Introduction of flux pinning centers into YBa2Cu3Oy superconducting films by inkjet printing technique
Introduction of flux pinning centers into YBa2Cu3Oy superconducting films by inkjet printing technique
批准号:
26600075
负责人:
Teranishi Ryo
金额:
$2.5万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
财政年份:
2014
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2014-04-01 至 2016-03-31
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Minimization of nanoparticle size of flux pinning centers in YBa2Cu3Oy films by TFA-MOD process
通过 TFA-MOD 工艺最小化 YBa2Cu3Oy 薄膜中助焊剂钉扎中心的纳米颗粒尺寸
DOI:
--
发表时间:
2014
期刊:
影响因子:
--
作者:
[R.Teranishi, K.Otaguro, T.Nishiyama, K.Yamada, K.Kaneko, M.Yoshizumi, T.Izumi]
通讯作者:
T.Izumi
Minimization of BaMO3 (M = Zr, Hf) flux pinning centers in YBa2Cu3Oy films by metal organic deposition process
通过金属有机沉积工艺最小化 YBa2Cu3Oy 薄膜中的 BaMO3 (M = Zr, Hf) 通量钉扎中心
DOI:
--
发表时间:
2015
期刊:
影响因子:
--
作者:
[R. Teranishi, H. Horita, K. Ootaguro, K. Yamada, K. Kaneko, T. Izumi]
通讯作者:
T. Izumi
インクジェットプリンターを利用したYBa2Cu3O7-x薄膜への磁束ピン止め点の配列導入
使用喷墨打印机将磁通量钉扎点阵列引入 YBa2Cu3O7-x 薄膜
DOI:
--
发表时间:
2016
期刊:
影响因子:
--
作者:
[片木世維, 平松和弥, 寺西亮, 山田和広, 金子賢治]
通讯作者:
金子賢治
Minimization of BaHfO3 Flux Pinning Centers in YBa2Cu3Oy Films by Metal Organic Deposition Process
通过金属有机沉积工艺最小化 YBa2Cu3Oy 薄膜中的 BaHfO3 通量钉扎中心
DOI:
--
发表时间:
2016
期刊:
IEEE TRANSACTIONS ON APPLIED SUPERCONDUCTIVITY
影响因子:
1.8
作者:
[Ryo Teranishi, Kenya Otaguro, Hiroshi Horita, Kazuhiro Yamada, Kenji Kaneko, Teruo Izumi, and Satoshi Awaji]
通讯作者:
and Satoshi Awaji
Size minimization of BaHfO3 flux pinning centers in YBa2Cu3Oy superconducting films by chemical solution deposition process
通过化学溶液沉积工艺最小化 YBa2Cu3Oy 超导薄膜中 BaHfO3 通量钉扎中心的尺寸
DOI:
--
发表时间:
2015
期刊:
影响因子:
--
作者:
[R. Teranishi, H. Horita, K. Ootaguro, K. Yamada, K. Kaneko, M. Yoshizumi, T. Izumi]
通讯作者:
T. Izumi
Thin film fabrication of isothermal power generation materials for the development of wireless power sources without requirement of power supply
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批准号:21K18831
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项目类别:Grant-in-Aid for Challenging Research (Exploratory)
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资助金额:$4.08万
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财政年份:2021
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负责人:Teranishi Ryo
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依托单位:
Development of defect repair method of superconducting film with damage of scratch
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批准号:19K22157
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项目类别:Grant-in-Aid for Challenging Research (Exploratory)
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资助金额:$4.16万
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财政年份:2019
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负责人:Teranishi Ryo
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依托单位:
海外基金