その場波面制御で自在に操る干渉定在波によるサブμｍ級自由微細構造の大面積露光創成

使用可通过原位波前控制自由操纵的干涉驻波创建亚微米级自由精细结构的大面积曝光

• 批准号: 22H01370
• 负责人: 清水 裕樹
• 金额: $ 11.15万
• 依托单位: Hokkaido University
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
• 财政年份: 2022
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 2022-04-01 至 2025-03-31
• 项目状态: 未结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/en/grant/KAKENHI-PROJECT-22H01370/
• 关键词: 微細構造露光; 干渉定在波; 波面制御; 超精密計測; 生産工学; 加工学

本研究では，サブマイクロメートル級微細パターンのマスクレス露光を実現する波面制御型光干渉リソグラフィ光学系を開発する．非直交型2軸ロイドミラー干渉計光学系に波面制御を融合して，不等ピッチ2軸ドットアレイの高精度創成を実現すること，波面制御型の非直交型2軸ロイドミラー干渉計にデュアル波長レーザ光源を導入し，レジスト透過レーザによる観測干渉定在波をもとに，レジスト吸収レーザで得られる露光干渉定在波をインプロセスで「その場」推定するアルゴリズムを確立し，パターン創成プロセスの効率と精度を向上すること，および露光サブビーム（直接/X/Yビーム）の波面を独立に制御するアルゴリズムを構築し，2軸干渉定在波中の各光スポットの独立制御によるマスクレスでのサブμm級自由パターン露光を実現すること，を目的とする．計画初年度となる令和４年度は，露光干渉定在波と観測干渉定在波，二つの定在波を生成する干渉計光学系を構築するとともに，観測干渉定在波を「その場」観察する光学系を構築した．まず，干渉定在波を生成する非直交型１軸ロイドミラー干渉計を構築した．波長の異なる２つの半導体レーザを光源として採用し，同軸にアライメントした．また，長波長レーザをもとに基板上に生成する観測干渉定在波を「その場」観察する光学系も設計・構築した．基礎特性実験の結果，観測干渉定在波による結像パターンをもとに，短波長レーザで基板上に生成する露光干渉定在波の干渉縞ピッチを推定可能であることを実験的に明らかにした．

This study で は, サ ブ マ イ ク ロ メ ー ト ル level micro パ タ ー ン の マ ス ク レ ス dew light を be presently す る wave suppression type light dry involved リ ソ グ ラ フ ィ を department of light open 発 す る. Non rectangular 2 axis ロ イ ド ミ ラ ー dry involved meter に department of light wave suppression を fusion し て, ranging from ピ ッ チ 2 axis ド ッ ト ア レ イ の high-precision chuang cheng を be presently す る こ と, wave suppression type の non rectangular type 2 axis ロ イ ド ミ ラ ー dry involved meter に デ ュ ア ル wavelength レ ー ザ illuminant を import し, レ ジ ス ト through レ ー ザ に よ る 観 dry involved in measuring wave を も と に, Suction 収 レ ジ ス ト レ ー ザ で have ら れ る dew light dry involved in wave を イ ン プ ロ セ ス で "そ の field" presumption す る ア ル ゴ リ ズ ム を し, パ タ ー ン chuang cheng プ ロ セ ス の unseen と precision を upward す る こ と, お よ び dew light サ ブ ビ ー ム (direct/X/Y ビ ー ム) wave を の independent に suppression す る ア ル ゴ リ ズ ム を し, 2 axis set dry involved in wave の each light ス ポ ッ ト の independent suppression に よ る マ ス ク レ ス で の サ ブ mu m class free パ タ ー ン dew light を be presently す る こ と, を purpose と す る. Plan at the beginning of the annual と な る make annual は and 4, dew light dry involved in wave と 観 dry measurement involved in the wave, the second つ の を on wave generated す る dry involved department of light meter を build す る と と も に, dry 観 test involved in wave を "そ の field" 観 examine す る optics を build し た. Youdaoplaceholder0, dry-determined on the wave を generates する non-orthogonal 1-axis ロ ド ド ラ を dry-calculated を constructs た た. Wavelength の different な る 2 つ の semiconductor レ ー ザ を light と し て USES し, coaxial に ア ラ イ メ ン ト し た. ま た, long wavelength レ ー ザ を も と に substrate に generated す る 観 dry measurement involved in wave を "そ の field" 観 examine す る も department of light design, constructing し た. Basic features be 験 の results, dry 観 test involved in wave に よ る knot like パ タ ー ン を も と に, short wavelength レ ー ザ で substrate に generated す る dew light dry involved in wave の dry involved stripe ピ ッ チ を presumption may で あ る こ と を be 験 に Ming ら か に し た.

项目成果

北海道大学大学院工学研究院 精密計測学・ロボティクス研究室

北海道大学工学研究科精密测量与机器人实验室