有機金属原料を用いたシンクロトロン放射光励起によるII-VI族化合物半導体の低温成長
使用有机金属原料的同步辐射激发低温生长 II-VI 族化合物半导体
基本信息
- 批准号:06650034
- 负责人:
- 金额:$ 1.34万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
- 财政年份:1994
- 资助国家:日本
- 起止时间:1994 至 无数据
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
実験は,分子科学研究所極端紫外光施設の専用ビームライン(BL4A,白色光)で実施し,結晶成長に対しては自作した装置(成長装置,特殊な差動排気装置,ガス導入システム,排ガス処理装置)を利用し,原料の吸着,分解状態の観察は,既存の表面分析装置を用いて行った。成長実験の場合,原料としてDEZn,DETe,DESeをキャリアガスとしてH_2をそれぞれ使用し,同時供給ガスフロー法と交互供給法の2つの供給方式でGaAs(100)面基板上へのZnTe,ZnSeの成長を実施した。その結果,励起光源としてシンクロトロン放射光(SR光)を用いると,供給法によらず室温でのエピタキシャル成長が可能となること,膜中へのC汚染は殆んど見られないこと等の特有の低温結晶成長が実現できることを実証した。各種成長条件(基板温度,原料供給量,VI/II比,窓材の有無等)と成長速度の関係,成長膜の厚さ分布と光強度分布との関係等を詳しく調べ,表面励起過程が重要であること,高い効率(量子効率0.7%以上,成長効率280〜4300μm/mol)が室温成長において得られること,150nm以上の波長の光は成長に寄与しないこと等を明らかにした。また,交互供給法により,マクロ的に見てもミクロ的に見ても良好な表面状態を有するエピタキシャル膜が室温で実現できること,更に原料供給量に対し成長速度がZnTe単分子層に相当する量で完全に飽和することを見いだしており,励起光源としてSR光を用いることにより室温でのALE成長の可能性を実証した。原料の吸着,分解状態の観察に関しては,今の所,GaAs(100)基板上のDEZn吸着層へのSR光照射効果をXPSで調べたに過ぎない。しかしながら,SR光照射によりDEZnは-150℃においても分解されること,Cは脱離し,表面に殆んど残らないこと等のSR光の有用性がミクロ的なレベルからも少しづつ明らかとなっており,本結晶成長を理解する上で有益な知見が得られている。
In fact, the application of extreme ultraviolet light (BL4A, white light) in the Institute of Molecular Science has been carried out, and the self-operating equipment for crystal growth (growth equipment, special differential exhaust equipment, introduction system, exhaust treatment equipment) has been utilized. The adsorption of raw materials and the observation of decomposition state have been carried out in the existing surface analysis equipment. The growth of ZnTe and ZnSe on GaAs(100) substrates was carried out by two different supply methods, i.e., simultaneous supply method and alternating supply method. As a result, excitation light source and radiation light (SR light) are used in the supply method, and the growth of C in the film is possible at room temperature. Various growth conditions (Substrate temperature, raw material supply amount,VI/II ratio, presence or absence of a dopant, etc.) and growth rate, thickness distribution of the growth film, light intensity distribution, etc.(Quantum efficiency 0.7% or more, growth efficiency 280 ~ 4300μm/mol) For room temperature growth, light with wavelengths above 150nm will grow. In addition, the possibility of ALE growth at room temperature is demonstrated by the amount of raw material supplied, the growth rate, and the amount of ZnTe single molecular layer equivalent to complete saturation. The adsorption and decomposition state of raw materials are closely related to the observation of DEZn adsorption layer on GaAs(100) substrate and the effect of SR light irradiation on XPS. SR Light Irradiation DEZn Disintegrates at-150℃,C Detaches, Surface Residues, etc. SR Light is useful for understanding crystal growth.
项目成果
期刊论文数量(12)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
M.Nishio: "Construction of Depostion System in Beaou Lime BL-4A and Epitaxial Growth of ZuTe by synchrotron radiation" UVSOR Activity Report. UVSOR-21. 17-18 (1994)
M.Nishio:“通过同步辐射在 Beaou Lime BL-4A 中构建沉积系统和 ZuTe 的外延生长”UVSOR 活动报告。
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- 发表时间:
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
- 通讯作者:
M.Ikejiri: "Low temperature of ZuTe by synchrotron radiation using metalorganic sources" J.Vac.Sci.Tech.A12. 278-281 (1994)
M.Ikejiri:“使用金属有机源通过同步加速器辐射实现 ZuTe 的低温”J.Vac.Sci.Tech.A12。
- DOI:
- 发表时间:
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
- 通讯作者:
T.Ogata: "Coustraction of a system for nokel low-tenperaature griuth of II-VI compound semiconductors nsing synchrotron-radiation" Reu.Sci.Instrum. 66. (1995)
T.Ogata:“采用同步辐射的 II-VI 化合物半导体低温低温系统的合成”Reu.Sci.Instrum。
- DOI:
- 发表时间:
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
- 通讯作者:
T.Ogata: "Synchrotron radiation excited grooth of ZuTe using metalorganic sources" J.Cryst.Growth. 146. 587-591 (1995)
T.Ogata:“使用金属有机源同步加速器辐射激发 ZuTe 的生长”J.Cryst.Growth。
- DOI:
- 发表时间:
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
- 通讯作者:
宇理須恒雄: "放射光励起プロセス-現状と今後の課題" 放射光. 8. 2-15 (1995)
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- 发表时间:
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- 影响因子:0
- 作者:
- 通讯作者:
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