Tuning of electronic property and chemical reactivity of a two-dimensional silicon structure

二维硅结构的​​电子特性和化学反应性的调节

基本信息

  • 批准号:
    26248006
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 27.21万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
  • 财政年份:
    2014
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2014-04-01 至 2017-03-31
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

项目成果

期刊论文数量(82)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
ジョセフステファン研究所(スロベニア)
约瑟夫斯特凡研究所(斯洛文尼亚)
  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
H2 Hindered Rotation and Ortho-Para Conversion on Pd(210)
Pd(210) 上的 H2 受阻旋转和邻位-对位转换
  • DOI:
  • 发表时间:
    2017
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Elvis Flaviano Arguelles;Hideaki Kasai;Wilson Agerico Dino
  • 通讯作者:
    Wilson Agerico Dino
The reactivity of methyl chloride with Si/Cu(410) and Si/Ag(111) superstructures
氯甲烷与Si/Cu(410)和Si/Ag(111)超结构的反应性
  • DOI:
  • 发表时间:
    2017
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    K. Takeyasu;M. Okada
  • 通讯作者:
    M. Okada
放射光XPSによるSi(100)2×1へのCH3Cl吸着反応の研究
同步辐射XPS研究CH3Cl在Si(100)2×1上的吸附反应
  • DOI:
  • 发表时间:
    2016
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    塚田千恵;吉田光; 岡田美智雄;吉越章隆;矢板毅
  • 通讯作者:
    矢板毅
超熱エネルギー酸素分子によるCu3Pd(111)合金表面の酸化過程
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  • DOI:
  • 发表时间:
    2016
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    津田泰孝;岡田美智雄
  • 通讯作者:
    岡田美智雄
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多元素合金を駆使した表面反応場の精密設計と革新的触媒の開発
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  • 批准号:
    23KJ0028
  • 财政年份:
    2023
  • 资助金额:
    $ 27.21万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for JSPS Fellows
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  • 批准号:
    21K14584
  • 财政年份:
    2021
  • 资助金额:
    $ 27.21万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Early-Career Scientists
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