スピネル型構造を有するリチウムインサーション酸化物材料の電子状態に関する研究
スピネル型構造を有するリチウムインサーション酸化物材料の電子状態に関する研究
批准号:
12750730
负责人:
内本 喜晴
金额:
$1.54万
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
财政年份:
2000
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2000 至 2001
中文摘要
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英文摘要
5V級の正極活物質として注目されているLiCr_yMn<2-y>O_4およびLiNi_yMn_<2-y>O_4について、リチウムイオンのデインターカレーションに伴う電子構造の変化をX線吸収微細構造によって明らかにした。LiCr_<0.5>Mn_<1.5>O_4においてLiの量を電気化学的手法により変えた試料についてMnおよびCrのL殻XANES測定、酸素K殻XANES測定を行った。Mn-L殻XANES測定より、3価のMnのピークは電位が上昇するにつれ減少するが、4.7V以上の試料では変化を示さない。従って4.1V付近の第一段目の平坦部はリチウムの挿入脱離に際しMnの3価/4価間の酸化還元反応が起こっており、4.9V付近の2段目の平坦部において、Mnは電極反応に関与していないことが明らかとなった。Cr-L殻XANES測定の結果、4.8V以上で反応に関与しているのはCrであり、3価のCrがさらに4価になっていることが確認された。一方、Niをドープした場合には、酸素K殻XANES測定を行った結果、最もエネルギーの低いMn 3d, Ni 3dと混成したバンドに対応する527eV付近のピークが4.8V以上で低エネルギー側にシフトし、正孔がさらに酸素2p軌道に導入されたことを意味している。つまり、電荷補償は正孔が主に酸素のpバンドに入ることによって行われていることが示唆された。3d遷移金属をドープした5V級正極活物質において、NiとCrをドープした系で正孔の挙動が異なるのは、NiがCrに比べ核電荷が多く、d軌道エネルギーが低下し、P軌道と最高占有d軌道が逆転するためと考えられる。
期刊论文(3)
专著(0)
科研奖励(0)
会议论文
内本: "Changes in Electronic Structure by Li Ion Deintercalation in LiNiO_2 from Nickel L-edge and O K-edge"J. Power Sources. 97-98. 326 (2001)
Uchimoto:“LiNiO_2 中镍 L 边和 O K 边脱嵌导致的电子结构变化”J. 97-98。
DOI:
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发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
内本: "Changes in Electronic Structure by Li Ion Deintercalation in LiCoO_2 from Cobalt L-edge and Oxygen K-edge"J. Synchrotron Rad.. 8. 872 (2001)
内本:“钴 L 边和氧 K 边的 LiCoO_2 中锂离子脱嵌导致的电子结构变化”J. Synchrotron Rad.. 8. 872 (2001)
DOI:
--
发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
貴金属フリーな直接メタノール型燃料電池用電極触媒のコンビナトリアル開発
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批准号:14655318
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项目类别:Grant-in-Aid for Exploratory Research
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资助金额:$1.79万
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财政年份:2002
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负责人:内本 喜晴
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依托单位:
混合導電性酸化物緻密薄膜電極を用いた高温固体電解質型燃料電池電極反応の解明
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批准号:09750902
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项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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资助金额:$1.41万
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财政年份:1997
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负责人:内本 喜晴
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依托单位:
非平衡プラズマプロセスを用いた有機傾斜機能性薄膜材料の開発
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批准号:08243232
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
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资助金额:$1.47万
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财政年份:1996
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负责人:内本 喜晴
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依托单位:
溶融塩電解法を用いたイットリア安定化ジルコニア薄膜の作製
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批准号:03750603
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项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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资助金额:$0.58万
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财政年份:1991
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负责人:内本 喜晴
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依托单位:
プラズマ重合法によるシングルイオン伝導性高分子固体電解質薄膜の作製
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批准号:01750759
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项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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资助金额:$0.58万
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财政年份:1989
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负责人:内本 喜晴
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依托单位:
プラズマ重合によるイオン導電性有機薄膜の作製
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批准号:63750790
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项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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资助金额:$0.58万
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财政年份:1988
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负责人:内本 喜晴
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依托单位:
海外基金