Direct Laser-Writer, maskless optical lithography system

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Wir beantragen ein direkt Laser-Writer maskenloses Lithographiegerät als Ergänzung der Nanofabrikationseinrichtungen des Institutes und eines derzeit im Ausbau befindlichen zentralen Reinraumlabors (Central Laboratory for Micro- and Nanotechnology, CMNT, www.cmnt.rwth-aachen.de). Derzeit verfügen wir über sogenannte Mask-Aligner für die optische Lithographie, die allerdings immer eine Chrom-Maske benötigen. Um flexible Entwicklung durchzuführen und um z.B. Nanostrukturen wie 2D Materialien (die zum größten Teil willkürlich auf Substraten zur elektrischen Untersuchung platziert werden) individuell ankontaktieren zu können, wird zurzeit eine Elektronstrahllithographie-Anlage verwendet. Diese ist allerdings prinzipbedingt nicht für die Lithographie größerer Strukturen gemacht, und ist dadurch zurzeit extrem ausgelastet (zwischen 17-18h durchschnittlich am Tag bei einer 7-Tage Woche). Eine maskenlose, flexible Lithographieanlage würde in idealer Weise die existierenden Anlagen ergänzen und die Forschungs- und Entwicklungsarbeiten entscheidend beschleunigen. Die beantragte Anlage ist zudem die einzige Möglichkeit auf Substraten von 6“ quadratisch und größer Lithographie an Der RWTH Aachen durchzuführen. Zudem würde das beantragte Gerät die Elektronenstrahllithographie entlasten; die frei werdenden Zeitkontingente können dann anderen Gruppen zur Verfügung gestellt werden. Die neue Anlage wird zunächst vornehmlich durch mehrere Gruppen der Elektrotechnik und Physik genutzt, wird aber über CMNT weiteren Nutzern zugänglich sein.