Highly efficient slurryless finishing of difficult-to-polish materials by active controlled electrochemical mechanical polishing
Highly efficient slurryless finishing of difficult-to-polish materials by active controlled electrochemical mechanical polishing
通过主动控制电化学机械抛光对难抛光材料进行高效无浆精加工
批准号：
18K18810
负责人：
Yamamura Kazuya
金额：
$4.08万
依托单位：
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Challenging Research (Exploratory)
财政年份：
2018
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2018-06-29 至 2020-03-31
中文摘要
翻译
点击翻译按钮获取中文摘要
英文摘要
期刊论文(17)
专著(0)
科研奖励(0)
会议论文
登录
查看更多内容
Preliminary study on slurryless electrochemical mechanical polishing of sliced 4H-SiC (0001) surface
4H-SiC(0001)切片表面无浆电化学机械抛光初步研究
4H-SiC(0001)切片表面无浆电化学机械抛光初步研究
DOI：
--
发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
--
作者：
[Xu Yang, X. Yang, K. Kawai, K. Arima, K. Yamamura]
通讯作者：
K. Yamamura
固定砥粒を用いた4H-SiC (0001)表面の電気化学機械研磨
使用固定磨粒对 4H-SiC (0001) 表面进行电化学机械抛光
使用固定磨粒对 4H-SiC (0001) 表面进行电化学机械抛光
DOI：
--
发表时间：
2018
期刊：
影响因子：
--
作者：
[楊旭, 川合健太郎, 有馬健太, 山村和也]
通讯作者：
山村和也
DOI：
10.1016/j.electacta.2018.03.184
发表时间：
2018-05-01
期刊：
ELECTROCHIMICA ACTA
影响因子：
6.6
作者：
[Yang, Xu, Sun, Rongyan, Yamamura, Kazuya]
通讯作者：
Yamamura, Kazuya
DOI：
10.1021/acsami.8b19557
发表时间：
2019-01-16
期刊：
ACS APPLIED MATERIALS & INTERFACES
影响因子：
9.5
作者：
[Yang, Xu, Sun, Rongyan, Yamamura, Kazuya]
通讯作者：
Yamamura, Kazuya
DOI：
10.1016/j.elecom.2019.01.012
发表时间：
2019-03-01
期刊：
ELECTROCHEMISTRY COMMUNICATIONS
影响因子：
5.4
作者：
[Yang, Xiaozhe, Yang, Xu, Yamamura, Kazuya]
通讯作者：
Yamamura, Kazuya
共 14 条
Development of slurry-less electrochemical mechanical polishing machine for wide-gap semiconductor substrates applying ultrasonic vibration
-
批准号：21K18677
-
项目类别：Grant-in-Aid for Challenging Research (Exploratory)
-
资助金额：$4.16万
-
财政年份：2021
-
负责人：Yamamura Kazuya
-
依托单位：
Highly-efficient damage-free manufacturing of functional materials by plasma nanomanufacturing process
-
批准号：18H03754
-
项目类别：Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
-
资助金额：$28.62万
-
财政年份：2018
-
负责人：Yamamura Kazuya
-
依托单位：
Development of highly efficient damage-free finishing technique for wide gap semiconductor substrate utilizing atmospheric pressure plasma
-
批准号：25249006
-
项目类别：Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
-
资助金额：$28.54万
-
财政年份：2013
-
负责人：Yamamura Kazuya
-
依托单位：
海外基金