Tuning of electronic property and chemical reactivity of a two-dimensional silicon structure

二维硅结构的​​电子特性和化学反应性的调节

基本信息

  • 批准号：
    26248006
  • 负责人：
    OKADA Michio
  • 金额：
    $ 27.21万
  • 依托单位：
    Osaka University
  • 依托单位国家：
    日本
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
  • 财政年份：
    2014
  • 资助国家：
    日本
  • 起止时间：
    2014-04-01 至 2017-03-31
  • 项目状态：
    已结题

项目摘要

项目成果

期刊论文数量（82）
专著数量（0）
科研奖励数量（0）
会议论文数量（0）
专利数量（0）
ジョセフステファン研究所(スロベニア)
约瑟夫斯特凡研究所（斯洛文尼亚）
  • DOI：
  • 发表时间：
  • 期刊：
  • 影响因子：
    0
  • 作者：
  • 通讯作者：
H2 Hindered Rotation and Ortho-Para Conversion on Pd(210)
Pd(210) 上的 H2 受阻旋转和邻位-对位转换
  • DOI：
  • 发表时间：
    2017
  • 期刊：
  • 影响因子：
    0
  • 作者：
    Elvis Flaviano Arguelles;Hideaki Kasai;Wilson Agerico Dino
  • 通讯作者：
    Wilson Agerico Dino
The reactivity of methyl chloride with Si/Cu(410) and Si/Ag(111) superstructures
氯甲烷与Si/Cu(410)和Si/Ag(111)超结构的反应性
  • DOI：
  • 发表时间：
    2017
  • 期刊：
  • 影响因子：
    0
  • 作者：
    K. Takeyasu;M. Okada
  • 通讯作者：
    M. Okada
放射光XPSによるSi(100)2×1へのCH3Cl吸着反応の研究
同步辐射XPS研究CH3Cl在Si(100)2×1上的吸附反应
  • DOI：
  • 发表时间：
    2016
  • 期刊：
  • 影响因子：
    0
  • 作者：
    塚田千恵;吉田光; 岡田美智雄;吉越章隆;矢板毅
  • 通讯作者：
    矢板毅
超熱エネルギー酸素分子によるCu3Pd(111)合金表面の酸化過程
Cu3Pd(111)合金表面超热能氧分子氧化过程
  • DOI：
  • 发表时间：
    2016
  • 期刊：
  • 影响因子：
    0
  • 作者：
    津田泰孝;岡田美智雄
  • 通讯作者：
    岡田美智雄
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