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原子層プロセスによる結晶性酸化物半導体の高品位な合成と集積デバイス応用
使用原子层处理和集成器件应用高质量合成晶体氧化物半导体
基本信息
- 批准号：23K19123
- 负责人：
- 金额：$ 1.83万
- 依托单位：
- 依托单位国家：日本
- 项目类别：Grant-in-Aid for Research Activity Start-up
- 财政年份：2023
- 资助国家：日本
- 起止时间：2023-08-31 至 2025-03-31
- 项目状态：未结题
- 来源：
- 关键词：
项目摘要
项目成果
期刊论文数量（0）
专著数量（0）
科研奖励数量（0）
会议论文数量（0）
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