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Thin film formation of refractory metals using mist CVD method
使用雾气 CVD 法形成难熔金属薄膜
基本信息
- 批准号：15K14181
- 负责人：
- 金额：$ 2.5万
- 依托单位：
- 依托单位国家：日本
- 项目类别：Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
- 财政年份：2015
- 资助国家：日本
- 起止时间：2015-04-01 至 2017-03-31
- 项目状态：已结题
- 来源：
- 关键词：
项目摘要
项目成果
期刊论文数量（1）
专著数量（0）
科研奖励数量（0）
会议论文数量（0）
专利数量（0）
ミスト CVD 法による炭化モリブデン薄膜の成膜と評価
雾气CVD法碳化钼薄膜的沉积与评价
- DOI：
- 发表时间：2016
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：吉田拓司;上野仁希;池之上卓己;三宅正男;平藤哲司
- 通讯作者：平藤哲司
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- 资助金额：
$ 2.5万 - 项目类别：
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- 批准号：
17K08175 - 财政年份：2017
- 资助金额：
$ 2.5万 - 项目类别：
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16K14382 - 财政年份：2016
- 资助金额：
$ 2.5万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
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16K05818 - 财政年份：2016
- 资助金额：
$ 2.5万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
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稀土纳米卷钼和钨氧化物的无有机合成
- 批准号：
16J07683 - 财政年份：2016
- 资助金额：
$ 2.5万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for JSPS Fellows