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超高アスペクト比ポリマー構造体へのALDコーティング技術

超高アスペクト比ポリマー構造体へのALDコーティング技術
用于超高纵横比聚合物结构的 ALD 涂层技术
批准号：
23K19176
负责人：
山口 潤
金额：
$1.83万
依托单位：
The University of Tokyo
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Research Activity Start-up
财政年份：
2023
资助国家：
日本
项目状态：
未结题
起止时间：
2023-08-31 至 2025-03-31
来源：
https://kaken.nii.ac.jp/en/grant/KAKENHI-PROJECT-23K19176/
关键词：
ALDAtomic layer deposition原子層堆積

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がれき残渣の有効利用法とその安全性に関する検討
  • 批准号：
    26920012
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for Encouragement of Scientists
  • 资助金额：
    $0.51万
  • 财政年份：
    2014
  • 负责人：
    山口 潤
  • 依托单位：
    Tohoku University
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