シリコンフォトニクス用電流注入型ゲルマニウムレーザーの開拓
用于硅光子学的电流注入锗激光器的开发
基本信息
- 批准号:17J10044
- 负责人:
- 金额:$ 1.22万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for JSPS Fellows
- 财政年份:2017
- 资助国家:日本
- 起止时间:2017-04-26 至 2019-03-31
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
本研究の目的は、高速・大容量通信を可能にするとされるシリコンフォトニクス技術においてボトルネックとなっているレーザー光源を開拓することである。Si基板上に直接集積することができ、光通信波長帯において発光するGeが発光材料として有望視されているが、これまでに報告されているGe発光素子(レーザー)は動作エネルギーが理論値よりも二桁程度大きく、実用化には程遠いものであった。この理由として、Si基板上に集積されたGeには内部及びSiとGeの界面付近に非常に高密度に欠陥が存在し、その欠陥によって発光効率が著しく低下するためと考えられてきた。本研究では平成29年度までにGe中の欠陥(貫通転位)の密度を低減するために逆リブ構造(SiとGeの界面付近に部分的に空隙をもつ構造)が有用であることを報告してきた。平成30年度は、逆リブ構造による貫通転位密度の低減効果を、理論モデル・貫通転位密度測定及び透過型電子顕微鏡観察により実証した結果を学術論文において発表した。加えて、SiとGeの界面において発光を大きく妨げる機構が働くこと、及びGeの表面を酸素雰囲気中で熱処理することでGe表面における光損失が著しく低減されることを実験的に示し、国際学会及び学術論文にて発表した。逆リブ構造と酸素雰囲気中での熱処理によって発光効率が増大したと期待されるGeを用いて発光素子の試作を行い、試作した素子からの発光を測定した。レーザーとしての動作を確認することはできなかったが、逆リブ構造のない、従来構造のGeと比較して良好な発光特性が見られ、高効率Geレーザーの実現に向けた進歩が見られた。この結果は学術論文において発表した。
The purpose of this study is to explore the possibility of high-speed and large-capacity communication. Si substrate direct accumulation, optical communication wavelength range Ge light emitting material, optical communication wavelength range Ge light emitting element, optical communication wavelength range The reason for this is that Ge is concentrated on the Si substrate and the Si/Ge interface is very close to the surface. In this paper, we report that the density reduction of Si and Ge in 29 years is very useful because of the reverse structure (the gap structure near the Si and Ge interface). The results of the theoretical measurement of the penetration site density and the transmission electron microscopy in the 30 th year of Heisei are presented in the academic paper. In addition, Si and Ge interface light emission mechanism, heat treatment, Ge surface light loss reduction, international society and academic papers. The light emission efficiency of Ge in the heat treatment of the reverse structure and the acid element is increased. For example, if you want to make a comparison between the two structures, you can make a comparison between the two structures. The results of this research are presented in academic papers.
项目成果
期刊论文数量(15)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
トンネル状空隙の導入によるSi上Ge層の貫通転位密度低減
通过引入隧道状空隙降低 Si 上 Ge 层中的穿透位错密度
- DOI:
- 发表时间:2018
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:八子 基樹;石川 靖彦;和田 一実
- 通讯作者:和田 一実
Si 基板上 inverted-rib 構造 Ge 選択成長層における貫通転位密度低減
降低Si衬底上倒肋结构Ge选择性生长层的穿透位错密度
- DOI:
- 发表时间:2018
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:八子基樹;石川靖彦;和田一実
- 通讯作者:和田一実
Coalescence induced dislocation reduction in selectively grown lattice-mismatched heteroepitaxy: Theoretical prediction and experimental verification
- DOI:10.1063/1.5011421
- 发表时间:2018-05
- 期刊:
- 影响因子:3.2
- 作者:M. Yako;Y. Ishikawa;K. Wada
- 通讯作者:M. Yako;Y. Ishikawa;K. Wada
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