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Highly-efficient damage-free manufacturing of functional materials by plasma nanomanufacturing process
利用等离子体纳米制造工艺高效无损伤制造功能材料
基本信息
- 批准号：18H03754
- 负责人：
- 金额：$ 28.62万
- 依托单位：
- 依托单位国家：日本
- 项目类别：Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
- 财政年份：2018
- 资助国家：日本
- 起止时间：2018-04-01 至 2021-03-31
- 项目状态：已结题
- 来源：
- 关键词：
项目摘要
项目成果
期刊论文数量（31）
专著数量（0）
科研奖励数量（0）
会议论文数量（0）
专利数量（0）
ビトリファイドボンド砥石とフッ素系プラズマを用いたドレスフリー研磨法の開発
使用陶瓷结合剂磨石和氟基等离子体的免修整抛光方法的开发
- DOI：
- 发表时间：2021
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：R. Ishikawa;M. Hara;H. Tanaka;M. Kaneko;and T. Kimoto;孫栄硯，陶通，川合健太郎，有馬健太，山村和也
- 通讯作者：孫栄硯，陶通，川合健太郎，有馬健太，山村和也
Novel highly-efficient and dress-free polishing technique with plasma-assisted surface modification and dressing
新型高效免修整抛光技术，采用等离子体辅助表面改性和修整
- DOI：10.1016/j.precisioneng.2021.05.003
- 发表时间：2021
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：Sun Rongyan;Nozoe Atsunori;Nagahashi Junji;Arima Kenta;Kawai Kentaro;Yamamura Kazuya
- 通讯作者：Yamamura Kazuya
プラズマCVMによる多成分材料の高精度加工に関する研究（第3報） －反応焼結SiC材の加工における反応生成堆積物の影響－
利用等离子体CVM进行多组分材料高精度加工的研究（第三次报告） - 反应产物沉积对反应烧结SiC材料加工的影响 -
- DOI：
- 发表时间：2019
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：孫栄硯;川合健太郎;有馬健太;大久保雄司;山村和也
- 通讯作者：山村和也
プラズマナノ製造プロセスによる機能性材料のダメージフリー加工
利用等离子体纳米制造工艺对功能材料进行无损伤加工
- DOI：
- 发表时间：2018
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：佐野亜沙美,伊藤正一,井上徹,野田昌道;山村和也
- 通讯作者：山村和也
プラズマ援用研磨法の開発（第25報）－RS-SiC材のSiC成分とSi成分の酸化レートの評価－
等离子辅助研磨方法的开发（第25次报告） - RS-SiC材料的SiC成分和Si成分的氧化率评价 -
- DOI：
- 发表时间：2022
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：千葉 信孝;横 哲;成 基明;笘居 高明;阿尻 雅文;陶通，孫栄硯，川合健太郎，有馬健太，山村和也
- 通讯作者：陶通，孫栄硯，川合健太郎，有馬健太，山村和也
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Yamamura Kazuya其他文献
ACT-I「情報と未来」への期待
对ACT-I“信息与未来”的期望
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- 发表时间：
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介绍。
- DOI：
- 发表时间：
2016 - 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：
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利用大气压等离子体开发宽禁带半导体衬底高效无损伤精加工技术
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- 资助金额：
$ 28.62万 - 项目类别：
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