原子層プロセスによる結晶性酸化物半導体の高品位な合成と集積デバイス応用
原子層プロセスによる結晶性酸化物半導体の高品位な合成と集積デバイス応用
使用原子层处理和集成器件应用高质量合成晶体氧化物半导体
批准号：
23K19123
负责人：
高橋 崇典
金额：
$1.83万
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Research Activity Start-up
财政年份：
2023
资助国家：
日本
项目状态：
未结题
起止时间：
2023-08-31 至 2025-03-31
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透明酸化物薄膜トランジスタによるセンサ・オン・フィルムの創成
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批准号：20J23326
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项目类别：Grant-in-Aid for JSPS Fellows
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资助金额：$1.6万
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财政年份：2020
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负责人：高橋 崇典
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依托单位：
海外基金
