High-throughput reproduction of high-aspect-ratio nanostructures and development of new optical elements

高纵横比纳米结构的高通量复制和新型光学元件的开发

• 批准号: 21860015
• 负责人: NAGATO Keisuke
• 金额: $ 1.71万
• 依托单位: The University of Tokyo
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Research Activity Start-up
• 财政年份: 2009
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 2009 至 2010
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/en/grant/KAKENHI-PROJECT-21860015/
• 关键词: 射出成形; 高アスペクト比; ナノ構造; 生産技術; 光学素子

In this study, we propose and develope the injection molding system with a short cycle time for high-aspect-ratio nanostructures and replicate the new optical elements such as anti-reflection structure.

在本研究中，我们提出并开发了高纵横比纳米结构的短周期注射成型系统，并复制了新型光学元件，如抗反射结构。

项目成果

Direct synthesis of vertical a-Fe2O3 nanowires from sputtered Fe thin film

溅射铁薄膜直接合成垂直a-Fe2O3纳米线

• 发表时间: 2010
• 作者: K.Nagato;M.Furubayashi;T.Hamaguchi;M.Nakao
• 通讯作者: M.Nakao

熱アシスト射出成形による高アスペクト比ナノ構造の転写

通过热辅助注射成型转移高纵横比纳米结构

• 发表时间: 2010
• 作者: 長藤圭介;服部俊太郎;濱口哲也;中尾政之
• 通讯作者: 中尾政之

Direct synthesis of a-Fe2O3 nanowires from sputtered thin film

溅射薄膜直接合成a-Fe2O3纳米线

• 发表时间: 2010
• 期刊: J. Vac. Sci. Technol. B
• 作者: K.Nagato;M.Furubayashi;T.Hamaguchi;M.Nakao
• 通讯作者: M.Nakao

Rapid injection molding of high-aspect-ratio nanostructures

• DOI: 10.1016/j.mee.2009.11.028
• 发表时间: 2010-05
• 期刊: Microelectronic Engineering
• 影响因子: 2.3
• 作者: S. Hattori;K. Nagato;T. Hamaguchi;M. Nakao

Fabrication of antireflection-structured surface using vertical nanowires as an initial structure

• DOI: 10.1116/1.3467506
• 发表时间: 2010-09-01
• 期刊: JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B
• 影响因子: 1.4
• 作者: Nagato, Keisuke;Moritani, Hiroki;Nakao, Masayuki
• 通讯作者: Nakao, Masayuki