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Einfluss von Additiven auf die Herstellung und Defektstruktur von (K,Na)NbO3

Einfluss von Additiven auf die Herstellung und Defektstruktur von (K,Na)NbO3
添加剂对(K,Na)NbO3生成及缺陷结构的影响
批准号:
37884824
负责人:
Professor Dr. Helmut Ehrenberg, since 10/2012
金额:
$0.0万
依托单位国家:
德国
项目类别:
Research Grants
财政年份:
2007
资助国家:
德国
项目状态:
已结题
起止时间:
2006-12-31 至 2011-12-31

项目摘要

项目成果

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中文摘要
翻译
非耦合风模的非耦合风模结构分析。方法采用理论DFT法和实验EPR法,分析自动驾驶汽车的自动驾驶性能。基于特征schaften的相关性分析。Übereinstimmende Ergebnisse der Arbeitsgruppen bei Cu-dotiertem KNN sind, pass (i) die chemischen Randbedingungen von Bedeutung f<e:1> r die defktstruckturr sind and (ii) under den meisten Bedingungen Cu2+ dabei auf einen B-Platz der perowskitstruckturr eingebaut wind。Nach EPR-Ergebnissen können dabei zwei verschiedene Typen von defktdipol - asziaten gebildet werden。[2] [1] [1] [1] [2] [2] [2] [1] [2] [1] [2] [1] [3]ausder beetzung von elektronischen Energieniveaus, Messungen von elektronischen Leitungsmechanismen mittelels elektrisch detektierter EPR and dielektrischenleitungsmechanismen charakterisierter sollen r<s:1> ckschllsse auf die elektrischen Leitungsmechanismen gezogen and defktbedingleitungsmechanismen von Leitungsphänomenen and Korngrenzen separiert werden。Die fgr Die cu - dotiung entwickelte Methodik soll auf Die fe - dotiung <e:1> bertragen werden。
英文摘要
Untersucht wird die Defektstruktur von KNN-Keramiken mit Cu- und Fe-Dotierung. Methodisch werden theoretische DFT- und experimentelle EPR- Analysen auf atomarer Ebene mit Experimenten auf makroskopischer Ebene kombiniert. Ziel ist die Korrelation von makroskopischen Eigenschaften mit der Defektstruktur. Übereinstimmende Ergebnisse der Arbeitsgruppen bei Cu-dotiertem KNN sind, dass (i) die chemischen Randbedingungen von Bedeutung für die Defektstruktur sind und (ii) unter den meisten Bedingungen Cu2+ dabei auf einen B-Platz der Perowskitstruktur eingebaut wird. Nach EPR-Ergebnissen können dabei zwei verschiedene Typen von Defektdipol-Assoziaten gebildet werden. Die Auswirkungen dieser Dipolbildung auf Defektbildungsenergien und Energiebarrieren bei Polarisation sollen mit DFT berechnet werden. Aus der Besetzung von elektronischen Energieniveaus, Messungen von elektronischen Leitungsmechanismen mittels elektrisch detektierter EPR und dielektrischer Charakterisierung sollen Rückschlüsse auf die elektrischen Leitungsmechanismen gezogen und defektbedingte Leitungsmechanismen von Leitungsphänomenen an Korngrenzen separiert werden. Die für die Cu-Dotierung entwickelte Methodik soll auf die Fe-Dotierung übertragen werden.
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  • 批准号:
  • 项目类别:
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  • 依托单位: