Intrinsic-stress-induced elastic instability of microscopic patterned materials and their morphology control

微观图案材料的内应力引起的弹性不稳定性及其形貌控制

• 批准号: 25630006
• 负责人: TANAKA Hiro
• 金额: $ 2.5万
• 依托单位: The University of Tokyo
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
• 财政年份: 2013
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 2013-04-01 至 2015-03-31
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/en/grant/KAKENHI-PROJECT-25630006/
• 关键词: 半導体; 微細パターン材; 真性応力; 板理論; 座屈; ドライエッチング; 分子動力学法; プラズマエッチング

项目成果

分子動力学法によるアモルファスシリコン酸化膜の真性応力評価

利用分子动力学方法评估非晶氧化硅薄膜的本征应力

• 发表时间: 2015
• 作者: H. Tanaka;M. Inoue;S. Izumi;S. Sakai;井上 優，田中 展，泉 聡志，酒井 信介
• 通讯作者: 井上 優，田中 展，泉 聡志，酒井 信介

Lateral Buckling of Micropatterned Structures for Semiconductor Devices During Dry Etching

干法蚀刻过程中半导体器件微图案结构的横向屈曲

• 发表时间: 2015
• 作者: H. Tanaka;M. Inoue;S. Izumi;S. Sakai
• 通讯作者: S. Sakai

Onset of Wiggling in a Microscopic Patterned Structure Induced by Intrinsic Stress During the Dry Etching Process

• DOI: 10.1115/1.4027914
• 发表时间: 2014-09
• 期刊: Journal of Applied Mechanics
• 作者: Hiro Tanaka;T. Hidaka;S. Izumi;S. Sakai

ドライエッチング中における真性応力に起因する微細パターン構造のうねり座屈予測

干法蚀刻过程中由于内应力引起的精细图案结构波纹屈曲的预测

• 发表时间: 2014
• 作者: H. Tanaka;M. Inoue;S. Izumi;S. Sakai;井上 優，田中 展，泉 聡志，酒井 信介;田中 展，日高 貴弘，井 上 優，泉 聡志，酒井 信介
• 通讯作者: 田中 展，日高 貴弘，井 上 優，泉 聡志，酒井 信介