课题基金 / 基金详情

Cesium Removal with Magnetic Nanoparticles Surface-functionalized by Plasma Discharge in Liquid with Bubble

Cesium Removal with Magnetic Nanoparticles Surface-functionalized by Plasma Discharge in Liquid with Bubble
通过气泡液体中等离子体放电表面功能化的磁性纳米粒子去除铯
批准号：
25600120
负责人：
NAGATSU Masaaki
金额：
$2.58万
依托单位：
Shizuoka University
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
财政年份：
2013
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2013-04-01 至 2015-03-31
来源：
https://kaken.nii.ac.jp/en/grant/KAKENHI-PROJECT-25600120/
关键词：
ナノ材料プラズマ加工水質汚染、土壌汚染防止、浄化セシウム除去プラズマ表面修飾磁気ナノ微粒子水質汚濁・土壌汚染防止 ・浄化

项目摘要

项目成果

NAGATSU Masaaki的其他基金

相似基金

相关文献

中文摘要
翻译
点击翻译按钮获取中文摘要
英文摘要
期刊论文(34)
专著(0)
科研奖励(0)
会议论文
, “プラズマ表面修飾磁気ナノ微粒子を用いたセシウム吸着材の開発
，“使用等离子体表面改性磁性纳米粒子开发铯吸附剂
DOI： --
发表时间： 2014
期刊：
影响因子： --
作者： [T. Akama, T. Kato, T. Kaneko, 岡嶋孝治, 岡田　直也，楊 樹斌，張　晗，永津　雅章]
通讯作者： 岡田　直也，楊 樹斌，張　晗，永津　雅章
永津研究室
长津研究所
DOI： --
发表时间：
期刊：
影响因子： --
作者： []
通讯作者：
プラズマによる表面処理技術の基礎と応用
等离子表面处理技术的基础和应用
DOI： --
发表时间： 2014
期刊：
影响因子： --
作者： [O. Sakai, N. Kihara, Y. Nishio and Y. Hiraoka, 永津雅章]
通讯作者： 永津雅章
Effect of NH Radicals on Amino Group Surface Modification onto Graphene-Encapsulated Magnetic Nanoparticles Using RF Excited NH3 Plasma
NH 自由基对使用 RF 激发 NH3 等离子体的石墨烯封装的磁性纳米粒子的氨基表面修饰的影响
DOI： --
发表时间： 2013
期刊：
影响因子： --
作者： [H. Chou, E. Yang, M. Nagatsu]
通讯作者： M. Nagatsu
共 31 条
    Development of innovative plasma process technologies to realize high-performance and multi-functional material surfaces and their applications
    • 批准号：
      17H02804
    • 项目类别：
      Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
    • 资助金额：
      $11.48万
    • 财政年份：
      2017
    • 负责人：
      NAGATSU Masaaki
    • 依托单位：
      Shizuoka University
    Development of Plasma Processing Technology of Bio-Polymer Materials at Low-temperature
    • 批准号：
      20340161
    • 项目类别：
      Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
    • 资助金额：
      $12.31万
    • 财政年份：
      2008
    • 负责人：
      NAGATSU Masaaki
    • 依托单位：
      Shizuoka University
    Development of Low-temperature Sterilization Technique Using Microwave Plasma and Its Medical Application
    • 批准号：
      16340180
    • 项目类别：
      Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
    • 资助金额：
      $9.79万
    • 财政年份：
      2004
    • 负责人：
      NAGATSU Masaaki
    • 依托单位：
      Shizuoka University
    Development of High-Pressure, High-Density Micorwave Plasma Source and Its Application to Large-area Thin Film Processing
    • 批准号：
      14580516
    • 项目类别：
      Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
    • 资助金额：
      $2.3万
    • 财政年份：
      2002
    • 负责人：
      NAGATSU Masaaki
    • 依托单位：
      Shizuoka University
    海外基金