Evaporations- und Sputteranlage zur Herstellung dünner Schichten

用于生产薄层的蒸发和溅射系统

• 批准号: 409597546
• 金额: --
• 依托单位: Ludwig-Maximilians-Universität München (LMU)
• 依托单位国家: 德国
• 项目类别: Major Research Instrumentation
• 财政年份: 2018
• 资助国家: 德国
• 起止时间: 2017-12-31 至 无数据
• 项目状态: 未结题
• 来源: https://gepris.dfg.de/gepris/projekt/409597546?language=en
• 关键词: Evaporations; und; Sputteranlage; zur; Herstellung

Unsere Forschung im Bereich der Plasmonik beruht auf der Nanostrukturierung von dünnen Schichten und der Herstellung von einzelnen Strukturen mit Abmessungen im Nanometerbereich. Dazu ist es unbedingt erforderlich, dünne Schichten aus einer Vielzahl von Metallen und amorphen Dielektrika mit hoher Qualität abscheiden zu können. Weiterhin wichtig ist die Möglichkeit der Herstellung von vertikalen Schichtanordnungen ohne Unterbrechung des zur Abscheidung nötigen Vakuums. Das in diesem Antrag beschriebene kombinierte System zur Evaporation und zum Sputtering von Materialien ermöglicht dies mit höchster Qualität, und wird in einem von der Gruppe geleiteten 170 Quadratmeter umfassenden Reinraum in dem neuen Nanoinstitut München der LMU untergebracht werden. Kombination mit einer Elektronenstrahllithographieanlage ermöglicht dann die Herstellung von Nanostrukturen durch einen lift-off Prozess. Die Notwendigkeit der Anschaffung ergibt sich zudem insbesondere durch den Umzug meiner Forschergruppe vom Imperial College London an die LMU, was einen Neuaufbau unserer Infrastruktur zur Nanofabrikation mit sich bringt. Die hier beantragte Gerätekombination stellt des Weiteren einen Teil der mir zugesagten Erstausstattung meiner Labore in dem neuen Institut dar. Unsere gesamte Forschung auf dem Gebiet der Plasmonik mit Metallen und Nanophotonik mit amorphen Dielektrika ist ohne den Aufbau dieses Vakuumsystems nicht möglich.

研究纳米结构与纳米结构的关系；研究纳米结构与纳米结构的关系。大同小异：1 .大同小异：1 .大同小异：1 .大同小异：1 .大同小异：1 .大同小异：1 .大同小异：1 .大同小异：1 .大同小异：1 .大同小异：1 .大同小异：1 .大同小异：1 .大同小异：1 .大同小异：1 .大同小异：1 .大同小异：1。研究方向：真空与真空的关系Möglichkeit与真空与真空的关系。as in diesem Antrag beschriebene kombinierte System zur蒸发和zum溅射von Materialien ermöglicht dies mit höchster Qualität， und nd in einem von der Gruppe geleiteten 170 Quadratmeter umfassenden Reinraum in dem neuen Nanoinstitut mnchen der LMU untergebracht werden。电子辐照光刻成像技术的结合ermöglicht和Herstellung纳米光刻技术的结合。来自伦敦帝国理工学院和LMU的研究团队合作完成了一项名为“基础设施与纳米制造”的研究。Die hier beantragte Gerätekombination stellt des Weiteren enenen Teil der der zugesagten Erstausstattung meer laborer in dem neen Institut dar。[2][1][1][1][1][1][1][1][1][1][1][1][1][1]。