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Creation of thin films with non-equilibrium crystal structure by self-assembled hetero-epitaxy

Creation of thin films with non-equilibrium crystal structure by self-assembled hetero-epitaxy
自组装异质外延制备非平衡晶体结构薄膜
批准号:
26630362
负责人:
Matsuda Kenji
金额:
$2.41万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
财政年份:
2014
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2014-04-01 至 2017-03-31

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反応スパッタ法により作製したTiN/Ti-O-N積層膜の構造
反应溅射法制备TiN/Ti-O-N多层薄膜的结构
DOI: --
发表时间: 2017
期刊:
影响因子: --
作者: [村岡 雄介, 李 昇原, 松田 健二, 野瀬 正照, 池野 進]
通讯作者: 池野 進
Microstructure and optical property of titanium oxynitride coatings
氮氧化钛涂层的显微结构和光学性能
DOI: --
发表时间: 2016
期刊:
影响因子: --
作者: [Yusuke Muraoka, Seungwon Lee, Kenji Matsuda, Masateru Nose]
通讯作者: Masateru Nose
AlN/Al2O3積層膜の構造に及ぼすスパッタ条件の影響
溅射条件对AlN/Al2O3叠层薄膜结构的影响
DOI: --
发表时间: 2014
期刊:
影响因子: --
作者: [坪田正道, 佐藤誉将, 後藤慎弥, 足立佳亮, 松田健二, 野瀬正照]
通讯作者: 野瀬正照
Effect of sputtering conditions on structure of titanium oxynitride coatings
溅射条件对氮氧化钛涂层结构的影响
DOI: --
发表时间: 2016
期刊:
影响因子: --
作者: [Yusuke Muraoka, Seungwon Lee, Kenji Matsuda, Masateru Nose]
通讯作者: Masateru Nose
共 7 条
    Development of new cancer immunotherapy focused on the subset of dendritic cell
    • 批准号:
      15K10146
    • 项目类别:
      Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
    • 资助金额:
      $2.75万
    • 财政年份:
      2015
    • 负责人:
      Matsuda Kenji
    • 依托单位:
    国内基金
    海外基金
    Ti3C2Tx/TiO2异质结构界面缺陷修饰、气体传感应用及其动态载流子机制研究
    • 批准号:
      2026JJ50489
    • 项目类别:
      省市级项目
    • 资助金额:
      --
    • 批准年份:
      2026
    • 负责人:
      周云
    • 依托单位:
    氧化物修饰TiO2异质结的制备及光催化降解染料废水的研究
    • 批准号:
      2025JJ70371
    • 项目类别:
      省市级项目
    • 资助金额:
      --
    • 批准年份:
      2025
    • 负责人:
      许军娜
    • 依托单位:
    构建分子氧吸附—活化增效的TiO2/钙钛矿S型异质结及其光催化合成H2O2协同污染物降解机制研究
    • 批准号:
      22568002
    • 项目类别:
      地区科学基金项目
    • 资助金额:
      32.00万元
    • 批准年份:
      2025
    • 负责人:
      王珊
    • 依托单位:
    ABC转运蛋白响应TiO2胁迫红法夫酵母虾青素积累的作用机制
    • 批准号:
      32502156
    • 项目类别:
      青年科学基金项目(C类)
    • 资助金额:
      30.00万元
    • 批准年份:
      2025
    • 负责人:
      张晶
    • 依托单位: