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Development of novel ultrafast electron diffraction

Development of novel ultrafast electron diffraction
新型超快电子衍射的发展
批准号:
20244042
负责人:
ABUKAWA Tadashi
金额:
$8.99万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
财政年份:
2008
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2008 至 2010

项目摘要

项目成果

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中文摘要
翻译
将反射高能电子衍射(一种研究表面结构的技术)和条纹相机(一种研究超快现象的方法)相结合,发展了一种新的时间分辨电子衍射。利用所发展的方法,我们成功地观察到了时间分辨率为1微秒的纳秒脉冲激光照射下的Si(111)7x7表面的结构转变。
英文摘要
A novel time-resolved electron diffraction has been developed by combining a reflection high-energy electron diffraction (a technique for surface structure) and a streak camera (a method for ultrafast phenomena). Using the developed method, we have successfully observed the structural transition of Si(111) 7x7 surface by the irradiation of nano-seconds pulse laser with the temporal resolution of 1 micro-second.
期刊论文(21)
专著(0)
科研奖励(0)
会议论文
DOI: --
发表时间:
期刊:
影响因子: --
作者: []
通讯作者:
ストリーク反射高速電子回折法によるSi表面の観測
采用条纹反射高速电子衍射法观察硅表面
DOI: --
发表时间: 2010
期刊:
影响因子: --
作者: [佐藤和義, 虻川匡司]
通讯作者: 虻川匡司
Characterization of Fe silicide growth on Si(111) surface by Weissenberg RHEED
通过 Weissenberg RHEED 表征 Si(111) 表面硅化铁的生长
DOI: --
发表时间: 2009
期刊: e-Jornal of Surface Science and Nanotechnology Vol.7
影响因子: --
作者: [T.Abukawa, D.Fujisaki, N.Takahashi, S.Sato]
通讯作者: S.Sato
Epitaxial MgO Buffer Layer Growth on Si(001) Surface
Si(001) 表面外延 MgO 缓冲层生长
DOI: --
发表时间: 2008
期刊:
影响因子: --
作者: [Y.Matsuoka, T.Abukawa]
通讯作者: T.Abukawa
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    Structure analysis of a single nano-crystal on the substrate
    • 批准号:
      25600086
    • 项目类别:
      Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
    • 资助金额:
      $2.58万
    • 财政年份:
      2013
    • 负责人:
      ABUKAWA Tadashi
    • 依托单位:
    Development of the measuring system for correlated thermal diffuse scattering using a low energy electron diffraction optics
    • 批准号:
      12354003
    • 项目类别:
      Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
    • 资助金额:
      $18.39万
    • 财政年份:
      2000
    • 负责人:
      ABUKAWA Tadashi
    • 依托单位:
    Study of Surface Structure by means of Correlated Thermal Diffuse Scattering.
    • 批准号:
      11640305
    • 项目类别:
      Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
    • 资助金额:
      $2.3万
    • 财政年份:
      1999
    • 负责人:
      ABUKAWA Tadashi
    • 依托单位:
    海外基金