キャピラリーグロー放電発光分析による水素吸蔵材料中の水素の3次元分布解析
キャピラリーグロー放電発光分析による水素吸蔵材料中の水素の3次元分布解析
批准号:
15656176
负责人:
辻 幸一
金额:
$2.24万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Exploratory Research
财政年份:
2003
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2003 至 2004
中文摘要
グリム型グロー放電管を試作し、今回の科研費により高圧電源、ガス配管、真空計などを購入した。現有の分光器を取り付け、グロー放電プラズマを励起源とする発光分析が可能となった。さらに、リング状の放電管も試作し、この放電管に高電圧を印加させることにより、X線源としての可能性も探った。(1)アルゴン-水素グロー放電を励起源とする発光分析通常は発光源としてのグロー放電プラズマにはアルゴンガスが使用される。この場合、カソード(試料)表面では物理的なスパッタリング現象が生じている。一方、水素を添加することにより水素による化学的なスパッタリング(エッチング)が生じることが知られている。そこで、鉄鋼中の炭素の分析に注目してアルゴン-水素グロー放電の発光分析を試みた。ガス圧、ガスの混合比、印加電圧など、様々な条件を変えながら最適な条件を探った。ある条件では炭素の原子線よりも分析条件の良い場合があることが分かった。(2)リング状グロー放電管の試作従来のグロー放電管は平行・平板の電極からなる放電管であったり、グリム型と呼ばれる平板・中空陽極からなる放電管であった。今回、リング状のグロー放電管を試作することに成功した。さらに、グロー放電プラズマにおける高速電子を電子源として利用することによりリング状のX線管へと改良することを計画している。実際、数kV程度であれば、安定な放電が得られ、X線の発生も確認できた。今後、さらに高電圧を印加した際の放電の安定性を高めていく改良が必要である。
英文摘要
グリム型グロー放電管を試作し、今回の科研費により高圧電源、ガス配管、真空計などを購入した。現有の分光器を取り付け、グロー放電プラズマを励起源とする発光分析が可能となった。さらに、リング状の放電管も試作し、この放電管に高電圧を印加させることにより、X線源としての可能性も探った。(1)アルゴン-水素グロー放電を励起源とする発光分析通常は発光源としてのグロー放電プラズマにはアルゴンガスが使用される。この場合、カソード(試料)表面では物理的なスパッタリング現象が生じている。一方、水素を添加することにより水素による化学的なスパッタリング(エッチング)が生じることが知られている。そこで、鉄鋼中の炭素の分析に注目してアルゴン-水素グロー放電の発光分析を試みた。ガス圧、ガスの混合比、印加電圧など、様々な条件を変えながら最適な条件を探った。ある条件では炭素の原子線よりも分析条件の良い場合があることが分かった。(2)リング状グロー放電管の試作従来のグロー放電管は平行・平板の電極からなる放電管であったり、グリム型と呼ばれる平板・中空陽極からなる放電管であった。今回、リング状のグロー放電管を試作することに成功した。さらに、グロー放電プラズマにおける高速電子を電子源として利用することによりリング状のX線管へと改良することを計画している。実際、数kV程度であれば、安定な放電が得られ、X線の発生も確認できた。今後、さらに高電圧を印加した際の放電の安定性を高めていく改良が必要である。
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Z.Spolnik, K.Tsuji, etc.: "Quantitative analysis of metallic ultra-thin films by grazing-exit electron probe x-ray microanalysis"X-Ray Spectrometry. 31. 178-183 (2002)
Z.Spolnik、K.Tsuji等:“通过掠射电子探针X射线微量分析对金属超薄膜进行定量分析”X射线光谱法。
DOI:
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发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
Micro-XRF Instrument Developed in Combination with Atomic Force Microscope
与原子力显微镜结合开发的微型 XRF 仪器
DOI:
--
发表时间:
2005
期刊:
Powder Diffraction 20
影响因子:
--
作者:
[K.Tsuji, T.Emote, Y.Matsuoka, Y.Miyatake, T.Nagamura X.Ding]
通讯作者:
T.Nagamura X.Ding
Z.Spolnik, K.Tsuji, etc.: "Grazing-exit electron probe x-ray microanalysis of ultra-thin films and single particles"Anal. Chim. Acta. 455. 245-252 (2002)
Z.Spolnik、K.Tsuji等:“超薄膜和单颗粒的掠射电子探针X射线显微分析”。
DOI:
--
发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
Characterization of X-rays emerging from between reflector and sample carrier in reflector-assisted TXRF analysis.
反射器辅助 TXRF 分析中反射器和样品载体之间出现的 X 射线的表征。
DOI:
--
发表时间:
2005
期刊:
X-Ray Spectrom (印刷中)
影响因子:
--
作者:
[T.Tetsuoka, T.Nagamura]
通讯作者:
T.Nagamura
J.Injuk, K.Tsuji, etc.: "Airborne particles in the Miyagi Museum of Art in Sendai, Japan, Studied by Electron Probe X-Ray Microanalysis"Anal. Sci.. 18. 561-566 (2002)
J.Injuk、K.Tsuji等:《日本仙台宫城美术馆的空气中粒子,通过电子探针X射线显微分析进行研究》分析。
DOI:
--
发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
共 14 条
新規蛍光X線元素イメージング法の開発と電気化学反応のオペランド解析
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批准号:23K23376
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
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资助金额:$1.5万
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财政年份:2024
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负责人:辻 幸一
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依托单位:
Development of new XRF imaging for operando analysis of electrochemical reactions
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批准号:22H02108
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
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资助金额:$11.23万
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财政年份:2022
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负责人:辻 幸一
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依托单位:
ナノテクノロジーと超微量分析のための新しいグロー放電デバイスの設計と開発
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批准号:04F04126
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项目类别:Grant-in-Aid for JSPS Fellows
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资助金额:$1.54万
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财政年份:2004
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负责人:辻 幸一
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依托单位:
斜入射X線照射下-プラズマプロセスの可視・紫外・X線分光によるその場解析
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批准号:09750805
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项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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资助金额:$1.6万
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财政年份:1997
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负责人:辻 幸一
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依托单位:
斜入射・斜出射蛍光X線分析法による化学気相成長プロセスのその場測定
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批准号:06650035
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项目类别:Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
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资助金额:$1.28万
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财政年份:1994
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负责人:辻 幸一
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依托单位:
蛍光X線強度の取り出し角分布測定による金属薄膜ならびに基板界面の非破壊分析
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批准号:05750021
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项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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资助金额:$0.58万
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财政年份:1993
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负责人:辻 幸一
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依托单位:
海外基金