Thin film formation of refractory metals using mist CVD method

使用雾气 CVD 法形成难熔金属薄膜

基本信息

  • 批准号:
    15K14181
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 2.5万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
  • 财政年份:
    2015
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2015-04-01 至 2017-03-31
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

项目成果

期刊论文数量(1)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
ミスト CVD 法による炭化モリブデン薄膜の成膜と評価
雾气CVD法碳化钼薄膜的沉积与评价
  • DOI:
  • 发表时间:
    2016
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    吉田拓司;上野仁希;池之上卓己;三宅正男;平藤哲司
  • 通讯作者:
    平藤哲司
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