スピンバッテリーの強磁性共鳴を用いた動作実証
スピンバッテリーの強磁性共鳴を用いた動作実証
批准号:
16656003
负责人:
久保田 均
金额:
$2.24万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Exploratory Research
财政年份:
2004
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2004 至 2005
中文摘要
本年度は強磁性共鳴によるスピンバッテリーの動作を実証するために,下記の二種類の素子を作製してその素子評価を行った.(1)強磁性体/非磁性体/強磁性体によるスピン注入とスピン緩和強磁性体(CoFe,5nm)/非磁性体(Cu,5nm)/強磁性体(F,5nm)積層構造を作製し,強磁性共鳴を用いてスピン注入を行った.ここでFはCoFeB,Co_2MnAl,NiFeと変化させた.印加磁界強度を変化させることにより個々の強磁性体を独自に共鳴させることができるため,任意の方向へのスピン注入が実現できた.このときの強磁性体の共鳴線幅の変化から中間の非磁性体に注入されたスピンの緩和を評価した.スピンエミッタがCoFeの場合,対向電極がCoFeB,Co_2MnAl,NiFeの順で共鳴線幅が減少し,スピン蓄積量が増大することがわかった.またNiFeの膜厚を変化させたときの共鳴線幅の変化を測定し,NiFe内のスピン拡散長が3nmであることを実験的に示した.これらの結果より,積層構造の最適化によりスピンバッテリーは原理的に実現可能であることを明らかにした.(2)平面構造CoFeB/I/Al_<94>Si_6/I/CoFeB二重接合による非局所スピン注入Al_<94>Si_6を下部電極とする平面構造CoFeB/I/Al_<94>Si_6/I/CoFeB二重接合を作製した.電子線リソグラフィによる高品位微細素子作製技術を確立し,150nmx250nmの接合面積において7x10^3Ωμmの抵抗を持つ素子を作製することに成功した.この素子において上部CoFeB第一電極からのAl_<94>Si_6電極への非局所スピン注入による電圧変化を上部CoFeB第二電極により測定することに成功した.
英文摘要
本年度は強磁性共鳴によるスピンバッテリーの動作を実証するために,下記の二種類の素子を作製してその素子評価を行った.(1)強磁性体/非磁性体/強磁性体によるスピン注入とスピン緩和強磁性体(CoFe,5nm)/非磁性体(Cu,5nm)/強磁性体(F,5nm)積層構造を作製し,強磁性共鳴を用いてスピン注入を行った.ここでFはCoFeB,Co_2MnAl,NiFeと変化させた.印加磁界強度を変化させることにより個々の強磁性体を独自に共鳴させることができるため,任意の方向へのスピン注入が実現できた.このときの強磁性体の共鳴線幅の変化から中間の非磁性体に注入されたスピンの緩和を評価した.スピンエミッタがCoFeの場合,対向電極がCoFeB,Co_2MnAl,NiFeの順で共鳴線幅が減少し,スピン蓄積量が増大することがわかった.またNiFeの膜厚を変化させたときの共鳴線幅の変化を測定し,NiFe内のスピン拡散長が3nmであることを実験的に示した.これらの結果より,積層構造の最適化によりスピンバッテリーは原理的に実現可能であることを明らかにした.(2)平面構造CoFeB/I/Al_<94>Si_6/I/CoFeB二重接合による非局所スピン注入Al_<94>Si_6を下部電極とする平面構造CoFeB/I/Al_<94>Si_6/I/CoFeB二重接合を作製した.電子線リソグラフィによる高品位微細素子作製技術を確立し,150nmx250nmの接合面積において7x10^3Ωμmの抵抗を持つ素子を作製することに成功した.この素子において上部CoFeB第一電極からのAl_<94>Si_6電極への非局所スピン注入による電圧変化を上部CoFeB第二電極により測定することに成功した.
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Time-resolved magnetization precession and reversal dynamics investigated using tunneling current and Kerr effect
使用隧道电流和克尔效应研究时间分辨磁化进动和反转动力学
DOI:
--
发表时间:
2004
期刊:
Journal of Magnetism and Magnetic Materials 272-276
影响因子:
--
作者:
[E.Toratani, M.Kamata, M.Obara, Y.Ohtera, T.Sato, T.Aoyama, S.Kawakami, Yasuo Ando]
通讯作者:
Yasuo Ando
CO+NH_3 plasma etching for magnetic thin films
磁性薄膜的CO NH_3等离子体刻蚀
DOI:
--
发表时间:
2004
期刊:
Journal of Magnetism and Magnetic Materials 272-276
影响因子:
--
作者:
[E.S.Otabe, I.Kohno, M.Kiuchi, T.Matsushita, T.Nomura, T.Motohashi, M.Karppinen, H.Yamauchi, S.Okayasu, Y.Sasaki, Hitoshi Kubota]
通讯作者:
Hitoshi Kubota
Co_2MnAl ホイスラー合金を用いた強磁性トンネル接合
使用Co_2MnAl Heusler合金的铁磁隧道结
DOI:
--
发表时间:
2004
期刊:
日本応用磁気学会誌 28
影响因子:
--
作者:
[Miyaura, N., K.Kuratani, T.Asari, 中田 淳]
通讯作者:
中田 淳
DOI:
10.1143/jjap.43.l984
发表时间:
2004-07
期刊:
Japanese Journal of Applied Physics
影响因子:
1.5
作者:
[H. Kubota;J. Nakata;M. Oogane;Y. Ando;A. Sakuma;T. Miyazaki]
通讯作者:
H. Kubota;J. Nakata;M. Oogane;Y. Ando;A. Sakuma;T. Miyazaki
DOI:
--
发表时间:
2004
期刊:
J.Magn.Magn.Mater. 272-276
影响因子:
--
作者:
[K.Hamamoto, Y.Tanaka, T.Watanabe, N.Sakaya, M.Hosoya, T.Shoki, H.Sugahara, N.Hishinuma, H.Hada, H.Kinoshita, T.Niizeki]
通讯作者:
T.Niizeki
共 24 条
Development of artificial intelligence hardware using magnetic tunnel junctions
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批准号:20H05655
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (S)
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资助金额:$128.54万
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财政年份:2020
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负责人:久保田 均
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依托单位:
ナノサイズマイクロ波デバイスのためのスピントルク発振素子の研究
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批准号:23246008
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
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资助金额:$17.64万
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财政年份:2011
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负责人:久保田 均
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依托单位:
メゾスコピック磁性薄膜素子における静的及び動的磁化過程の直接観察
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批准号:09750003
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项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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资助金额:$1.6万
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财政年份:1997
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负责人:久保田 均
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依托单位:
酸化物絶縁体超薄膜の生成とトンネル効果を利用した量子スピンデバイスの基礎研究
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批准号:07750002
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项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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资助金额:$0.7万
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财政年份:1995
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负责人:久保田 均
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依托单位:
海外基金