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Single-process fabrication of group-III nitride pseudo-substrates and devices via vapor phase epitaxy using solid chlorides

Single-process fabrication of group-III nitride pseudo-substrates and devices via vapor phase epitaxy using solid chlorides
使用固体氯化物通过气相外延单工艺制造 III 族氮化物伪衬底和器件
批准号：
19H02614
负责人：
Murakami Hisashi
金额：
$10.98万
依托单位：
Tokyo University of Agriculture and Technology
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
财政年份：
2019
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2019-04-01 至 2022-03-31
来源：
https://kaken.nii.ac.jp/en/grant/KAKENHI-PROJECT-19H02614/
关键词：
結晶成長エピタキシャル成長窒化物半導体混晶窒化ガリウムトリハライド低転位加工サファイア基板窒化アルミニウムガリウムヘテロ界面ワイドバンドギャップ

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DOI： --
发表时间： 2019
期刊：
影响因子： --
作者： [M. Schubert, A. Mock, S. Knight, M. Hilfiker, M. Stokey, V. Darakchieva, A. Papamichail, R. Korlacki, M.J. Tadjer, Z. Galazka, G. Wagner, N. Blumenschein, A. Kuramata, K. Goto, H. Murakami, Y. Kumagai, M. Higashiwaki, A. Mauze, Y. Zhang, and J. S. Speck]
通讯作者： and J. S. Speck
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DOI： --
发表时间： 2019
期刊：
影响因子： --
作者： [C.-H. Lin, A. Takeyama, M. Sato, N. Takekawa, K. Konishi, Y. Yuda, T. Watahiki, M. Yamamuka, H. Murakami, Y. Kumagai, T. Ohshima, and M. Higashiwaki]
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发表时间： 2022
期刊： Applied Physics Express
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GaN高温HVPE成長のための熱力学解析モデルの修正
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DOI： --
发表时间： 2022
期刊：
影响因子： --
作者： [松岡 聖, 坂東 もも子, 大西 一生, 後藤 健, 新田 州吾, 村上 尚, 熊谷 義直]
通讯作者： 熊谷 義直
共 55 条
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    • 批准号：
      20K20143
    • 项目类别：
      Grant-in-Aid for Early-Career Scientists
    • 资助金额：
      $2.58万
    • 财政年份：
      2020
    • 负责人：
      Murakami Hisashi
    • 依托单位：
      Kyoto Institute of Technology
    Navigation in fiddler crab: Interaction between visual orientation and path integration and its co-evolusion with social behavior
    • 批准号：
      18K18348
    • 项目类别：
      Grant-in-Aid for Early-Career Scientists
    • 资助金额：
      $2.16万
    • 财政年份：
      2018
    • 负责人：
      Murakami Hisashi
    • 依托单位：
      The University of Tokyo
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