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Intrinsic-stress-induced elastic instability of microscopic patterned materials and their morphology control

Intrinsic-stress-induced elastic instability of microscopic patterned materials and their morphology control
微观图案材料的内应力引起的弹性不稳定性及其形貌控制
批准号：
25630006
负责人：
TANAKA Hiro
金额：
$2.5万
依托单位：
The University of Tokyo
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
财政年份：
2013
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2013-04-01 至 2015-03-31
来源：
https://kaken.nii.ac.jp/en/grant/KAKENHI-PROJECT-25630006/
关键词：
半導体微細パターン材真性応力板理論座屈ドライエッチング分子動力学法プラズマエッチング

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分子動力学法によるアモルファスシリコン酸化膜の真性応力評価
利用分子动力学方法评估非晶氧化硅薄膜的本征应力
DOI： --
发表时间： 2015
期刊：
影响因子： --
作者： [H. Tanaka, M. Inoue, S. Izumi, S. Sakai, 井上 優，田中 展，泉 聡志，酒井 信介]
通讯作者： 井上 優，田中 展，泉 聡志，酒井 信介
Lateral Buckling of Micropatterned Structures for Semiconductor Devices During Dry Etching
干法蚀刻过程中半导体器件微图案结构的横向屈曲
DOI： --
发表时间： 2015
期刊：
影响因子： --
作者： [H. Tanaka, M. Inoue, S. Izumi, S. Sakai]
通讯作者： S. Sakai
Onset of Wiggling in a Microscopic Patterned Structure Induced by Intrinsic Stress During the Dry Etching Process
DOI： 10.1115/1.4027914
发表时间： 2014-09
期刊： Journal of Applied Mechanics
影响因子： --
作者： [Hiro Tanaka;T. Hidaka;S. Izumi;S. Sakai]
通讯作者： Hiro Tanaka;T. Hidaka;S. Izumi;S. Sakai
ドライエッチング中における真性応力に起因する微細パターン構造のうねり座屈予測
干法蚀刻过程中由于内应力引起的精细图案结构波纹屈曲的预测
DOI： --
发表时间： 2014
期刊：
影响因子： --
作者： [H. Tanaka, M. Inoue, S. Izumi, S. Sakai, 井上 優，田中 展，泉 聡志，酒井 信介, 田中 展，日高 貴弘，井 上 優，泉 聡志，酒井 信介]
通讯作者： 田中 展，日高 貴弘，井 上 優，泉 聡志，酒井 信介
Cellular solids having soft-and-stiff characteristics
Creating a model of three-dimensional spatial structures that provide novel mechanical properties
  • 批准号：
    23760086
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
  • 资助金额：
    $2.66万
  • 财政年份：
    2011
  • 负责人：
    TANAKA Hiro
  • 依托单位：
    The University of Tokyo
Construction of flexibly jointed structure with variable flexibility