Formation of oxidation-resistant film on niobium based alloy using molten salt electrolysis

熔盐电解在铌基合金上形成抗氧化膜

• 批准号: 24656453
• 负责人: SATO Yuzuru
• 金额: $ 2.58万
• 依托单位: Tohoku University
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
• 财政年份: 2012
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 2012-04-01 至 2014-03-31
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/en/grant/KAKENHI-PROJECT-24656453/
• 关键词: 耐熱合金; ニオブ基合金; 珪化物; 耐酸化性被膜; 表面処理; 溶融塩電解; 電気化学; 溶融塩; 電解; 耐熱材料; 耐酸化被覆; コーティング; NbSi2; 耐酸化性皮被膜; 珪化ニオブ

The purpose of this study is determining optimum electrolytic condition by investigating the electrochemical behavior of ions in molten salt in order to form an oxidation-resistant silicide film on Nb based alloy using molten salt electrolysis. As a result, it is found that thick film forms with lower current density (10 mA cm-2 is the best in this study) at higher temperature (1173 K is the best in this study). The concentration of solute (silicone source) does not show significant effect. NbSi2 film with a thickness of 55 to 70 micron was successfully obtained in a certain condition.

本研究的目的是通过研究熔盐中离子的电化学行为来确定最佳的电解条件，以便利用熔盐电解法在铌基合金上形成抗氧化的硅化物膜。结果表明，在较低的电流密度（10 mA cm-2）和较高的温度（1173 K）下，可以形成较厚的薄膜。溶质（硅源）的浓度未显示出显著影响。在一定条件下成功地制备了厚度为55 ~ 70 μ m的NbSi_2薄膜。

项目成果

弗化物溶融塩中での弗化珪酸イオンの電極反応

氟化物熔盐中氟硅酸根离子的电极反应

• 发表时间: 2012
• 作者: 山中茂樹;竹田修;星政義;佐藤讓
• 通讯作者: 佐藤讓

溶融塩電解によるニオブ表面の珪化

熔盐电解铌表面硅化

• 发表时间: 2014
• 作者: 竹田修;長見祐弥;梅本大輝;佐藤讓;朱鴻民
• 通讯作者: 朱鴻民

溶融塩電解によるNi基超合金へのMoSi2被膜の形成

熔盐电解在镍基高温合金上形成MoSi2薄膜

• 发表时间: 2014
• 作者: 山中茂樹;竹田修;星政義;佐藤讓;朱鴻民
• 通讯作者: 朱鴻民

Nb電極を用いた弗化珪酸イオンの電極反応

使用铌电极的氟硅酸盐离子的电极反应

• 发表时间: 2013
• 作者: 長見裕弥;竹田修;佐藤讓
• 通讯作者: 佐藤讓