アルゴンに起因する分子スペクトル干渉抑制のための酸素ICP質量分析法の研究
氧ICP质谱抑制氩分子光谱干扰的研究
基本信息
- 批准号:05650811
- 负责人:
- 金额:$ 0.83万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
- 财政年份:1993
- 资助国家:日本
- 起止时间:1993 至 无数据
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
比較的低電力の高周波電源(27.12MHz、2kW max.)を用いて、酸素および窒素プラズマの生成を試みた。アルゴンプラズマを生成させた後、徐々にアルゴンから酸素あるいは窒素へ置換を行った。ロードコイル及びマッチング回路の一部を変更することにより、1.8kWの高周波電力で、外側およびキャリアーガスをアルゴンから酸素もしくは窒素へ100%置換することが可能であった。しかしながら、中間ガスについては、酸素の場合で約60%まで置換することができたものの、完全な置換は不可能であった。これらの外側およびキャリアーガスをアルゴンから酸素もしくは窒素へ100%置換したプラズマをイオン源として質量分析を行った。これらのプラズマを用いた場合の検出下限は、イオン化ポテンシャルが6.5eVよりも低い元素についてはアルゴンプラズマの場合とほぼ同程度もしくは低くなった。しかし、イオン化ポテンシャルが6.5eVを越えるような元素では検出下限が高くなり、その度合いは測定元素のイオン化ポテンシャルに依存する傾向がみられた。また、酸素プラズマと窒素プラズマを比較した場合、多くの元素で酸素プラズマの方が検出下限が低くなった。高い電力を用いた酸素ならびに窒素プラズマにおいて、酸素プラズマの方が高い温度が観測されることが報告されており、酸素プラズマで検出下限が低くなったのは、このことに起因すると思われる。酸素および窒素プラズマでは、ArO^+、Ar_2^+などアルゴンに起因する分子イオンをアルゴンプラズマに比べてかなり抑制することが可能であった。特に酸素プラズマでは、酸素を用いているにも関わらず窒素プラズマよりもArO^+の抑制の度合いが大きくなった。しかしながら、酸素プラズマでは目的元素の酸化物イオンが、また窒素プラズマではArN^+の信号強度が増大した。
Comparative low-power high-frequency power supply (27.12MHz, 2kW max.) is used for the test of the power supply. After アルゴンプラズマを generates させた, Xu 々にアルゴンから acid element あるいは suffocation element へ replaces を行った. The first part of the ロードコイル and the びマッチングcircuit, the 1.8kW high-frequency electric power, the outerおよびキャリアーガスをアルゴンから acid element もしくは suffocation element へ100% replacement することがpossible であった.しかしながら, 中ガスについては, acid element case is about 60%までReplacement することができたものの, Complete replacement はimpossible であった.これらのOutside およびキャリアーガスをアルゴンから acid element もしくは choke 100% replacement of the original したプラズマをイオンsource として quality analysis を行った.これらのプラズマをUsing the いた occasionの検出lower limitは、イオン化ポテンシャルが6.5eVよりもlow element についてはアルゴンプラズマのoccasion とほぼ same degree もしくは low くなった.しかし、イオン化ポテンシャルが6.5eVを上えるようなelements では検Out of the lower limit が高くなり, その度合いはdetermination element のイオン化ポテンシャルにdepends on する tendencies がみられた.また, acid element プラズマと suffocation element プラズマを comparison した case, multi-くの element で acid element プラズマのsquare が検出下 limit が くなった. High electric power is used for high-temperature testing.とが report されており, acid element プラズマで検出lower limit がlow くなったのは, このことにcause すると思われる. The cause of acid element およびびプラズマでは、ArO^+、Ar_2^+などアルゴンにるmolecules イオンをアルゴンプラズマに than べてかなり inhibits することがpossible であった. Special acid element プラズマでは, acid element をいているにも关わらず suffocation elementプラズマよりもArO^+の suppresses the degree of cooperation and the large きくなった.しかしながら, acid element プラズマではpurpose element の acid compound イオンが, またsuffocation element プラズマではArN^+の Signal strength が Increase large した.
项目成果
期刊论文数量(2)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
Tomokazu TANAKA: "Inductively Coupled Plasma Mass Spectrometry with Low-Power Nitrogen and Oxygen Plasmas" Analytical Sciences. 9. 765-769 (1993)
Tomokazu TANAKA:“低功率氮和氧等离子体的电感耦合等离子体质谱”分析科学。
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