エコ・エレクトロニクス材料β―FeSi_2バルク単結晶の育成とその応用
エコ・エレクトロニクス材料β―FeSi_2バルク単結晶の育成とその応用
批准号:
12750256
负责人:
鵜殿 治彦
金额:
$1.34万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
财政年份:
2000
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2000 至 2001
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昨年度までに半導体鉄シリサイド,β-FeSi_2,単結晶をGa溶液から成長することに成功し,その育成条件,電気的特性,化学的特性について明らかにした。これに加えて本年度新たに得られた主な成果は下記の通りである。1.β-FeSi_2,単結晶をGa溶媒の他にZn溶媒,Sn溶媒からも成長できることを見いだした。またこうした実験から,数多くの金属溶媒からβ-FeSi_2,単結晶が成長できることがわかった。2.成長溶媒によって結晶中の不純物が異なり,伝導型,キャリア濃度の制御が可能であることが判った。Ga溶媒を用いるとp型で0.03Ωcm程度の低抵抗の結晶,Zn溶媒を用いるとp型で〜10Ωcm程度の結晶,さらにSn溶媒を用いるとn型で数Ωcm程度の結晶が再現性良く成長できることが判った。3.低抵抗のβ-FeSi_2,単結晶は室温から100K程度まで高い導電率を示すことから,高いゼーベック係数と併せて,新たに低温度領域での熱電変換素子としての利用が期待できることが判った。β-FeSi_2,は毒性が無く豊富な材料を用いているため汎用に用いる場合に非常に有用な材料と考えられる。4.β-FeSi_2,の結晶をカーボン面に成長させることで大型の結晶が成長できることを明らかにした。実験では内径10mmのアンプルを用いているため,最大の結晶サイズは10mmφである。5.β-FeSi_2,単結晶の硬度をビッカース硬度計で測定し,Si単結晶とほぼ同じ硬さを持つことを初めて明らかにした。6.β-FeSi_2,単結晶を薄膜化する技術を開発し,単結晶を用いた光透過測定を初めて行った,その結果,これまで薄膜結晶で報告されている多くの実験結果と異なり,β-FeSi_2,は間接遷移型半導体であることを明らかにした。
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Haruhiko Udono and Isao Kikuma: "Observation of Etch Pits of β-FeSi_2 SingleCrystals"Jpn.J.Appl.Phys.. (to be published). (2001)
Haruhiko Udono 和 Isao Kikuma:“β-FeSi_2 SingleCrystals 蚀刻坑的观察”Jpn.J.Appl.Phys..(待出版)。
DOI:
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发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
Haruhiko Udono, Isao Kikuma: "β-FeSi_2 Single Crystals Grown from Solution"Jpn.J.Appl.Phys.. Vol.40,No3A. 1367-1369 (2001)
Haruhiko Udono、Isao Kikuma:“从溶液中生长的 β-FeSi_2 单晶”Jpn.J.Appl.Phys.. Vol.40,No3A(2001)。
DOI:
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发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
Haruhiko Udono, Shinobu Takaku, Isao Kikuma: "Crystal Growth of β-FeSi_2 by Temperature Gradient Solution Growth Method using Zn-Solvent"J.Crystal Growth(to be published). (2002)
Haruhiko Udono、Shinobu Takaku、Isao Kikuma:“使用 Zn 溶剂通过温度梯度溶液生长法进行 β-FeSi_2 的晶体生长”J.Crystal Growth(待出版)。
DOI:
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发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
Haruhiko Udono, Isao Kikuma: "β-FeSi_2 Bulk Crystals Grown by the Temperature Gradient Solution Growth Method using Ga Solvent"Proceeding of Japan-UK joint workshop on Kankyo-Semiconductors,Tukuba. 3-5 (2000)
Haruhiko Udono、Isao Kikuma:“使用 Ga 溶剂通过温度梯度溶液生长法生长的 β-FeSi_2 块状晶体”日本-英国 Kankyo-Semiconductor 联合研讨会论文集,Tukuba 3-5 (2000)。
DOI:
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发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
Haruhiko Udono, Isao Kikuma: "Chemical Etchant of β-FeSi_2 Bulk Crystals Grown from Solution"Abstract Book of the 1^<st> Asian Conference on Crystal Growth and Crystal Technology. 289-289 (2000)
Haruhiko Udono、Isao Kikuma:“Chemical Etchant of β-FeSi_2 Bulk Crystals Grown from Solution”第一届亚洲晶体生长和晶体技术会议摘要书 289-289 (2000)。
DOI:
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发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
共 9 条
データ駆動科学によるシリサイド大型結晶開発と高効率熱光発電セルへの応用
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批准号:23K26134
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
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资助金额:$5.99万
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财政年份:2024
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负责人:鵜殿 治彦
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依托单位:
データ駆動科学によるシリサイド大型結晶開発と高効率熱光発電セルへの応用
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批准号:23H01440
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
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资助金额:$12.15万
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财政年份:2023
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负责人:鵜殿 治彦
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依托单位:
単結晶ベータ鉄シリサイドを用いた冷熱ー電気エネルギー変換の研究
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批准号:18760228
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项目类别:Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
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资助金额:$2.37万
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财政年份:2006
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负责人:鵜殿 治彦
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依托单位:
エコ・エレクトロニクス材料β-FeSi_2単結晶の育成と高感度近赤外センサの開発
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批准号:16760243
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项目类别:Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
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资助金额:$1.98万
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财政年份:2004
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负责人:鵜殿 治彦
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依托单位:
エコ・エレクトロニクス材料β-FeSi_2単結晶の育成と高感度赤外検出器への応用
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批准号:14750224
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项目类别:Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
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资助金额:$2.62万
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财政年份:2002
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负责人:鵜殿 治彦
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依托单位:
海外基金