课题基金 / 基金详情

Study on SiC Super-Junction Power MOSFETs Utilizing Ion Implantation and Embedded Epitaxial Growth

Study on SiC Super-Junction Power MOSFETs Utilizing Ion Implantation and Embedded Epitaxial Growth
利用离子注入和嵌入式外延生长的SiC超级结功率MOSFET的研究
批准号:
18206032
负责人:
TSUNENOBU Kimoto
金额:
$30.87万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
财政年份:
2006
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2006 至 2008

项目摘要

项目成果

相似基金

相关文献

中文摘要
翻译
次世代の高性能パワーデバイスとして期待されるSiCパワーMOSFETの特性を極限まで向上させるため、多層pn接合の多次元空乏化を利用する超接合構造に着目した。イオン注入や埋め込み成長により形成したpn接合特性の解析、MOS界面特性の向上、高精度デバイスシミュレーションによる構造設計や微細加工技術を集約して、耐圧1580V、オン抵抗40mΩcm2という優れた性能を達成した。この特性はSiデバイスの理論限界より20倍優れている。
英文摘要
次世代の高性能パワーデバイスとして期待されるSiCパワーMOSFETの特性を極限まで向上させるため、多層pn接合の多次元空乏化を利用する超接合構造に着目した。イオン注入や埋め込み成長により形成したpn接合特性の解析、MOS界面特性の向上、高精度デバイスシミュレーションによる構造設計や微細加工技術を集約して、耐圧1580V、オン抵抗40mΩcm2という優れた性能を達成した。この特性はSiデバイスの理論限界より20倍優れている。
期刊论文(25)
专著(0)
科研奖励(0)
会议论文
SiC migration enhanced embedded epitaxial growth technology
SiC迁移增强嵌入式外延生长技术
DOI: --
发表时间: 2006
期刊: Materials Science Forum 527-529
影响因子: --
作者: [S. Miyazaki, M. Ikeda, K. Makihara, K. Shimanoe, R. Matsumoto, T.Kimoto 他, T.Kimoto 他, T.Kimoto 他]
通讯作者: T.Kimoto 他
Dose designing and fabrication of 4H-SiC double RESURF MOSFETs
4H-SiC 双 RESURF MOSFET 的剂量设计和制造
DOI: --
发表时间: 2006
期刊: Proc. 18th Int. Symp. On Power Semiconductor Devices
影响因子: --
作者: [S. Miyazaki, M. Ikeda, K. Makihara, K. Shimanoe, R. Matsumoto, T.Kimoto 他, T.Kimoto 他]
通讯作者: T.Kimoto 他
DOI: --
发表时间: 2008
期刊:
影响因子: --
作者: [G. Alfieri, and T. Kimoto]
通讯作者: and T. Kimoto
DOI: 10.1109/ispsd.2008.4538949
发表时间: 2008-05
期刊: 2008 20th International Symposium on Power Semiconductor Devices and IC's
影响因子: --
作者: [M. Noborio;J. Suda;T. Kimoto]
通讯作者: M. Noborio;J. Suda;T. Kimoto
13
    海外基金