電析法による合金ひげ結歯の成長機構

电沉积法合金胡须齿的生长机理

• 批准号: 04680056
• 负责人: 湯本 久美
• 金额: $ 0.9万
• 依托单位: Tokyo University of Science
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
• 财政年份: 1992
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 1992 至 无数据
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/en/grant/KAKENHI-PROJECT-04680056/
• 关键词: ひげ結晶; 結晶成長; 電析法; Zn-Ni; Co-Ni; 異常共析; メッキ

1.電析法によりZn-Ni合金ひげ結晶が成長した。条件としては、結晶表面をZnO膜が覆うことが必要であった。2.理面上このZnO膜はpH上昇により形成される。そこで、微小アンチモン電極を作製して、電析表面のpH値を測定した結果、電析時間とともにpH2からpH4.5に上昇することが分かった。3.この結晶中のNi含有量は、溶液中の半分程であった。従来異常共析は結晶表面をZn(OH)_2膜が覆っているためNiの電析を阻止するものとされていたが、むしろZnO膜の方がNiの析出阻止が顕著であった。4.不純物制御や電流波形を三角波に変える事により、長さを20μmから120μm程に伸ばすことができた。5.Co-Ni系でも500μm程のひげ結晶が成長したが、ラッパ型の空洞結晶となった。これは、電析物表面で発生する水素ガスの影響によるものであった。

Electroprecipitation method によ Zn-Ni alloy ひげ crystallization が growth た た. The conditions are: と て て, が coating of をZnO film on the crystalline surface う とが とが. It is necessary to であった. 2. On the surface, the <s:1> ZnO film によ pH rises to form される. そ こ で, tiny ア ン チ モ ン electrode を cropping し て, determination of electrode surface の pH numerical を し た results, electrode time と と も に pH2 か ら pH4.5 に rise す る こ と が points か っ た. 3. The amount of <s:1> Ni in <s:1> crystals であった and the <s:1> half fraction in solution であった. を 従 to abnormal eutectoid は crystal surface zinc (OH) _2 film が fu っ て い る た め Ni の electrode を stop す る も の と さ れ て い た が, む し ろ ZnO film の party が Ni の precipitation stop が 顕 the で あ っ た. 4. No impurity suppression や current waveform を triangle wave に - え る matter に よ り, long さ を 20 microns か ら 120 mu m cheng に stretch ば す こ と が で き た. 5.Co-Ni series で ひげ 500μm range <s:1> ひげ crystals が growth <s:1> たが, ラッパ type <s:1> void crystals となった. The で formation of する hydrogens on the surface of the electrochromatate ガス <s:1> affects による <s:1> であった であった であった であった であった であった.