
    10.1364/ao.387792
  • 发表时间：
    2020
  • 期刊：
    Applied Optics
  • 影响因子：
    1.9
  • 作者：
    Ishino Masahiko;Dinh Thanh-Hung;Hosaka Yuji;Hasegawa Noboru;Yoshimura Kimio;Yamamoto Hiroki;Hatano Tadashi;Higashiguchi Takeshi;Sakaue Kazuyuki;Ichimaru Satoshi;Hatayama Masatoshi;Sasaki Akira;Washio Masakazu;Nishikino Masaharu;Maekawa Yasunari
  • 通讯作者：
    Maekawa Yasunari
中性子散乱でみるフェリ磁性ガーネットのスピン流伝播
通过中子散射观察亚铁磁性石榴石中的自旋电流传播
  • DOI：
  • 发表时间：
    2021
  • 期刊：
  • 影响因子：
    0
  • 作者：
    Yamamoto Hiroki;Hosaka Yuji;Yoshimura Kimio;Ishino Masahiko;Thanh-Hung Dinh;Nishikino Masaharu;Maekawa Yasunari;南部雄亮
  • 通讯作者：
    南部雄亮

Hosaka Yuji的其他文献

{{ item.title }}
{{ item.translation_title }}
  • DOI：
    {{ item.doi }}
  • 发表时间：
    {{ item.publish_year }}
  • 期刊：
    {{ item.journal_name }}
  • 影响因子：
    {{ item.factor }}
  • 作者：
    {{ item.authors }}
  • 通讯作者：
    {{ item.author }}

相似海外基金

伝導性有機量子ドットの位置制御のための有機分子混合電子線レジストの研究
导电有机量子点位置控制混合有机分子电子束抗蚀剂研究
  • 批准号：
    24K07575
  • 财政年份：
    2024
  • 资助金额：
    $ 2.66万
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
放射線プロセスによる位置制御可能なケミカルフリー水中酸化物結晶生成法の確立
辐射过程水中位置可控无化学氧化物晶体形成方法的建立
  • 批准号：
    22K04986
  • 财政年份：
    2022
  • 资助金额：
    $ 2.66万
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
water-soluble nanopatterning material using water-coating and water-developable processes for edible pharmaceutical polymer films
采用水涂覆和水显影工艺的水溶性纳米图案材料，用于可食用药用聚合物薄膜
  • 批准号：
    19K05235
  • 财政年份：
    2019
  • 资助金额：
    $ 2.66万
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
Elucidation of deprotonation induced mechanism in nano-and microfabrication process using ionizing radiations and its applications
阐明电离辐射纳米和微加工过程中去质子化诱导机制及其应用
  • 批准号：
    19K05330
  • 财政年份：
    2019
  • 资助金额：
    $ 2.66万
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
Influence of charge delocalization in nanofabrication induced by ionizing radiations
电离辐射引起的纳米加工中电荷离域的影响
  • 批准号：
    15K06662
  • 财政年份：
    2015
  • 资助金额：
    $ 2.66万
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
{{ showInfoDetail.title }}

作者：{{ showInfoDetail.author }}

知道了