Development of electrode catalysts supported on fine particles alternative to Pt
Development of electrode catalysts supported on fine particles alternative to Pt
批准号:
26600093
负责人:
Tanaka Masatoshi
金额:
$2.5万
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
财政年份:
2014
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2014-04-01 至 2016-03-31
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DC マグネトロンスパッタリングによる窒化ジルコニウム薄膜の作製と物性
直流磁控溅射氮化锆薄膜的制备及物理性能
DOI:
--
发表时间:
2015
期刊:
影响因子:
--
作者:
[古澤将司, 石井裕樹, 加藤大輝, 岩田 寛, 関谷隆夫, 田中正俊, 岩田寛,岡田圭佑,石井裕樹,加藤大輝,関谷隆夫,田中正俊, 加藤大輝,石井裕樹,古澤将司,岩田寛,関谷隆夫,田中正俊, 石井裕樹,加藤大輝,古澤将司,岩田寛,関谷隆夫,田中正俊]
通讯作者:
石井裕樹,加藤大輝,古澤将司,岩田寛,関谷隆夫,田中正俊
反応性スパッタリングを用いた酸化ジルコニウム薄膜の作製と評価
反应溅射氧化锆薄膜的制备与评价
DOI:
--
发表时间:
2015
期刊:
影响因子:
--
作者:
[古澤将司, 石井裕樹, 加藤大輝, 岩田 寛, 関谷隆夫, 田中正俊, 岩田寛,岡田圭佑,石井裕樹,加藤大輝,関谷隆夫,田中正俊, 加藤大輝,石井裕樹,古澤将司,岩田寛,関谷隆夫,田中正俊]
通讯作者:
加藤大輝,石井裕樹,古澤将司,岩田寛,関谷隆夫,田中正俊
低ダメージスパッタリングカソードを用いた酸化、窒化ジルコニウム薄膜の作成
使用低损伤溅射阴极制备氧化和氮化锆薄膜
DOI:
--
发表时间:
2015
期刊:
影响因子:
--
作者:
[古澤将司, 石井裕樹, 加藤大輝, 岩田 寛, 関谷隆夫, 田中正俊]
通讯作者:
田中正俊
低ダメージスパッタカソードの開発と評価
低损伤溅射阴极的研制与评价
DOI:
--
发表时间:
2015
期刊:
影响因子:
--
作者:
[古澤将司, 石井裕樹, 加藤大輝, 岩田 寛, 関谷隆夫, 田中正俊, 岩田寛,岡田圭佑,石井裕樹,加藤大輝,関谷隆夫,田中正俊]
通讯作者:
岩田寛,岡田圭佑,石井裕樹,加藤大輝,関谷隆夫,田中正俊
DOI:
--
发表时间:
2015
期刊:
影响因子:
--
作者:
[H. Iwata, K. Okada, H. Ishii, D. Kato, T. Sekiya, M. Tanaka]
通讯作者:
M. Tanaka
Dynamics of the functions of biomolecular arrangements controlled by the potential at solid-liquid interfaces
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批准号:25286016
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
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资助金额:$11.32万
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财政年份:2013
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负责人:Tanaka Masatoshi
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依托单位: