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Direct Laser-Writer, maskless optical lithography system

直接激光刻录机、无掩模光学光刻系统

基本信息

批准号：
401071323
负责人：
金额：
--
依托单位：
Rheinisch-Westfälische Technische Hochschule Aachen
依托单位国家：
德国
项目类别：
Major Research Instrumentation
财政年份：
2018
资助国家：
德国
起止时间：
2017-12-31 至无数据
项目状态：
未结题

来源：
https://gepris.dfg.de/gepris/projekt/401071323?language=en
关键词：
Direct Laser Writer maskless optical

项目摘要

Wir beantragen ein direkt Laser-Writer maskenloses Lithographiegerät als Ergänzung der Nanofabrikationseinrichtungen des Institutes und eines derzeit im Ausbau befindlichen zentralen Reinraumlabors (Central Laboratory for Micro- and Nanotechnology, CMNT, www.cmnt.rwth-aachen.de). Derzeit verfügen wir über sogenannte Mask-Aligner für die optische Lithographie, die allerdings immer eine Chrom-Maske benötigen. Um flexible Entwicklung durchzuführen und um z.B. Nanostrukturen wie 2D Materialien (die zum größten Teil willkürlich auf Substraten zur elektrischen Untersuchung platziert werden) individuell ankontaktieren zu können, wird zurzeit eine Elektronstrahllithographie-Anlage verwendet. Diese ist allerdings prinzipbedingt nicht für die Lithographie größerer Strukturen gemacht, und ist dadurch zurzeit extrem ausgelastet (zwischen 17-18h durchschnittlich am Tag bei einer 7-Tage Woche). Eine maskenlose, flexible Lithographieanlage würde in idealer Weise die existierenden Anlagen ergänzen und die Forschungs- und Entwicklungsarbeiten entscheidend beschleunigen. Die beantragte Anlage ist zudem die einzige Möglichkeit auf Substraten von 6“ quadratisch und größer Lithographie an Der RWTH Aachen durchzuführen. Zudem würde das beantragte Gerät die Elektronenstrahllithographie entlasten; die frei werdenden Zeitkontingente können dann anderen Gruppen zur Verfügung gestellt werden. Die neue Anlage wird zunächst vornehmlich durch mehrere Gruppen der Elektrotechnik und Physik genutzt, wird aber über CMNT weiteren Nutzern zugänglich sein.

Wir Beantragen ein Direkt激光-Writer面具失去了光刻师Als Ergänzung der Nanofrikingsein richtungen des Institutes and eines derzeit in Ausbau befindlichen zentalen ReinraumLabors(微纳技术中心实验室，CMNT，www.cmnt.rwth-aachen.de)。Derzeit Verfügen Wirüber SOGENANTE MASK-ALIGNER Für die Optische平版印刷，模压敏感度imer eine Chrom-Maske Bentigen。我们的二维材料是一种新型的纳米材料，这种材料具有很强的柔韧性和可塑性。这是一种常见的过敏性印刷方法，但不适用于平版印刷，也不适用于zurzeit的极端印刷(zwitchen 17-18h ddchschnittlich am tag be einer 7-Tage Woche)。一种掩模版、柔性光刻技术在理想化的环境中的应用。这是一种全新的平版印刷技术，它可以在6英寸的底片上平版。这是一种以平版印刷为主的平版印刷技术。新的技术和物理技术，以及新的技术和物理技术，都是我们的理想之选。