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プラズマプロセスを用いた低温原子層堆積法の研究

等离子体工艺低温原子层沉积方法研究

基本信息

批准号：
14J10615
负责人：
鹿又健作
金额：
$ 1.22万
依托单位：
Yamagata University
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for JSPS Fellows
财政年份：
2014
资助国家：
日本
起止时间：
2014-04-25 至 2016-03-31
项目状态：
已结题

项目摘要

前年度の研究で構築した酸化ハフニウムの室温原子層堆積プロセスを用いて、HfO2-SiMOSキャパシタを試作し、電気的特性評価から、試作したHfO2-SiMOSキャパシタがMOS動作することを確認した。また、膜堆積後の熱処理と膜堆積前の表面処理を検討し、試作したHfO2-SiMOSキャパシタの電気的特性向上の可能性を見出した。新膜種として酸化ジルコニウムの室温原子層堆積の開発に取り組んだ。原料ガスとしてテトラキスエチルメチルアミノジルコニウム(TEMAZ)と酸化ガスにプラズマ励起した加湿アルゴンを用いた。赤外吸収分光によってSi基板上への原料分子の吸着過程と酸化過程をその場観察し、酸化ジルコニウムの室温原子層堆積プロセスを設計する際に必須となる情報を抽出した。この情報をもとに酸化ジルコニウムの室温原子層堆積を行い、X線光電子分光と分光エリプソメトリーによる評価を行い、酸化ジルコニウムの室温原子層堆積を実証した。ガスバリアコート向け室温原子層堆積において、本研究で構築した酸化アルミニウムと酸化チタンの室温原子層堆積プロセスを複合することで、単層では難しかった10-3g/m2/day台の水蒸気バリア性を達成している。この値は電子ペーパー、薄膜系Si太陽電池の封止材として十分な性能であると考えられる。この成果をもって企業との共同研究に繋げていきたいと考えている。難腐食コート向けの室温原子層堆積において表面科学と腐食分野の第一人者であるフランスのパリテック研究所のフィリップマーカス教授と議論を行い、本研究で構築した室温原子層堆積プロセスを用いた難腐食コートについて共同研究を継続する予定である。本研究の成果は英語論文誌への論文投稿4件、国際会議3件、国内会議3件で成果公開を行っている。本年度の研究成果をもとに研究を継続し、室温原子層堆積の可能性を拡げていきたいと考えている。

The previous year's research was carried out on the construction of acidified fluorocarbons at room temperature atomic layer deposition silica and HfO2-SiMOS silica gel.をPrototype production, evaluation of electrochemical characteristics, and verification of the operation of the prototype HfO2-SiMOS MOS. The heat treatment after film deposition and the surface treatment before film deposition are possible, and the prototype HfO2-SiMOS キャパシタの电気 has the possibility of improving its characteristics. The new film type is a acidified fluorocarbon, which is a room temperature atomic layer deposition method. Raw materials EMAZ) and acidified ガスにプラズマした humidified アルゴンを use いた. Infrared absorption spectroscopy was carried out to observe the adsorption process and acidification process of raw material molecules on the Si substrate. Acidified ジルコニウムの room temperature atomic layer deposition プロセスを design するinterior に must and となるinformation を extracted した. X-ray photoelectron spectroscopy and X-ray photoelectron spectroscopyエリプソメトリーによる evaluation 価を行い, acidified ジルコニウムの room temperature atomic layer deposition を実证した. In this study, we constructed a room-temperature atomic layer stack of ガスバリアコート to room temperature atomic layer stack, and in this study we constructed a silica acidified atomic layer stack. Accumulated プロセスを compound することで, single layer ではしかった 10-3g/m2/day 台の水vapor 気バリア性をachieved している. The sealing material of the thin film system Si solar cell is very high in performance and performance.このResults をもってCorporate との Joint Research Department げていきたいと考えている. The first person in the field of corrosion resistance, room temperature atomic layer deposition, surface science and corrosion resistance research institute, the first person in the field of corrosion resistance Professor Koko discussed the matter and the room temperature atomic layer deposition system that constructed this research was jointly researched with the non-perishable food processor. The results of this research include 4 English papers submitted, 3 international conferences, and 3 domestic conferences, and the results have been made public. This year's research results include the research on the possibility of atomic layer deposition at room temperature and the research on the possibility of room temperature atomic layer deposition.