Thin film formation of refractory metals using mist CVD method
使用雾气 CVD 法形成难熔金属薄膜
基本信息
- 批准号:15K14181
- 负责人:
- 金额:$ 2.5万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
- 财政年份:2015
- 资助国家:日本
- 起止时间:2015-04-01 至 2017-03-31
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
项目成果
期刊论文数量(1)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
ミスト CVD 法による炭化モリブデン薄膜の成膜と評価
雾气CVD法碳化钼薄膜的沉积与评价
- DOI:
- 发表时间:2016
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:吉田拓司;上野仁希;池之上卓己;三宅正男;平藤哲司
- 通讯作者:平藤哲司
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