Evaporations- und Sputteranlage zur Herstellung dünner Schichten

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Unsere Forschung im Bereich der Plasmonik beruht auf der Nanostrukturierung von dünnen Schichten und der Herstellung von einzelnen Strukturen mit Abmessungen im Nanometerbereich. Dazu ist es unbedingt erforderlich, dünne Schichten aus einer Vielzahl von Metallen und amorphen Dielektrika mit hoher Qualität abscheiden zu können. Weiterhin wichtig ist die Möglichkeit der Herstellung von vertikalen Schichtanordnungen ohne Unterbrechung des zur Abscheidung nötigen Vakuums. Das in diesem Antrag beschriebene kombinierte System zur Evaporation und zum Sputtering von Materialien ermöglicht dies mit höchster Qualität, und wird in einem von der Gruppe geleiteten 170 Quadratmeter umfassenden Reinraum in dem neuen Nanoinstitut München der LMU untergebracht werden. Kombination mit einer Elektronenstrahllithographieanlage ermöglicht dann die Herstellung von Nanostrukturen durch einen lift-off Prozess. Die Notwendigkeit der Anschaffung ergibt sich zudem insbesondere durch den Umzug meiner Forschergruppe vom Imperial College London an die LMU, was einen Neuaufbau unserer Infrastruktur zur Nanofabrikation mit sich bringt. Die hier beantragte Gerätekombination stellt des Weiteren einen Teil der mir zugesagten Erstausstattung meiner Labore in dem neuen Institut dar. Unsere gesamte Forschung auf dem Gebiet der Plasmonik mit Metallen und Nanophotonik mit amorphen Dielektrika ist ohne den Aufbau dieses Vakuumsystems nicht möglich.